专利名称：清洗治具的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种夹持装置，尤其涉及一种用于清洗光学组件的清洗治 具。 '
背景技术：
随着多媒体技术的发展，照相机、数码照相机、手机照相镜头等成像器 材越来越为广大消费者青睐，在人们对照相机、数码照相机、手机照相镜头 追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高的要求，即希望拍 摄物体的影像画面清晰，而物体的成像质量在很大程度上取决于相机内各光 学仪器的优劣。
相机内成像模组一般包括透镜、光学滤光片及影像感测组件，如电荷耦合器Charge Coupled Device,简称CCD,或者补充性氧化金属半导体 Complementary Metal-Oxide Semiconductor,简称CMOS。在生产透镜及光学 滤光片等这些光学组件过程中，为达到较高的洁净度， 一般在这些光学组件 镀膜前及镀膜后，都需经过清洗过程，目的是为了去除附着于这些光学组件 表面的脏污、油渍及微粒等。而在清洗过程中，需将这些光学组件固定于治 具上，并以适当的溶液及高纯度去离子水进行清洗。
一般的光学组件清洗用的清洗治具30，如图l所示，该治具30是利用 三点固定的方式固定待清洗之光学组件40。治具30中的三个清洗条302是 可在此治具30上做适当距离的调整，利用嵌在该清洗条302上铁氟龙(Teflon) 材料所形成的V槽304,分别在组件的左、右、下方给予支撑。然而，铁氟 龙所形成的V槽304的厚度及深度会阻挡水流，使光学组件40被夹持的部 份清洗不干净，再者在清洗过程中，若夹持光学组件40太松，光学组件40 无法承受后期超音波震荡而脱落。若夹持太紧，光学组件40不易放入及不 易取出，容易造成损坏。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可有效辅助清洗光学组件的清洗治具。
一种用于清洗光学组件的清洗治具，其包括一个栽盘和一个盖体。所述 载盘上具有多个台阶状通孔，用于容置光学组件，所述台阶状通孔的孔壁上 设有疏水性材料层。所述盖体上设置有与所述台阶状通孔对应的多个通孔， 且能够将光学组件卡在所述台阶状通孔内。
所述清洗治具通过载盘与盖体配合，将光学组件卡在载盘上的台阶状通 孔中，通过载盘上的台阶状通孔与盖体上的通孔使光学组件在清洗过程中可 全面接触清洗液，从而可被全面清洗，提高了清洗洁净度与良率。由于在清
洗过程中，光学组件被限定在载盘上的台阶状通孔中，不会造成脱落；清洗 完毕后，只需将盖体与栽盘分离，便可方便地取出光学组件。且所述载盘与 光学组件接触的表面具有疏水性材料层，从而便于光学组件清洗完后的去水 烘干制程。
图1是现有技术提供的一种用于清洗光学组件的清洗治具的示意图。
图2是本发明第一实施例提供的一种用于清洗光学组件的清洗治具剖视图。
图3是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第一种载盘的俯视图。
图4是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第二种载盘的俯视图。
图5是本发明第 一 实施例提供的清洗治具中的第三种载盘的剖视图。
图6是本发明第 一 实施例提供的清洗治具中的第 一种盖体的俯视图。
图7是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第二种盖体的俯视图。
图8是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第三种盖体的剖视图。
图9是图2中清洗治具应用中的剖视图。
图IO是本发明第二实施例提供的一种清洗治具中的载盘的仰视图。
图11是图IO清洗治具中的载盘的剖视图。
图12是本发明第二实施例提供的一种清洗治具中的盖体的仰视图。
图13是图12清洗治具中的盖体的剖视图。
具体实施例方式
下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。
请参阅图2，本发明第一实施例提供一种用于清洗光学组件的清洗治具 10，该清洗治具10包括一个载盘100及一个盖体200。
所述载盘100上具有多个台阶状通孔110，所述台阶状通孔110包括一 个容置部101及一个连通部102,容置部101的孔径大于连通部102的孔径， 并在两者衔接处形成台阶103。所述容置部101用于容置光学组件20，所述 连通部102在光学组件20清洗过程中，能够让水流接触容置于容置部101 中的光学组件20,从而对光学组件20进行清洗。为便于光学组件20后续去 水烘千，缩短光学组件20去水烘干制程所消耗的时间，本实施例中，在所 述容置部101的側壁及台阶103上涂布有疏水性材料层104。优选地，所述 疏水性材料为能耐较高温度的疏水性材料。具体地，所述疏水性材料可采用 铁氟龙。
所述盖体200用于在光学组件20清洗过程中，卡住所述容置于载盘100 上的容置部101中光学组件20,防止光学组件20在清洗过程中从载盘100 上脱落。为便于光学组件20的清洗，所述盖体200对应于载盘100上的多 个台阶状通孔110，分别设置有多个通孔201,所述通孔201的直径小于台 阶状通孔110的容置部101的直径。优选地，所述通孔201与栽盘IOO上的 台阶状通孔110同轴设置。所述盖体200具有一个面对所述载盘100的第一 表面202及与所述第一表面202相对的第二表面203。为便于光学组件20 后续去水烘干，本实施例中，在所述盖体200的第一表面202上涂布有疏水 性材料层204。
请参阅图3至图5，所迷载盘IOO上多个台阶状通孔IIO可呈矩阵状分 布，如图3所示，也可呈蜂窝状分布，如图4所示。所述蜂窝状分布中，多 个台阶状通孔IIO呈异行错位排列。优选地，所述栽盘IOO上多个台阶状通 孔IIO呈蜂窝状分布，以便在相同面积的载盘IOO上可开设较多的台阶状通 孔IIO。为便于光学组件20放入载盘IOO上的容置部101中，优选地，所述 容置部101开口处设有导角1011。为便于在光学组件20清洗过程中，水流 更容易通过连通部102对光学组件20进行清洗，优选地，所述连通部102 为喇叭状通孔，其直径沿远离容置部101的方向逐渐增大。
请参阅图6至图8，对应于所述载盘100上多个台阶状通孔110，相应 地，所述盖体200上的多个通孔201可呈矩阵状分布，如图6所示，也可呈
蜂窝状分布，如图7所示。为便于在光学组件20清洗过程中，水流更容易 通过通孔201对光学组件20进行清洗，优选地，所述通孔201为喇p八状通 孔，其直径沿远离载盘100的方向逐渐增大。
在对光学组件20进行清洗时，首先将光学组件20放入所述栽盘100的 台阶状通孔110的容置部101中，然后用盖体200扣合并固定到所述载盘100 上，将光学镜片20卡在载盘100的台阶状通孔110的容置部101中，再用 水流对光学镜片20进行清洗。所述盖体200与栽盘IOO的固定方式包括釆 用夹子夹住盖体200与载盘IOO或通过螺丝锁合等方式。请一起参阅图3、 图4、图6、图7及图9，本实施例中，通过在所述载盘100四角及盖体200 四角分别设置四个螺孔120和205,然后通过螺丝300和螺帽400将盖体200 与载盘100固定在一起。
请参阅图10至图13，本发明第二实施例提供的另一种用于清洗光学组 件的清洗治具使用的载盘50及盖体60。所述载盘50远离其容置部511的表 面上开设有多个凹槽52，用于连通载盘50上的多个台阶状通孔51，从而使 得在光学组件清洗过程中，光学组件表面的油脂等杂物还可从平行于光学组 件表面的方向带走。优选地，所述凹槽52的深度大于等于所述台阶状通孔 51的连通部512的深度。所述盖体60远离载盘50的表面上开设有多个凹槽 62,用于连通盖体60上的多个通孔61，以在光学组件清洗过程中，便于水 流带走光学组件表面的油脂等杂物。
所述清洗治具通过载盘与盖体配合，将光学组件卡在栽盘上的台阶状通 孔中，通过载盘上的台阶状通孔与盖体上的通孔使光学组件在清洗过程中可 全面接触清洗液，从而可被全面清洗，提高了清洗洁净度与良率。由于在清 洗过程中，光学组件被限定在载盘上的台阶状通孔中，不会造成脱落；清洗 完毕后，只需将盖体与栽盘分离，便可方便地取出光学组件。且所述载盘与 光学组件接触的表面具有疏水性材料层，从而便于光学組件清洗完后的去水 烘干制程。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技 术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本 发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种用于清洗光学组件的清洗治具，其特征在于，包括一个载盘和一个盖体，所述载盘上具有多个台阶状通孔，用于容置光学组件，所述台阶状通孔的孔壁上设有疏水性材料层，所述盖体上设置有与所述台阶状通孔对应的多个通孔，且能够将光学组件卡在所述台阶状通孔内。
2. 如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述盖体靠近载盘的表 面涂布有疏水性材料层。
3. 如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述盖体上的通孔为喇 叭状通孔，其直径沿远离栽盘的方向逐渐增大。
4. 如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述盖体远离载盘的表 面上开设有多个凹槽，用于连通盖体上的多个通孔。
5. 如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述载盘上多个台阶状 通孔呈蜂窝状分布或矩阵排列。
6. 如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述栽盘远离盖体的表 面上开设有多个凹槽，用于连通载盘上的多个台阶状通孔。
7. 如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述台阶状通孔包括一 个用于容置光学组件的容置部及一个连通部，容置部的孔径大于连通部靠近 容置部一端的孔径，并在两者衔接处形成台阶，所述容置部的側壁及所述台 阶上设有疏水性材料层。
8. 如权利要求7所述的清洗治具，其特征在于，所述容置部的开口处设 有导角。
9. 如权利要求7所述的清洗治具，其特征在于，所述连通部为喇叭状通 孔，其直径沿远离容置部的方向逐渐增大。
10. 如权利要求7所述的清洗治具，其特征在于，所述凹槽的深度大于 等于所述台阶状通孔的连通部的深度。
全文摘要
本发明提供一种用于清洗光学组件的清洗治具，其包括一个载盘和一个盖体。所述载盘上具有多个台阶状通孔，用于容置光学组件，所述台阶状通孔的孔壁上设有疏水性材料层。所述盖体上设置有与所述多个台阶状通孔对应的多个通孔，且能够将光学组件卡在所述台阶状通孔内。所述清洗治具中载盘与光学组件接触的表面具有疏水性材料层，便于光学组件清洗完后的去水烘干制程。
文档编号B08B11/00GK101172281SQ200610063459
公开日2008年5月7日 申请日期2006年11月3日 优先权日2006年11月3日
发明者董才士 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司