专利名称：用液体二氧化碳和紫外线辐射灭菌的制作方法
技术领域：
本发明涉及将材料清洗、消毒和灭菌的方法，更特别地，涉及联合采用密相气体、紫外线辐射及杀菌剂(如H2O2)对材料(如织物和医用器具)进行清洗、消毒和灭菌的方法。
(A)医用和牙科仪器在卫生领域，进入血流或灭菌组织的医用及牙科仪器在每次使用前应作灭菌处理。灭菌意指采用物理或化学过程破坏所有的微生物生命和内生孢子。当前，主要的医用灭菌方法有(a)通过蒸汽高压灭菌来湿热灭菌，(b)干热灭菌及(c)环氧乙烷气体灭菌。然而，许多医用装置和器具不能够受热，这是由于受热导致装置或器具的损坏。
由于多种化学杀菌剂(灭菌剂)促进高水平的消毒(基本上杀灭病原微生物，但不能杀灭所有微生物形式如细菌内生孢子)，它们已用于处理可重复使用的热敏性医用装置。消毒分为三个水平(1)高(采用由EPA注册为灭菌剂的化学杀菌剂杀死除高等细菌孢子以外的所有有机体)，(2)中(采用由EPA注册为“tuberculoside”的化学杀菌剂杀死分枝菌、细菌及大多数病毒)及(3)低(采用由EPA注册为医用消毒剂的化学杀菌剂杀死部分病毒和细菌)。
一般地，通常可通过采用洗涤剂洗涤或采用低级杀菌剂对只与皮肤接触的物品如衣物、头板、血压环带及其它医用附件进行处理。
对于所有情形，主要的化学灭菌或消毒技术涉及采用12/88％环氧乙烷(ETO)/氢氯氟碳(hydrochlorofluorocarbon，HCFC)混合物、过氧化氢(H2O2)等离子体、过乙酸(C2H2O3)/H2O2等离子体及气态H2O2。新近，10/90％ ETO/CO2气体混合物已得到应用，其中CO2是比12/88％ ETO/HCFC混合物中的HCFC对活性灭菌组分更为环境“友好”的稀释剂(diluant)。
所引用的最有效的灭菌技术为12/88％ ETO/HCFC和10/90％ ETO/CO2，这是由于它们在正的操作压力下(分别为10至12psig和50至80psig)实施。其它已知的方法在低于一大气压下操作。对12/88％ ETO/HFCF而言，相对于问题阈值(challenge barriers)的正压灭菌效果在表面上为97％，但在腔内仅为44％。引用的其它在低于一大气压下操作的技术要更低，在表面上在32至78％之间，腔内在6至35％之间。见MacNeal等，“Comparison of Health Care-Based Sterilization TechnologiesSafety，Efficacy，and Economics”，Journal of Healthcare Safety，Compliance & Infection Control，Vol.1，No.2(Dec.1997)。沿着板，对难于接近的表面如腔体表面所引用的显著较低的灭菌效果，是由于在灭菌前难于清洁腔内的生物碎片或者由于在这些腔内具有内在较高水平的生物负荷。尽管在现有系统中正压不能确保腔内的高水平“杀灭作用”，但这更有利于克服腔内、或大生物负荷或大生物量的表面对灭菌剂的渗透阻力。
此外，化学灭菌剂是高毒性的，并且即使在灭菌器内或在灭菌表面上的低残留量也会对操作人员或患者有刺激性。
总而言之，对用于医用和牙科装置的化学灭菌作用，当前的问题大多数与下列因素有关对于降低生物负荷所要求的严格预清洁而言难于接近表面例如腔表面、在整个灭菌期间将足够水平的活性灭菌剂向这些“问题”表面的输送、向这些表面快速输送灭菌剂以缩短循环时间的能力、以及随后使残余灭菌组分失活或有效分离以使操作人员或患者的危险最小的能力。
(B)衣物在商业衣物清洗/干洗领域，来自多个顾客的衣物通常在同一机器清洗循环内一起处理，这就有某些形式的病原体通过衣物交叉污染而传播的危险。传统衣物干洗中所采用的流体不具消毒性，并且在商业干洗领域对消毒性没有要求。
对商业衣物清洗/干洗的要求是在清洗周期(一般少于10分钟)的短时搅拌步骤内，在不导致织物自身降解且不产生有毒废物的情况下，实现对病原体的破坏。
(C)密相二氧化碳；UV辐射密相二氧化碳是便宜的和实际上无限的自然资源，它无毒、不可燃烧且不产生烟雾。密相二氧化碳可被压缩到超临界或次临界状态而达到与液体相似的密度，常被简单地称为“液体二氧化碳”。液体二氧化碳表现出典型的烃类溶剂的溶剂化性能。它的性能通常使之成为良好的与有机溶剂相似的清洗剂，确切地说，是适用于织物和衣物的良好干洗剂。
授予Chao等、转让给Hughes Aircraft Company的美国专利No.5,316,591提出通过在液化气体内空化进行部件清洗。授予Chao等、转让给Hughes Aircraft Company的美国专利No.5,370,740提出通过在液体二氧化碳内进行声处理使有机材料化学分解。授予Jackson等、转让给Hughes Aircraft Company的美国专利No.5,013,366提出采用或不采用UV、声处理及化学氧化剂的情况下利用密相二氧化碳相转变的部件清洗方法。授予Jackson、转让给Hughes Aircraft Company的美国专利No.5,236,602提出采用UV、在有或无化学氧化剂下通过化学方法将有毒材料转变为无毒组分的用于液体被作用物处理的密相流体光化学方法。授予Jackson、转让给Hughes Aircraft Company的美国专利Nos.5,068,040和5,215,592提出采用UV、在有或无化学氧化剂下用于固体被作用物处理的密流体光化学方法。授予Jackson等的美国专利No.5,213,619提出采用高能(声辐射或不均匀静电场)密流体对材料进行清洗、灭菌及移植的方法。
尽管以上各专利总体上提出了在密相二氧化碳内的清洗，确切地说，提出了借助UV、有或无化学氧化剂下的有机化学破坏作用，但未提及在密相二氧化碳中采用UV辐射、在有或无化学氧化剂下的消毒或灭菌。此外，尽管美国专利No.5,213,619提出了采用由非均匀静电场和大功率声辐射提供能量的密流体对材料进行清洗、灭菌和移植的方法，但这需要昂贵的灭菌设备，而更重要的是，从被作用物上脱除污物并不有效。
将密相二氧化碳作为衣物干洗应用中的合适溶剂的原始专利有Maffei的美国专利No.4,012,194。其它专利如授予Dewees、公开转让给The Clorox Company的美国专利No.5,267,455以及授予Chao等、转让给Hughes Aircraft Company的美国专利No.5,467,492也将液体二氧化碳作为合适的衣物干洗剂。这些专利也未提出在密相二氧化碳中的衣物消毒。
UV线已被证实在广泛的应用领域，包括对固体表面、液体、空气的消毒及光化学过程方面有益。采用UV线消毒的优势在于如下事实，即它不需用有害化学品就能控制病原体。例如，UV的杀菌能力已经用于提纯水。在180和300nm之间的UV能量破坏微生物的DNA链并阻止细胞复制。不能复制的微生物将死亡。微生物特别易于被波长为或接近253-254nm的光的效果破坏，这是由于该波长与分子结构共振。这种共振使有机分子键断裂，这反过来转变为微生物的细胞或基因缺陷。
光化学破坏作用的一个主要缺点是目标区域必须处于辐射范围内，以便进行灭菌并由此目标区域自身除了较清洁并直接受辐射的目标之外全都无效。添加暴露于UV辐射下时能够容易地被光致解离为更活泼物质的氧化物质可提高UV灭菌的效果，但这并未解决清洗难接近的空穴和孔(如腔的空穴和孔)的问题，或将灭菌剂有效地输送到这些孔内的问题。
希望提供单步骤密气体清洗方法，该方法除清洗被作用物外，也采用简单、快速、经济且低毒的技术实现对被作用物的消毒和灭菌。本发明满足这些需要。
在此，提供一种新的和改进的对被作用物进行清洗、消毒和灭菌的方法，该方法基本上具有上述系统的所有优点，与此同时克服它们的大多数显著的缺陷。更确切地，根据本发明，提供了从预定被作用物脱除污染物的方法，目标污染物包括污物以及微生物。该方法包括以下步骤(a)将被污染的被作用物放置在清洗容器内；(b)将被污染的被作用物与液体二氧化碳接触；(c)对被作用物和液体二氧化碳进行一段时间和一定强度的紫外线辐射，辐射波长范围在约180～300nm，所述时间和强度足以产生能够使微生物内的有机分子键断裂的光化学反应，由此破坏它们的DNA并形成片断化生物污染物；
(d)基本上同时对被作用物和液体二氧化碳进行搅拌；以及(e)从清洗和消毒容器脱除液体二氧化碳并由此将包括片断化生物污染物在内的污染物从被作用物输送走，以便将被作用物清洗、消毒和/或灭菌。
由此，根据本发明，待清洗的被作用物在一个工艺容器内暴露于液体二氧化碳(密相二氧化碳)及紫外线(UV)辐射并经受搅拌，以便获得无污物的清洁表面和基本上无微生物的经过消毒的表面。照这样，可以采用对环境友好但依然高效和有效率的方式便宜地对被作用物进行清洗、消毒、甚至灭菌。
特别地，在一实施方案中，本发明涉及这样一种方法，它采用UV线、在有或无灭菌剂(例如但不限于H2O2)存在下，对在采用高速射流作为机械搅拌手段的液体二氧化碳衣物干洗方法中处理的商业衣物进行消毒或清洁。
进一步，在另一实施方案中，本发明涉及这样一种方法，它在由声振腔或空化叶片(sonic whistles or cavitational blades)的空化剪切和对流所产生的强烈搅拌下采用密相二氧化碳、并结合UV光和例如但不限于H2O2的化学氧化剂，以便实现表面的预清洗、灭菌及其后的在医用或牙科装置的清洗和灭菌的单步过程中的残余灭菌剂的分解。确切地，该实施方案强调用于从表面脱除污物并将污物从表面带走的空化作用，灭菌剂被输送到不直接暴露于UV的那些表面。
参考以下的详细描述并结合附图将更好地理解本发明，本发明的这些和其它的特征和相关的优势将更明确。
图1表示实施本发明优选例举方法的系统的示意图，其中，衣物可通过采用密相二氧化碳和UV辐射处理进行干洗和消毒；及图2表示实施本发明优选例举方法的系统的示意图，其中，医用和/或牙科仪器可通过采用密相二氧化碳和UV辐射处理进行清洗和灭菌。
本发明涉及一种新的和改进的对被作用物进行清洗、消毒和灭菌的方法。本方法实质上采用紫外线辐射与灭菌剂(例如但不限于H2O2)联用来破坏被作用物上的病原体以及裂解有机污物内的有机键，并采用液态密相气体将病原体、有机碎片以及其它无机污物从被作用物上带走。与UV辐射和H2O2结合采用强烈搅拌以增强本方法的效果。强烈搅拌、UV辐射和灭菌剂的组合对从“问题”表面脱除污物以及向这些表面快速输送灭菌剂来说是必不可少的。此处采用的术语“问题表面”意指对流体、UV辐射及搅拌来说较难接近的表面。由此，本发明代表两种已知技术的一种新的、非显而易见性的组合，以经济、有效和对环境友好的方式对被作用物进行清洗、消毒和灭菌。
本发明所采用的密相流体包括可在不会降低被清洗的被作用物的物理或化学性能的温度和压力下，被转化为超临界流体或液化流体的二氧化碳。
密相二氧化碳与打算用来清洗的所有被作用物相容并且费用低、卫生和安全系数高。此外，密相二氧化碳不可燃烧并对环境友好。而且，密相二氧化碳在暴露于本方法所选用的辐射中时不分解，或如果它确实分解的话，它形成本方法中有用和期望的产物。
二氧化碳是易于液化的自然资源。一旦液化，它在较低的压力(约600到1,040psi或约42.2到73.1kg/cm2)和温和的温度(约10°-30℃)下是良好的低粘度介质。这些值比二氧化碳的临界压力1,071psi(75.3kg/cm2)和临界温度32℃要低。高于临界温度、接近或高于临界压力的密(或压缩)气相通常被称为“超临界流体”。
选择实施本方法所采用的辐射使不期望有的材料或污染物产生分解，更确切地说，使污物和生物污染物内的有机键分解。优选的辐射包括范围在约180-300nm、破坏微生物的DNA链并阻止细胞复制的紫外(UV)辐射。特别地，已知微生物独特地易于被波长为或接近253-254nm的光的效果破坏，这是由于该波长与分子结构共振并导致暴露时发生的分子键破裂。紫外线辐射可以任何市售方式(如汞弧灯或氙闪光灯)产生。这些灯的操作可以是连续式的或高能短脉冲式的，只要高能短脉冲式适于使污染物键破裂即可。
已注意到，除破坏病原体外，辐射也可改变密相流体的分子结构和性能以便增强其清洗能力，如Jackson所认识的(见上述的美国专利Nos.5,068,040和5,236,602)。密相流体暴露于UV辐射时增强的清洗能力源于所认为的光激发所致的密相流体的极性。
有多种技术提高紫外线辐射使有机物分子键光解离的效能。一种技术涉及通过在容器内表面设置辐射—反射衬里来提高容器的内部反射。通过引入附加的内部反射使辐射在整个清洗容器内发散，使被作用物表面更多地暴露于辐射中。就有效表面清洁而言，该现象降低了被作用物对距辐射源的距离的依赖性。
更确切地，加入氧化性灭菌剂(例如，在UV辐射时将分解为更活泼自由基的H2O2)，伴有强烈流体搅拌(如采用空化叶片或声振腔)，将把这些活性物质输送到不直接暴露于UV的孔和缝隙内。由此，在不直接暴露于UV辐射下的不易接近的表面上，通过灭菌剂暴露(受UV激发并通过搅拌输送)而发生病原体阻塞。
由此，在本发明的实施中所采用的紫外线辐射直接破坏与被作用物相伴的病原体并间接激发实现灭菌的灭菌剂，并由此通过光激发增强密相流体的清洗能力。此外，本发明的光解实现了较大的有机和无机分子的尺度缩小，将它们分裂成比较大分子易于溶解或悬浮在密相流体中的较小的碎片。由此，除破坏病原体和光激发密相流体外，本发明的光解通过增加污物在密流体中的溶解和悬浮而降低表面清洗时间。
当与紫外线辐射照射组合时，密相流体也起多种作用，例如作为有效的辐射传播介质、清洗溶剂和废物载体。受到搅拌的密相流体浸泡被作用物表面并使被光解法或化学法(当灭菌剂存在时)分解从而被破坏的包括生物污染物在内的污物溶解或悬浮。此后，密相流体悬浮并输送分解产物以及其它在搅拌下溶解或沉积的污物，使得表面清洁且无菌。
由此，本方法同时提供在以上所讨论的现有技术方法中以分开的步骤进行的清洗步骤、消毒和灭菌步骤。强烈搅拌下的密相流体、UV辐射和灭菌剂如H2O2共同作用实现被作用物的清洗及消毒和/或灭菌。
本发明的方法可用于对由各种材料制造的各种各样的被作用物进行清洗、消毒和灭菌。可由本方法从中脱除污物的典型被作用物包括但不限于由金属、织物、纤维素、橡胶、陶瓷、碳、玻璃、聚合材料以及其它有机或无机化合物制造的被作用物。此外，被作用物可以是颗粒物或其它细分材料的形式。被作用物也可包括水或其它用于废料的液体载体。本方法特别适于并设计用于对衣物和其它织物以及医用和牙科仪器的清洗和消毒/灭菌。
根据本发明，可同时脱除无机和有机污物。有机污物吸收UV辐射导致键断裂，而无机材料通过在密相介质中溶解或流态化而被脱除。
在本发明的第一个实施方案中，所脱除的不期望有的物质包括污染物，例如在象衣物和织物或医用和牙科器具这样的被作用物的表面上的烃类或生物物质。在另一相关实施方案中，所脱除和破坏的不期望有的物质包括病原体或悬浮在液体CO2介质中的溶解有机污物。
现转到附图，其中相似标号代表类似元件，图1示意表示实施本发明的例举性清洗和消毒系统。确切地说，图1所示的系统10为采用紫外线辐射实现衣物和循环流体消毒的密相气体衣物干洗系统10。该装置的各部件是常规的并已在别处公开过。尽管本装置的具体细节在此未示出，但相信本领域的技术人员能够利用本发明的讲述建造实施本发明方法的合适的装置。
如图1所示，用于实施本发明的例举性清洗和灭菌系统包括气体的供应，密气体由已知的控制温度和压力的方法形成。液态密相气体储存在例如约在915psi和25℃下的储存容器12中。储存容器12是常规的，它包括在所要求的高压下能够盛放密相气体的任何材料。
图1描述了设有适用于实施本发明的盖14a的清洗室14。衣物被放置在清洗室14内的多孔清洗筐16中，将盖14a关闭，对清洗室加压。液体二氧化碳用泵18由储存容器12经过一组高速流体喷射歧管20引入清洗室14，并开始对衣物负载进行双向搅拌，如上述的美国专利5,467,492所述。随着衣物加速并覆盖多孔清洗筐16的周向清洗区，污物由衣物和筐排出进入筐壁和清洗室壁之间的区域22并随后排出清洗室14。在该搅拌步骤中，衣物暴露在来自例如汞灯的UV辐射源24的适宜强度的UV辐射中以导致在一个或多个周向筐区域内灭菌/消毒。流体通过棉纤维阱26(lint trap 26)和用于脱除不溶颗粒的一组过滤器28在闭合回路内循环。循环流体也可在任选点(例如在循环回路中优选位于泵18进口前的30处)暴露于UV线。UV照射可单独进行或与化学氧化剂如过氧化氢一起进行，所述化学氧化剂如过氧化氢以促进其被循环液体二氧化碳分散的方式注射到循环回路中，即在泵出口32处注入。在清洗/搅拌/消毒步骤结束时，流体被排放返回到储存容器12。气相CO2经压缩机34回收返回储存容器12并由冷冻器36a/冷凝器36b重新冷凝为液体。
系统10的其它元件包括用于蒸馏溶解污物或废灭菌剂的蒸馏釜38、向储存容器12补充新鲜液体CO2的泵42以及通常安装在主泵18进口处或其附近以促使灭菌剂分散到主液体CO2介质中的灭菌剂泵40。此外，若期望的话，加热器44可用于加热CO2。
在衣物干洗/消毒过程中，典型的工艺温度(清洗室14内)低于32℃，压力比临界压力1071psi要低。
待清洗物品的典型暴露时间将依赖于所要清洗的被作用物的性质、脏污程度等而变化。然而，处理织物时，暴露于密相气体的典型暴露时间在约5到10分钟之间，而暴露于紫外线辐射的典型暴露时间范围在约5到10分钟之间。但有些被作用物如医用衣物可能需要更长的搅拌和UV暴露时间。
液体悬浮介质，即清洗室14内的密相流体可含有增强清洗过程的添加剂如密相气体氧化剂。氧化剂可被UV辐射而光离解，结果，被光离解的物质增加了与污物和病原体的反应性并增强对它们的脱除或破坏作用。可以采用的添加剂的实例包括氧化性气体(如臭氧)和氧化剂(如过氧化氢)。但本发明不限于这些具体的添加剂。
过氧化氢是用于本方法的优选反应剂并优选用于图1所示的干洗衣物系统。过氧化氢可被光离解为羟基自由基和过氧自由基，它们与污物反应并生成无毒的二氧化碳和水副产物。由此，过氧化氢在不对本方法引入毒性下增强了密相二氧化碳的清洗质量并提供了附加的作为生物杀伤剂的优势。此外，与二氧化碳不同的是，过氧化氢具有大的偶极和低介电强度。据此，二氧化碳和过氧化氢不同比例的混合物可具有各式各样的氢键合、极性及偶极能作用，由此可提供各种各样的溶解性化学性质。
现转到图2，图中表示根据本发明的部件清洗、消毒和灭菌系统10’，各部件被具体设计成医用和牙科仪器。在该实施方案中，各部件本身通常固定以防止对部件的损坏，并且由于采用强烈搅拌，通常需要部件定位器或托架(未示出)。清洗和甚至输送和分布灭菌/消毒所需的化学氧化剂所需的强烈搅拌由强烈的剪切空化作用提供，如由超声转换器(ultrasonic transducer)、喇叭(horns)、空化叶片或声振腔产生。联合采用剪切空化与密相气体清洗已在别处描述；参见例如上述的美国专利5,316,591。图2表示也体现本发明的采用空化作用、对部件的UV辐射及流体和化学氧化剂的部件消毒/灭菌方法的例举性密相二氧化碳部件清洗系统。
典型的密相二氧化碳部件清洗和消毒方法如下将部件安放在清洗室46内并封闭盖46a，对清洗室加压。液体二氧化碳由储罐48经压缩机50引入清洗室46。优选位于流体入口通道52的化学氧化剂(例如但不限于过氧化氢或臭氧)与液体二氧化碳介质一起引入清洗室46。在清洗室46内采用空化盘54，空化盘54与紫外线辐射源56一起启动，在图2所示的系统10’中，紫外线辐射源56设在清洗室46内，由此促进暴露部分的辐照。
经由空化盘54的搅拌持续预定的时间，通常持续时间范围在约5到10分钟。此后，清洗流体从清洗室46排放到蒸馏釜58并经蒸馏后返回储罐46而由冷冻/冷凝器60重新冷凝为液态。空化时间基本上与得自EPA指南中的UV照射的时间相同，如EPA Design Manual for Municiple WasteWater Disinfection所示。
二氧化碳的典型工艺温度比临界温度32℃要低，典型工艺压力低于1071psi，以使清洗介质处于液态。
必要的工艺参数，即气体种类和气体混合物的比例、温度及实现期望的清洁和灭菌水平所需的压力依赖于污染的性质和程度以及被处理的材料的结构。可采用上述EPA Design Manual中的EPA指南，应用UV DensityMethod估计这些参数。
分别示于图1和2的清洗容器14、46仅是例举性的，可采用其它可能的清洗容器结构以便实施本发明的方法。例如，若采用相转变的话，可采用各种外部和内部加热和冷却元件以便提供必要的温度控制以实现密流体在液态和超临界流体状态之间的相转变。此外，清洗容器可用于几类产生空化的搅拌方法与紫外线辐射器件一起引入清洗室14、46内的场合。
由此，已描述了一种改进的对被作用物进行清洗、消毒和灭菌的方法。本领域的普通技术人员易于理解，可在不背离本发明本质下进行显而易见性的多种改动和改进，所有这些改动和改进被视为落在由后附权利要求书所限定的本发明范围内。
权利要求
1.一种从预定被作用物脱除污染物的方法，所说的污染物包括污物和含有DNA形式的有机分子键的微生物，所说的方法包括以下步骤(a)将所说的含有上述污染物的被作用物放置在清洗容器内；(b)将所说的含有上述污染物的被作用物与液态密相二氧化碳接触；(c)对所说的被作用物和所说的密相二氧化碳进行一段时间和一定强度的紫外线辐射，辐射波长范围在约180～300nm，所述时间和强度足以产生能够将所述有机分子键断裂的光化学反应，由此破坏所述DNA并形成片断化生物污染物；(d)基本上同时对至少所说的密相二氧化碳进行搅拌；以及(e)从所说的清洗和消毒容器脱除上述密相二氧化碳并由此将包括上述片断化生物污染物的上述污染物从被作用物输送走，以便被作用物清洗并经消毒。
2.权利要求1的方法，其中所说的被作用物包括选自下列的材料金属、织物、纤维素、橡胶、陶瓷、碳、玻璃和聚合材料。
3.权利要求2的方法，其中所说的被作用物包括选自衣物和医用仪器的物品。
4.权利要求3的方法，其中所说的物品是衣物，所说的搅拌是通过将上述的密相二氧化碳引入上述容器并对所说的衣物和所说的密相二氧化碳进行机械搅拌进行的，由此对所说的衣物进行消毒。
5.权利要求4的方法，其中所说的机械搅拌由一组对所说的衣物和上述的密相二氧化碳进行机械搅拌的高速流体喷射歧管进行。
6.权利要求3的方法，其中所说的物品为所说的医用仪器，所说的搅拌通过将上述的密相二氧化碳进行空化而进行，由此对上述的医用仪器进行灭菌。
7.权利要求6的方法，其中所说的空化由选自下列的装置产生超声转换器、喇叭、空化叶片和声振腔。
8.权利要求1的方法，其中所说的辐射波长范围在约253～254nm。
9.权利要求1的方法，其中步骤(b)进一步包括将所说的被作用物与能够与上述污染物反应的反应剂接触，由此增强从所说的被作用物上对上述污染物的脱除。
10.权利要求9的方法，其中所说的反应剂为选自含氧化合物和含氢化合物的氧化剂。
11.权利要求10的方法，其中所说的反应剂选自过氧化氢和臭氧。
12.权利要求11的方法，其中所说的过氧化氢在引入所说的清洗容器之前与所述的密相气体混合。
13.权利要求1的方法，在步骤(e)之后，进一步包括将所说的含有上述污染物的密相二氧化碳从所说的清洗容器脱除并将清洁的密相二氧化碳加入所说的清洗容器，与此同时在所说的清洗容器内保持压力。
14.权利要求1的方法，其中所说的生物污染物选自细菌和孢子。
全文摘要
对被作用物进行清洗、消毒和灭菌的方法,包括:(a)将含有污染物的被作用物放置在清洗容器内;(b)将被作用物与液态密相二氧化碳接触;(c)对被作用物和密相二氧化碳进行一段时间和一定强度的紫外线辐射,辐射波长范围在约180～300nm,所述时间和强度足以产生能够将所述有机分子键断裂的光化学反应,由此破坏所述DNA并形成片断化生物污染物;(d)基本上同时对至少密相二氧化碳进行搅拌;以及(e)从清洗和消毒容器脱除密相二氧化碳并由此将包括上述片断化生物污染物的上述污染物从被作用物输送走,以便被作用物清洗并经消毒。
文档编号A61L2/10GK1274291SQ99801149
公开日2000年11月22日 申请日期1999年7月19日 优先权日1998年7月24日
发明者S·周, R·W·比弛, N·W·索尔伯, E·M·普勒尔 申请人:雷斯昂公司