本发明涉及皮肤防晒,特别是一种木质素@天冬氨酸复合纳米晶及其制备方法和应用。
背景技术:
1、太阳辐射的紫外线可分为长波紫外线(400-320nm)、中波紫外线(320-280nm)及短波紫外线(280-200nm)三个波段。uva可诱导机体衰老、免疫抑制及皮肤肿瘤发生。uvb可通过上调环丁烷嘧啶二聚体(cpds)在uvb照射后引起细胞dna损伤,进而诱发非黑素瘤皮肤癌。目前市面上的紫外线防晒剂,可分为无机防晒剂和有机防晒剂两大类。无机防晒剂主要有二氧化钛、氧化锌等,它们能反射、散射紫外线,发挥物理防护功能,但易阻塞毛孔,影响皮脂腺和汗腺的正常分泌。有机防晒剂,如水杨酸盐类、肉桂酸盐等,对紫外线有很好的吸收效果,可将吸收到的紫外线能量转化为热能。有机防晒剂存在的安全隐患更多一些,比如刺激皮肤、导致皮肤过敏等,这些有机分子可渗入皮肤,诱发皮肤并发症。
2、木质素在植物体中具有防紫外线辐射作用,木质素含有大量的苯环和酮类共轭结构,因此具有较强的抗紫外能力,可以应用于防晒产品。木质素含有大量的酚羟基,这使得木质素具有抗氧化性,可以延缓皮肤衰老过程。木质素作为防晒剂,本身的抗紫外效果不尽如人意,因此需对木质素进行改性。将木质素改性或者与有机防晒剂协同作用,防护能力大幅提升,这会导致潜在的危险,防晒剂光降解产物渗透到皮肤中,诱发皮肤并发症,且木质素的紫外吸收主要在uvb段。
3、天冬氨酸作为氨基酸,是构成皮肤天然保湿因子(nmf)的重要组成部分之一,能够帮助皮肤保持水分,增强皮肤的保湿能力,使肌肤柔软光滑,且可以调节神经细胞,作为皮肤调理剂。
4、如果能将木质素原位包埋到天冬氨酸晶体中,一定程度上解决皮肤毒性问题,同时通过物理化学混合防晒提高防晒效果。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本发明提供了一种木质素@天冬氨酸复合纳米晶及其制备方法和应用。
2、为达到上述目的,本发明是按照以下技术方案实施的:
3、本发明的目的之一是提供一种木质素@天冬氨酸复合纳米晶的制备方法,包括以下步骤:
4、s1、取10-600mg木质素与25-1500mg天冬氨酸加入到4-300ml溶剂中,搅拌,快速升温90℃,并冷凝回流,恒温2h至木质素与天冬氨酸完全溶解;
5、s2、降温至30℃并保温30min,再快速升温至90℃,然后再降温至30℃并保温30min,如此循环3-5次,待长出晶体后,冷却至室温,离心得到沉淀,用蒸馏水洗涤多次,得到木质素@天冬氨酸复合纳米晶。
6、进一步地,所述步骤s1中,溶剂由1-100ml的乙醇或甲醇溶于4-200ml的蒸馏水中配制而成。
7、进一步地,所述步骤s1中,降温的速度为每10min降温5℃。
8、本发明的目的之二是提供一种利用上述方法制备的木质素@天冬氨酸复合纳米晶。
9、本发明的目的之三是提供一种木质素@天冬氨酸复合纳米晶在制备皮肤防晒剂中的应用。
10、与现有技术相比,本发明通过原位包埋方法将木质素负载到天冬氨酸纳米晶体内,制备出木质素@天冬氨酸复合纳米晶,该木质素@天冬氨酸复合纳米晶能够起到有效化学和物理防晒作用,同时具有抗氧化及防止皮肤损伤作用的天然防晒剂。
1.一种木质素@天冬氨酸复合纳米晶的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的木质素@天冬氨酸复合纳米晶的制备方法,其特征在于,所述步骤s1中,溶剂由1-100ml的乙醇或甲醇溶于4-200ml的蒸馏水中配制而成。
3.根据权利要求1所述的木质素@天冬氨酸复合纳米晶的制备方法,其特征在于,所述步骤s1中,降温的速度为每10min降温5℃。
4.一种如权利要求1-3任一所述的方法制备的木质素@天冬氨酸复合纳米晶。
5.一种如权利要求4所述的木质素@天冬氨酸复合纳米晶在制备皮肤防晒剂中的应用。