肌肤处理装置以及程序的制作方法

本公开涉及肌肤处理装置以及程序。

背景技术：

1、在具备低频电极对和高频电极对的肌肤处理装置中，已知有如下技术：低频电极对重复施加低频电压的发送时间和未施加电压的休止时间，高频电极对仅在低频电极对的休止时间施加高频电压。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2012－65693号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、然而，在上述的现有技术中，难以以有效地提高美容效果的方式适当地组合连续地实现多种输出模式。

3、因此，本公开的目的在于，以有效地提高美容效果的方式适当地组合连续地实现多种输出模式。

4、用于解决课题的方案

5、在一个方案中，公开了一种肌肤处理装置，具备：

6、多个电极，其能够与用户的肌肤抵接；

7、电源，其与上述多个电极电连接；以及

8、控制装置，其以输出波形的特性相互不同的多种输出模式实现经由上述多个电极的输出，

9、上述多种输出模式包括第一输出模式以及第二输出模式，

10、上述控制装置进行包括间歇地而且周期性地重复上述第一输出模式以及上述第二输出模式的连续切换处理。

11、发明的效果

12、根据本公开，能够以有效地提高美容效果的方式适当地组合连续地实现多种输出模式。

13、图面说明

14、图1是表示本实施例的肌肤处理装置的外观的立体图。

15、图2是图1的肌肤处理装置的两面图。

16、图3是电极配置的各种参数的说明图。

17、图4是一例的控制系统的概略的结构图。

18、图5是说明由图4的控制装置实现的功能的框图。

19、图6是存储于参数存储部内的各种参数的设定值的说明图。

20、图7是动作模式a1的一例的说明图。

21、图8是动作模式a1的另一例的说明图。

22、图8a是动作模式a1的另一例的说明图。

23、图8b是动作模式a1的另一例的说明图。

24、图9是动作模式a1的另一例的说明图。

25、图9a是动作模式a1的另一例的说明图。

26、图10是动作模式a1的另一例的说明图。

27、图11是动作模式a1的另一例的说明图。

28、图12是动作模式a1的另一例的说明图。

29、图13是动作模式a1的另一例的说明图。

30、图14是动作模式a0的另一例的说明图。

31、图15是表示浸润模式m1的输出波形的优选例的图。

32、图15a是表示浸润模式m1的输出波形的另一例的图。

33、图15b是表示浸润模式m1的输出波形的另一其它例的图。

34、图15c是表示浸润模式m1的输出波形的另一其它例的图。

35、图15d是图15c的q6部的放大图。

36、图16是表示离子导入模式m2的输出波形的优选例的图。

37、图17是表示离子导入模式m2的输出波形的其它优选例的图。

38、图18是表示离子导入模式m2的输出波形的其它优选例的图。

39、图19是表示高频模式m3的输出波形的优选例的图。

40、图20是比较各种输出波形的有效成分的浸透效果的图。

41、图21是与图15所示那样的浸润模式m1的输出波形的频率的不同对应的效果的不同的说明图。

42、图22是与图15所示那样的浸润模式m1的输出波形的电流值的不同对应的效果的不同的说明图。

43、图23是与图15所示那样的浸润模式m1的输出波形的使用时间的不同对应的效果的不同的说明图。

技术特征：

1.一种肌肤处理装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的肌肤处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的肌肤处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的肌肤处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的肌肤处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的肌肤处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求1至6中任一项所述的肌肤处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的肌肤处理装置，其特征在于，

9.根据权利要求1至8中任一项所述的肌肤处理装置，其特征在于，

10.根据权利要求7所述的肌肤处理装置，其特征在于，

11.根据权利要求8所述的肌肤处理装置，其特征在于，

12.根据权利要求1至11中任一项所述的肌肤处理装置，其特征在于，

13.一种程序，对具有能够与用户的肌肤抵接的多个电极的肌肤处理装置进行控制，其特征在于，

技术总结
本发明公开了一种肌肤处理装置，具备：多个电极，其能够与用户的肌肤抵接；电源，其与多个电极电连接；以及控制装置，其以输出波形的特性相互不同的多种输出模式实现经由多个电极的输出，多种输出模式包括第一输出模式以及第二输出模式，控制装置进行包括间歇地而且周期性地重复第一输出模式以及第二输出模式的连续切换处理。

技术研发人员：东平正志
受保护的技术使用者：雅萌股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/6/2