专利名称：清洁室用抹布的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种在制造半导体产品等的清洁室中所使用的清洁室用抹布，具体涉及一种对擦拭部边缘的缝合部的结构进行改善的清洁室用抹布。
背景技术：
一般，需要保持清洁及无菌状态的清洁室广泛应用于电子产业及食品、医药产业等多个领域，尤其是在进行半导体及TFT LCD等的制作工序的清洁室中，用于清洁晶片(wafer)、设备及仪器的清洁室用抹布通常是采用对灰尘或水分的吸附能力强、且在使用过程中能够抑制灰尘的纤维材料来制成的。
上述清洁室用抹布主要分为将一定宽度的抹布卷成圆形的卷筒(roll)形抹布和长方形擦式抹布，而本发明所涉及的是长方形擦式抹布。
即，在制作擦式抹布时，首先将宽度较宽且长度较长的抹布面料按一定宽度进行切割，然后将按一定宽度经过加工的抹布面料以一定长度进行切割而形成长方形。此时，在各切割过程中，在边缘形成缝合部，以防止在因线条被解开而产生的异物。
上述宽度较小(约2～7mm左右)的缝合部，一般是通过圆板型成形模具等并利用超声波热熔接方式成形，而主要使用的公知清洁室用抹布中，具有一定宽度的缝合部整体被加压熔接并硬化。
但是，在公知的清洁室用抹布中，比起柔软的擦拭部，其边缘的缝合部整体较硬且硬度高，因此在折叠时有可能被折断，而且在使用时如果缝合部与身体接触，则接触的感觉不舒服，另外，当擦拭硬度低的精密物品时，因缝合部而有可能会产生小划痕。
发明内容
本发明是为了解决公知技术中所存在的问题而提出的，其目的在于，提供一种在使用时能够提高缝合部的接触感且能够降低对物品的损伤的清洁室用抹布。
为了实现上述目的，本发明的清洁室用抹布的特征在于，在擦拭部的边缘形成有具有一定宽度的格子状缝合部，该缝合部的边缘没有进行缝合处理，而只对其中央空间进行缝合，并且对缝合部的末端部进行热切割。
图1为本发明的一个实施例的正视图；图2为上述实施例的主要部分放大正视图；图3为上述实施例的主要部分放大纵剖面图。
标号说明10清洁室用抹布11擦拭部12格子状缝合部具体实施方式
下面，将结合附图对本发明的具体技术内容进行进一步详细的说明。
即，图1为本发明的一个实施例的正视图，图2为上述实施例的主要部分方大主视图，图3为上述实施例的主要部分的放大纵剖面图。如图所示，本发明的清洁室用抹布10在长方形擦拭部11的边缘形成有具有一定宽度的缝合部12，所述缝合部12形成为，其边缘为没有进行缝合处理而只对其中央空间进行缝合的格子状，并对缝合部12的末端进行热切割。
在如图所示的实施例中，缝合部12的格子呈菱形，而在本发明中，其格子形状不仅限于在附图中所示的形状，还可以变更为能够预想到的其他任何形状。另外，对需要缝合的格子的中央空间面积、不进行缝合的边缘的宽度、缝合部的整个宽度等也没有特殊的限定。
另外，本发明的格子状缝合部12可以通过使用缝合模具来简便地形成，在该缝合模具的外周面上形成有其中央突起且其边缘凹陷的格子状成形槽。
在具有上述结构的本发明的清洁室用抹布10中，因为缝合部12形成为其边缘没有进行缝合处理而只对其中央空间进行缝合的格子状，所以消除了缝合部12被折断的顾虑，而且能够更加容易地弯曲缝合部12，也改善了缝合部12的接触感。
如上所述，本发明将成形于擦拭部11的边缘上的缝合部12形成为，其边缘没有进行缝合处理，而只对其中央空间进行缝合的格子状，由此改善了接触感和使用性。根据本发明，因为缝合部的坚硬而硬度高的缝合面积少，所以在使用过程中可以抑制对物品的损伤，而且通过良好的接触感和使用性，可大幅度提高使用者对清洁室用抹布产品的满意度。
权利要求
1.一种清洁室用抹布，其在长方形擦拭部(11)的边缘具有一定宽度的缝合部(12)，其特征在于，所述缝合部(12)具有如下结构，即所述缝合部(12)的边缘没有被进行缝合处理，只有中央空间形成为格子状，另一方面，缝合部(12)的末端部被进行了热切割。
全文摘要
本发明涉及一种在制造半导体产品等的清洁室中所使用的清洁室用抹布。在公知清洁室用抹布中，与柔软的擦拭部不同，擦拭部边缘的缝合部整体较硬且硬度高，因此在折叠时有可能被折断，而且在使用过程中如果坚硬的缝合部与身体接触，则接触的感觉不舒服，另外，用所述缝合部擦拭硬度低的精密物品时，也容易产生小划痕。根据本发明，成形于擦拭部(11)的边缘上的缝合部(12)形成为，其边缘没有进行缝合处理而只对其中央空间进行缝合的格子状，从而改善了接触感和使用性。本发明中，因为缝合部(12)的坚硬而硬度高的缝合面积少，所以在使用过程中可以抑制对物品的损伤，而且通过良好的接触感和使用性，可大幅度提高使用者对清洁室用抹布产品的满意度。
文档编号A47L13/16GK1887192SQ200510082439
公开日2007年1月3日 申请日期2005年6月30日 优先权日2005年6月30日
发明者李天宰 申请人:又进Act株式会社