专利名称：快速假牙成型的方法及假牙的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种假牙成型的方法及假牙，特别是涉及一种快速假牙成型的方法，以及利用该快速假牙成型的方法制造成型的假牙。
背景技术：
一般来说，当人们口腔内的牙齿都已严重受损无法使用而导致全口缺牙的状况时，通常会借由活动式全口假牙予以修复，以恢复其咀嚼、发音及口腔美观。
如图1，一般活动式假牙的制造方法依序包含有基底外型建立步骤11、牙模成型步骤12、试戴步骤13，以及咬合调整步骤14，该基底外型建立步骤11是先利用咬合蜡堤以取得使用者的上颚与下颚间的垂直与水平关系，接着选择适当基底材料以进行基底的印模，最后则进行人工齿的排列，就可得一借雕蜡成型而得的假牙的基底。
该牙模成型步骤12是将该基底送入技工室，依序进行盒埋、去蜡、填塞、聚合、拆盒与磨光等技术，就可得一假牙模型。
该试戴步骤13是将所完成的假牙模型让使用者配戴，并检查该假牙模型的稳定性与固位性、上下颚间的垂直距离、使用者的发音状况及美观与否等。
该咬合调整步骤14是由根据使用者配戴该假牙模型的状况以及所产生的变形或误差，利用重置位的方法进行咬合调整以修正这些误差，始可得一能使该使用者配戴舒适的活动式假牙成品。
如图2，一利用该方法所制成的活动式假牙15，可贴附于使用者口腔的上颚及牙床，该活动式假牙15包含有一可贴靠于使用者上颚的基座16，及一设置于该基座16底部并具有多数颗并列的单齿171的齿列17，该基座16具有一呈半弯月状的基座部161、一自该基座部161的凹缘向外延伸且向上凸起并可贴触使用者上颚的颚片部162，以及一自该基座部161的前端缘向上突伸且可贴触使用者牙床的贴合部163。
但是当使用者配戴该活动式假牙15时，该基座16的颚片部162会贴触使用者上颚，且该贴合部163会贴触使用者牙床，只靠使用者上颚、牙床间的唾液对于该颚片部162与该贴合部163的吸附作用，而将该活动式假牙15定位于使用者口腔中。但是由于一般人的上颚会有一略凸的颚脊，因而影响该颚片部162与上颚的贴合状况，再者，使用者于该活动式假牙15使用一段时间后，使用者的牙床可能萎缩或者牙周变形而与该贴合部163产生空隙，而使得该活动式假牙15的固位效果不佳而容易脱落。
另外，由于该等单齿171是依序地排列入该基座16底部，所以每个单齿171间会有齿缝等间隙，于使用者咀嚼食物时，食物易填塞入，所以需维持该等齿缝的清洁，以免造成不雅的窘况。且随着该活动式假牙15使用日久，导致该等单齿171位移或松动，影响该活动式假牙15的正常功能的发挥。
如图3，为了改善一般活动式假牙15的固位力差的缺点，相关业者便研发出另一磁吸式活动假牙2，是于该磁吸式活动假牙2上嵌置有一磁块21，同时，在使用者的牙床3上于相对于该磁块21的位置上嵌置入另一可与该磁块21相吸的磁块22，所以借由该等磁块21、22间的磁吸力，可增加将该磁吸式活动假牙2与使用者口腔的上颚的固位效果，改善其易脱落的缺点。然而，配戴该种磁吸式活动假牙2，需先于使用者的牙床3植入一磁块21，会使使用者产生相当大的不适感且须耗费较昂贵的制作成本。
所以一付适合使用者配戴的活动式假牙的制作，需经由相当多繁琐且耗时的精细制程，以及因制程误差所造成的反复的调整修正，通常需耗期约2～3周，且使用者为了改善假牙配戴一段时日后所产生的配戴不适的状况，定期回诊予以再修整更是很常见的。
发明内容本发明的目的是在于提供一种快速成型假牙的方法，具有能于短时间完成假牙制作的功效，而本发明的另一目的，是在于提供一种假牙，具有成型时间短，并能紧密贴合于使用者上颚且固位效率佳的功效。
为了达到上述目的，本发明提供一种快速成型假牙的方法，其特征在于该快速成型假牙的方法依序包含有基模成型步骤，是依照人类口腔结构的差异范围，制成多数个能涵盖大部分使用者的口腔结构差异，并有不同牙型及尺寸的基模，而每个基模皆包含一可贴靠口腔上颚的基座，以及一齿列，该基座包括一设有一凹槽的颚片部及一贴合部，该颚片部的前端缘与该贴合部相连接并具有一深沟槽，试戴步骤，在上述步骤的多个基模中，以一个较接近使用者口腔结构且符合使用者偏好的基模，在该基模的颚片部的顶面涂抹上一种快速硬化的软质填补物质，并将该基模往使用者口腔上颚贴靠，并使该填补物质完全地贴触于上颚，届时，再将基模自使用者上颚取下，以及修整步骤，将上述步骤中的自上颚取下的基模静置，待填补物质硬化后，将过量而溢出于基模外围或溢入该深沟槽内的填补物质予以磨除，就可得一能精确地印合于使用者的上颚形状且附着力强的假牙成品。
所述快速成型假牙的方法，其特征在于该试戴步骤中所述的快速硬化的填补物质，可以是一包含有树脂成分且不亲和口腔肌肉的材料。
所述快速成型假牙的方法，其特征在于在试戴步骤中，需反复地检视该填补物质与使用者上颚的接触与密合情形，并适当地填充该填补物质，直至填补物质能完全填补该基模与该上颚间的空隙，于过程中因挤压效应，使得部分的过量的填补物质会溢入该凹槽或深沟槽中，或者是溢出于该基模外围。
所述快速成型假牙的方法，其特征在于在于试戴步骤中，于颚片部涂抹上该填补物质后，可借由一挠性材质制成的吸附盘，将该吸附盘定位于该颚片部的凹槽处，连同该吸附盘而将该基模往使用者上颚贴靠，此时，该吸附盘会贴合使用者的上颚。
所述快速成型假牙的方法，其特征在于该吸附盘上具有多数个孔洞，于该试戴步骤中，该填补物质会因挤压效应而充填入该各孔洞中，在该填补物质硬化后，以加强该吸附盘固着于该颚片部。
本发明还提供一种依照本发明快速成型假牙的方法制造成型的假牙，可紧密地贴附于使用者口腔的上颚及牙床，其特征在于该假牙包含有一可贴靠使用者上颚的基座，包括一呈半弯月状的基座部、一自该基座部的凹缘向外延伸且向上凸起的颚片部，以及一自该基座部的前端缘向上突伸且可贴触牙床的贴合部，该颚片部的中间具有一凹槽，该贴合部与该颚片部的前端缘相连接并具有一深沟槽，一自该基座的一底部向下延伸的齿列，以及一位于该颚片部上且与该上颚形状相符地紧密贴合的模合层。
所述的假牙，其特征在于该齿列是一体成型所制成，并于该齿列的外表面刻画出单齿态样。
所述的假牙，其特征在于该基座与该齿列是一体成型所制成。
所述的假牙，其特征在于该基座与齿列是分别成型后，再予以固着在一起。
所述的假牙，其特征在于该模合层是由能快速硬化且不亲和口腔肌肉的材料所制成。
所述的假牙，其特征在于该假牙还包含一贴附于上颚且定位于该颚片部的凹槽处的吸附盘。
所述的假牙，其特征在于该模合层是包含有树脂成分的物质。
所述的假牙，其特征在于该吸附盘是由挠性物质制成且具有多数个可与该凹槽相连通的孔洞。
综上所述，本发明快速成型假牙的方法，是以一预先制作成型并可符合使用者口腔结构及偏好的基模，借可供使用者上颚的颚脊突伸并为真空状态的凹槽以及可供日后牙床突深入的深沟槽，另外，再借由一可短时间内快速硬化的填补物质，成为一可完整填补使用者上颚与该基模间的空隙，并精确地印合使用者口腔的上颚轮廓的硬质模合层，且具有强附着力的假牙。借由能有效减少假牙制作时间的方法，而于短时间内完成能有效地提高假牙的固位效率达约75％的假牙，所以确实能达到本发明的目的。
下面通过较佳实施例及附图对本发明快速假牙成型的方法及假牙进行详细说明，附图中图1是一般活动式假牙的制造流程图。
图2是该活动式假牙的立体图。
图3是另一磁吸式活动假牙的使用状态示意图。
图4是本发明的一第一较佳实施例的制造流程图。
图5是一立体图，说明该第一较佳实施例所制成的假牙成品的一基模。
图6是图5中的假牙的一使用状态示意图。
图7是一类似于图6的使用状态示意图，说明该假牙的一深沟槽可供使用者的牙床突伸入。
图8是本发明快速成型假牙的方法的一第二较佳实施例的制造流程图。
图9是一立体分解图，说明本发明的一第二较佳实施例所制成的假牙成品的一基模及一吸附盘的相对位置。
图10是图9中假牙的一使用状态示意图。
图11是图9中假牙的一俯视图。
具体实施方式参阅图4、5、6，本发明快速成型假牙的方法的一第一较佳实施例是依序包含有基模成型步骤31、试戴步骤32以及修整步骤33。
该基模成型步骤31是依照人类口腔结构的差异范围，预先制成多数个能涵盖大部分使用者的口腔6结构差异，并有不同单齿421造型及尺寸的基模4。而每个基模4皆包含一可贴靠使用者口腔6的上颚61与牙床63的基座41，以及一自该基座41底部向下突伸且具有多数个并列单齿421的齿列42。该基座41与该齿列42是一体成型所制成。且该齿列42是一体成型，并于该齿列42的外表面刻画出多数个单齿421并列的态样，所以该齿列42并无齿缝等间隙产生。
该基座41包括一呈半弯月形的基座部411、一自该基座部411凹缘向外延伸且往上凸起的颚片部412，及一沿该基座部411的前端缘向上突伸且可贴触牙床63的贴合部414。而该颚片部412的中间具有一凹槽413，且该颚片部412的前端缘与该贴合部414相连接并具有一深沟槽415。
接着，该试戴步骤32是从预先制备的多数个基模4中，以一个最接近使用者口腔6结构且符合使用者偏好的基模4。由于该基模4不一定能完美符合该使用者的口腔6形状或结构，所以，借由一种快速硬化的软质填补物质予以印合修整。所以在该基模4的颚片部412的顶面除了该凹槽413外，涂抹上该快速硬化的软质填补物质，此软质填补物质是一种含有树脂成分且不亲和口腔6肌肉的材料。再将该基模4往使用者的上颚61贴靠，并使该贴合部414可贴触于使用者的牙床63，让该填补物质能尽量地紧密贴触于上颚61。
另外，由于一般使用者的上颚61会有一略凸的颚脊62，所以于贴靠过程中，更须确保该颚脊62能确切地符合于该颚片部412的凹槽413处。此时，借由使用者上颚61、牙床63表面上的唾液对于该颚片部412上的填补物质与该贴合部414的吸附作用，以及因而成为真空状态的凹槽413，可加强该基模4对于使用者上颚61的吸附力。
而于该基模4取下时，需检视该填补物质与使用者的上颚61形状的接触与密合情形。若该填补物质有与该上颚61贴触，则会有受挤压的状态，若该填补物质并未贴触该上颚61，则外观没有变化，表示需适当地填充该填补物质，使填补物质能完全填补该基模4与使用者上颚61间的空隙。于过程中，因该填补物质会同时受到使用者的上颚61与基模4的颚片部412的挤压效应，使得过量的填补物质会溢入该凹槽413以及深沟槽415中，或者是溢出于该基模4的颚片部412外。
最后，该修整步骤33是将自使用者上颚取下的基模4静置约20分钟，待填补物质硬化后，将过量而溢出于基模4外围或溢入该深沟槽415内的填补物质予以磨除，就可得一能精确地印合于使用者的上颚61形状且附着力强的假牙成品。
如图6，由该成型方法所成型出的假牙5，可紧密地吸附于使用者的上颚61与牙床63上，该假牙5除了基模4构造外，该假牙5更包含一由该软质且快速硬化的填补物质于硬化后，而于该颚片部412上且与该上颚61形状相符地紧密贴合的硬质的模合层43，该模合层43是一种含有树脂成分且不亲和口腔6肌肉的材料所制成。
当使用者欲将该假牙5配戴上时，将该假牙5往口腔6贴靠，需使该贴合部414可贴触于使用者的牙床63，更须确保该颚脊62能确切地符合于该颚片部412的凹槽413的位置，并予以适当移动假牙5而使该颚片部412上的模合层43能完全形状相符地贴合于口腔6的上颚61。此时，借由使用者上颚61、牙床63表面上的唾液对于该模合层43及该贴合部414的吸附作用，以及该真空状态的凹槽413，所以可有效地加强该假牙5对于使用者上颚61的吸附力。再者，由于该齿列42并无齿缝等间隙，所以使用者利用该假牙5于咀嚼食物时，不会造成食物填塞于齿缝中等窘况，且该齿列42不易变形，所以不影响假牙5正常功能的发挥。
如图7，随着使用者配戴该假牙5约7至10天后，由于使用者于咀嚼食物时，持续的咬合动作会施予该牙床63相当大的咬合压力，而使得使用者的牙床63因受压而日渐往该颚片部412与该贴合部414间的深沟槽415突深入，而逐渐完全符合于该深沟槽415的形状。因而，该假牙5能更牢固地贴附于使用者上颚61，使该假牙5的固位力达约4公斤，相较于活动式假牙的固位力只达0.5～1公斤，可有效地提高该假牙5对于使用者口腔6的固位效率达约75％。
如图8、9、10、11，本发明快速成型假牙的方法的一第二较佳实施例是依序包含有基模成型步骤71、试戴步骤72以及修整步骤73。该基模成型步骤71、该试戴步骤72及该修整步骤73的说明皆与第一较佳实施例相同，恕在此不再详述。唯一不同在于该基模成型步骤71中，该基座81与该齿列82是依据能涵盖大部分使用者口腔差异范围而分别成型。
如图11，而每个基座81可搭配数个不同单齿821造型及尺寸的齿列82。另外，每个齿列82是由挠性材质所制成，可于一弯折范围内予以适当地变化其尺寸以配合该基座81。从预先制备的多数个基座81与齿列82中，分别以一最接近使用者口腔9结构且符合使用者偏好的基座81与齿列82，将两者适当调整并固接在一起，就可成为该基模8。
接着，该试戴步骤72是在该基模8的颚片部812的顶面涂抹上一种快速硬化的软质填补物质后，并将一由挠性物质制成且具有数个孔洞831的吸附盘83定位于该凹槽813处，然后再将该基模8往使用者的上颚91贴靠。而该吸附盘83会陷于该凹槽813中，并且贴附于使用者的上颚91形状，另外，须确保该颚脊92能确切地符合于该吸附盘83处。此时，借由使用者上颚91、牙床93表面上的唾液对于该颚片部812上的填补物质、该吸附盘83与该贴合部814的吸附作用，以及该呈真空状态的凹槽813可强力吸附该吸附盘83，而使该吸附盘83稳固地定位于该凹槽813处，所以可有效地加强该基模8对于使用者上颚91的吸附力。
于过程中，因该填补物质会同时受到使用者的上颚91与基模8的颚片部812的挤压效应，使得过量的填补物质会溢入该吸附盘83的孔洞831、该凹槽813，以及深沟槽815中，或者是溢出于该基模8的颚片部812外。
如图9、10，由该成型方法所成型出的假牙10，可紧密地吸附于使用者的上颚91与牙床93上，该假牙10的构造与作用皆与该第一实施例的假牙5相同，恕在此不再详述。唯一不同处在于，该假牙10更包含一贴附于上颚91且定位于该颚片部812的凹槽813处的吸附盘83，且该吸附盘83是由挠性材质制成，并具有多数个可与该凹槽813相连通的孔洞831，以供该模合层84填塞入。借由该等填塞有模合层84的孔洞831可使该吸附盘83稳固地固着于该颚片部812。
当使用者欲将该假牙10配戴上时，将该假牙10往口腔9贴靠，需使该贴合部814可贴触于使用者的牙床93，并予以适当移动假牙10，确保该颚脊92能确切地符合于该吸附盘83的位置，以及使该颚片部812上的模合层84能完全形状相符地贴合于口腔9的上颚91。此时，借由使用者上颚91、牙床93表面上的唾液对于该模合层84、该吸附盘83及该贴合部814的吸附作用，以及该真空状态且强力吸附该吸附盘83定位的凹槽813，可加强该假牙10对于使用者上颚91的吸附力，而更有效地提高该假牙10对于使用者口腔9的固位效率。
所以本发明快速成型假牙的方法，是以一预先制作成型并可符合使用者口腔结构及偏好的基模，借可供使用者上颚的颚脊突伸并为真空状态的凹槽以及可供日后牙床突深入的深沟槽，另外，再借由一可短时间内快速硬化的填补物质，成为一可完整填补使用者上颚与该基模间的空隙，并精确地印合使用者口腔的上颚轮廓的硬质模合层，且具有强附着力的假牙。借由能有效减少假牙制作时间的方法，而于短时间内完成能有效地提高假牙的固位效率达约75％的假牙，所以确实能达到发明的目的。
权利要求
1.一种快速成型假牙的方法，其特征在于该快速成型假牙的方法依序包含有以下步骤(1)基模成型步骤，是依照人类口腔结构的差异范围，制成多数个能涵盖大部分使用者的口腔结构差异，并有不同牙型及尺寸的基模，而每个基模皆包含一可贴靠口腔上颚的基座，以及一齿列，该基座包括一设有一凹槽的颚片部及一贴合部，该颚片部的前端缘与该贴合部相连接并具有一深沟槽；(2)试戴步骤，在上述步骤的多个基模中，以一个较接近使用者口腔结构且符合使用者偏好的基模，在该基模的颚片部的顶面涂抹上一种快速硬化的软质填补物质，并将该基模往使用者口腔上颚贴靠，并使该填补物质完全地贴触于上颚，再将基模自使用者上颚取下；以及(3)修整步骤，将上述步骤中的自上颚取下的基模静置，待填补物质硬化后，将过量而溢出于基模外围或溢入该深沟槽内的填补物质予以磨除，就可得一能精确地印合于使用者的上颚形状且附着力强的假牙成品。
2.如权利要求1所述快速成型假牙的方法，其特征在于该试戴步骤(2)中所述的快速硬化的填补物质，是包含有树脂成分且不亲和口腔肌肉的材料。
3.如权利要求1所述快速成型假牙的方法，其特征在于在试戴步骤(2)中，需反复地检视该填补物质与使用者上颚的接触与密合情形，并适当地填充该填补物质，直至填补物质能完全填补该基模与该上颚间的空隙，于过程中因挤压效应，使得部分的过量的填补物质会溢入该凹槽或深沟槽中，或者是溢出于该基模外围。
4.如权利要求1所述快速成型假牙的方法，其特征在于在试戴步骤(2)中，于颚片部涂抹上该填补物质后，借由一挠性材质制成的吸附盘，将该吸附盘定位于该颚片部的凹槽处，连同该吸附盘而将该基模往使用者上颚贴靠，此时，该吸附盘会贴合使用者的上颚。
5.如权利要求4所述快速成型假牙的方法，其特征在于该吸附盘上具有多数个孔洞，于该试戴步骤(2)中，该填补物质会因挤压效应而充填入该各孔洞中，在该填补物质硬化后，以加强该吸附盘固着于该颚片部。
6.一种假牙，其特征在于该假牙包含有一贴靠使用者上颚的基座，包括一呈半弯月状的基座部、一自该基座部的凹缘向外延伸且向上凸起的颚片部，以及一自该基座部的前端缘向上突伸且可贴触牙床的贴合部，该颚片部的中间具有一凹槽，该贴合部与该颚片部的前端缘相连接并具有一深沟槽，一自该基座的一底部向下延伸的齿列，以及一位于该颚片部上且与该上颚形状相符地紧密贴合的模合层。
7.如权利要求6所述的假牙，其特征在于该齿列是一体成型所制成，并于该齿列的外表面刻画出单齿态样。
8.如权利要求6所述的假牙，其特征在于该基座与该齿列是一体成型所制成。
9.如权利要求6所述的假牙，其特征在于该基座与齿列是分别成型后，再予以固着在一起。
10.如权利要求6所述的假牙，其特征在于该模合层是由能快速硬化且不亲和口腔肌肉的材料所制成。
11.如权利要求6所述的假牙，其特征在于该假牙还包含一贴附于上颚且定位于该颚片部的凹槽处的吸附盘。
12.如权利要求10所述的假牙，其特征在于该模合层是包含有树脂成分的物质。
13.如权利要求11所述的假牙，其特征在于该吸附盘是由挠性物质制成且具有多数个与该凹槽相连通的孔洞。
全文摘要
一种快速假牙成型的方法及假牙，该快速成型假牙的方法依序包含有基模成型步骤，是依照人类口腔结构制成多数个能涵盖大部分使用者的口腔结构差异，并有不同牙型及尺寸的基模，试戴步骤，在一个较接近使用者口腔结构的基模的颚片部的顶面涂抹上一种快速硬化的软质填补物质，并将该基模往使用者口腔上颚贴靠，并使该填补物质完全地贴触于上颚，届时，再将基模自使用者上颚取下，修整步骤，将该基模静置，待填补物质硬化后，将过量而溢出于基模外围或溢入该深沟槽内的填补物质予以磨除，就可得一能精确地印合于使用者的上颚形状且附着力强的假牙成品。本发明能有效减少假牙制作时间，能有效地提高假牙的固位效率。
文档编号A61C13/08GK1511501SQ0215170
公开日2004年7月14日 申请日期2002年12月31日 优先权日2002年12月31日
发明者方正国 申请人:方正国, 林国瑞