专利名称：一种新型抗辐射服装的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及服装领域，尤其是指一种新型抗辐射服装。
背景技术：
人类自从建立文明以来，服装就变得不可或缺，而且随着文明及科技的发展，服装也不断推陈出新 。在现代信息社会中，人们无时无刻不在大量各种电子信息设备的包围中，因此环境中存在各种有害辐射，对人体的损害也变得越来越大，可是现代社会又无法摆脱对这些信息设备的依赖，因此我们需要一种可有效抗辐射的产品来帮助我们保护自身的身体健康。基于上述考量，本实用新型发明人即提出了一种新的服装设计方案。
发明内容本实用新型针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种新型抗辐射服装。为实现上述目的，本实用新型采用如下之技术方案一种新型抗辐射服装，其特征在于包括表面布料层及内衬布层，所述表面布料层与内衬布层之间设置有抗辐射面层，该抗辐射面层中开有透气孔。所述抗辐射面层为薄稀土材料薄层。本实用新型采用上述技术方案后，其有益效果在于整个服装设计，在考虑到抗辐射功能设计情况下，又兼顾到原有服装透气保暖的需要，因此该服装设计方案结构简单，能有效获得抗辐射效果。
图I是本实用新型的剖面示意图。
具体实施方式
以下结合附图与具体实施例来对本实用新型进行详细说明如图I所示为本实用新型的一种新型抗辐射服装，其特征在于包括表面布料层I及内衬布层2，所述表面布料层I与内衬布层2之间设置有抗辐射面层3，该抗辐射面层3中开有透气孔4。所述抗辐射面层3为薄稀土材料薄层。本实用新型的重点在于，整个服装设计，在考虑到抗辐射功能设计情况下，又兼顾到原有服装透气保暖的需要，因此该服装设计方案结构简单，能有效获得抗辐射效果。以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型的技术范围作任何限制，故凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求1.一种新型抗辐射服装，其特征在于包括表面布料层及内衬布层，所述表面布料层与内衬布层之间设置有抗辐射面层，该抗辐射面层中开有透气孔。
2.根据权利要求I所述的一种新型抗辐射服装，其特征在于所述抗辐射面层为薄稀土材料薄层。
专利摘要本实用新型公开一种新型抗辐射服装，其特征在于包括表面布料层及内衬布层，所述表面布料层与内衬布层之间设置有抗辐射面层，该抗辐射面层中开有透气孔。所述抗辐射面层为薄稀土材料薄层。整个服装设计，在考虑到抗辐射功能设计情况下，又兼顾到原有服装透气保暖的需要，因此该服装设计方案结构简单，能有效获得抗辐射效果。
文档编号A41D31/02GK202680554SQ20122025691
公开日2013年1月23日 申请日期2012年6月3日 优先权日2012年6月3日
发明者刘旗, 刘勇 申请人:国辉(中国)有限公司