专利名称：湿式清洗设备的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种湿式清洗设备，特别是有关于一种能使基板各部位得到良好 清洁效果的湿式清洗设备。
背景技术：
由于平面显示技术的突飞猛进，其应用逐渐从电脑用屏幕延伸至家用电视等电子 产品。就薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)制程而言，清洗步骤经常连接于镀膜、微影及刻 蚀等步骤之前、中、后等时机，用以维持显示器基板在生产过程中的表面洁净度。已知的湿式清洗设备是在基板搬运装置上方设置清洗液供应装置。基板搬运装置 以一行进方向搬运待清洗的基板。当进行清洁程序时，基板是置于基板搬运装置上传输，而 清洗液供应装置则是喷洒清洗液至基板上以进行清洁程序。然而，随着基板的尺寸逐渐加大，为了提高对大面积的基板的清洁效果，有一种使 用倾斜清洗的方式进行基板的清洁程序已被提出。然而，此种倾斜清洗方式在对应于基板 的较高部位与基极的较低部位处受到清洗液的液压或流量会有分布不均的情形，因而使得 基板整体的清洁效果不均勻，导致产品质量受到影响。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种湿式清洗设备，能使基板上的各部位得到 良好清洁效果。本发明的目的是这样实现的，一种湿式清洗设备，该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜 角度，因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承 载面实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位 的该些喷嘴的分布密度大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的分布密度。在本发明的一较佳实施例中，该倾斜角度为2 8度。在本发明的一较佳实施例中，对应设置在该承载面的该第一部位与第二部位之间 的该些喷嘴的分布密度介于对应设置在该承载面的该第一部位的该些喷嘴的分布密度以 及对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的分布密度之间。在本发明的一较佳实施例中，该些喷嘴的分布密度是自对应设置于该承载而的该 第一部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。
在本发明的一较佳实施例中，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的 行进方向实质垂直。在本发明的一较佳实施例中，位于该清洗液供应管路两端的喷嘴分别与该承载面 的该第一部位以及该第二部位对应。本发明的目的还可以这样实现，一种湿式清洗设备，该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜 角度，因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承 载面实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位 的该些喷嘴的清洗液喷出流速大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的清洗 液喷出流速。在本发明的一较佳实施例中，对应设置在该承载面的该第一部位与该第二部位之 间的该些喷嘴的清洗液喷出流速介于对应设置在该承载面的该第一部位的该些喷嘴的清 洗液喷出流速以及对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的清洗液喷出流速之间。在本发明的一较佳实施例中，该些喷嘴的清洗液喷出流速是自对应设置于该承载 面的该第一部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。本发明的目的还可以这样实现，一种湿式清洗设备，该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜 角度，因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承 载面实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位 的该些喷嘴的出口面积大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的出口面积。在本发明的一较佳实施例中，对应设置在该承载面的较第一位与第二部位之间的 该些喷嘴的出口面积介于对应设置在该承载面的该第一部位的该些喷嘴的出口面积以及 对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的出口面积之间。在本发明的一较佳实施例中，该些喷嘴的出口面积是自对应设置于该承载面的该 第一部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。本发明的目的还可以这样实现，一种湿式清洗设备，该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜 角度，因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承 载面实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位 的该些喷嘴的流量大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的流量。
在本发明的一较佳实施例中，对应设置在该承载面的第一部位与第二部位之间的 该些喷嘴的流量介于对应设置在该承载面的该第一部位的该些喷嘴的流量以及对应设置 于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的流量之间。在本发明的一较佳实施例中，该些喷嘴的流量是自对应设置于该承载面的该第一 部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。基于上述，本发明所提出的湿式清洗设备，可由调整清洗液供应管路上喷嘴设置 的密度、喷嘴面积、清洗液的流速或流量，使清洗液在承载面较高部份有较多的喷出量，因 此可使基板上的各部位得到良好清洁效果。
图1 为本发明实施例1的一种湿式清洗设备示意图。
图2:为本发明实施例1的另一种喷嘴设置示意图。
图3:为本发明实施例2的一种湿式清洗设备示意图。
图4:为本发明实施例2的另一种喷嘴设置示意图。
图5:为本发明实施例3的一种湿式清洗设备示意图。
附图标号
200、300、400 湿式清洗设备
210 基板搬运装置
210a 承载面
220 清洗液供应装置
222 清洗液供应管路
224a、224b 喷嘴
C 清洗液
D 延伸方向
H 第一部位
L 第二部位
M 行进方向
S:基板
θ 倾斜角度
具体实施例方式为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图详细 说明如下。实施例1图1为本发明实施例1的一种湿式清洗设备示意图。请参照图1，在本实施例中， 湿式清洗设备200包括基板搬运装置210以及清洗液供应装置220。基板搬运装置210具 有承载面210a，其中基板搬运装置210的承载面210a具有倾斜角度θ，因此承载面210a 具有第一部位H以及第二部位L。清洗液供应装置220设置于基板搬运装置210的上方 其 中清洗液供应装置220包括至少一清洗液供应管路222以及多个喷嘴224a。清洗液供应管路222的延伸方向D与基板搬运装置210的承载面210a实质平行。多个喷嘴224a装设 于清洗液供应管路222上，其中对应设置在承载面210a的第一部位H的喷嘴224a的清洗 液C喷出量总合，大于对应设置于承载面210a的第二部位L的喷嘴224a的清洗液C喷出 量总合，以达到良好的洗净效果。针对上述的湿式清洗设备200，所要说明的是，其中承载面210a所具有的倾斜角 度θ，其范围可以在2 8度之间，在此范围内可使清洗液C有效带走基板S上的悬浮粒 子(未绘示)或其它脏污以避免残留，且基板S也不致于在承载面210a上滑动。此外，上 述清洗液供应管路222的延伸方向D与基板搬运装置210的行进方向M实质上是可彼此垂 直的。而位于清洗液供应管路222两端的喷嘴224a，则可分别与承载面210a的第一部位H 以及第二部位L对应，其可以与承载面210a的第一部位H以及第二部位L对齐设置或是略 超出承载面210a的第一部位H以及第二部位L的位置，以确保基板S容置于洗净范围内。 另外，本发明不限制清洗液供应管路222的数量，本实施例的图式所绘示的清洗液供应管 路222仅是用以说明本发明。请继续参照图1，在本实施例中特别要注意的是，上述对应设置在承载面210a的 第一部位H的喷嘴224a，其分布密度可大于对应设置于承载面210a的第二部位L的喷嘴 224a分布密度。而对应设置在承载面210a的第一部位H与第二部位L之间的喷嘴224a的 分布密度，则可介于对应设置在承载面210a的第一部位H的喷嘴224a的分布密度，以及对 应设置于承载面210a的第二部位L的喷嘴224a的分布密度之间。然而，本发明并不以此 为限，对应设置在承载面210a的第一部位H与第二部位L之间的喷嘴224a的分布密度，可 视承载面210a的倾斜角度θ、承载面210a所搬运的基板S尺寸及摆放位置、或是其它考 虑而作调整。换言之，本实施例的喷嘴224a的分布密度是以三种密度分布于对应在承载面 210a的第一部位H、第二部位L以及位于第一部位与第二部位L之间的中间部位。然而，在 其它的实施例中，也可以仅设计两种喷嘴密度，或是设计四种或以上的喷嘴密度，但不限于 此，可依实际需求调整。图2为本发明实施例1的另一种喷嘴设置示意图。请参照图2，除了上述可在对 应承载面210a的不同部作分段式的喷嘴分布密度外，在本发明的另一实施例中，喷嘴224a 的分布密度还可以自对应设置于承载面210a的第一部位H逐渐往对应设置于承载面210a 的第二部位L降低。在上述实施例中，由于清洗液C由喷嘴224a喷洒至承载面210a上的基板S，而此 时第一部位H的喷嘴224a分布密度较大，其意味着在第一部位H中会有较多的清洗液C被 喷洒至基板S上，因此可以改善基板S在对应第一部位H所被喷洒的清洗液C与于第二部 位L所被喷洒的清洁液C不均所导致基板整体清洁不均勻的问题，而使基板S的整体清洗 效果得到提高。实施例2图3为本发明实施例2的一种湿式清洗设备示意图。请参照图3，本发明实施例2 的湿式清洗设备300，其设置大致和实施例1相同，其主要的差异在于，本实施例是通过调 整喷嘴224b的出口面积，而达到使对应设置在承载面210a的第一部位H的喷嘴224b的清 洗液C喷出量总合大于对应设置于承载面210a的第二部位L的喷嘴224b的清洗液C喷出 量总合的效果。如图3所示，在对应设置在承载面S的第一部位H的喷嘴224b，可各具有相同大小的出口面积，且此出口面积大于对应设置在承载面210a的第二部位L的喷嘴224b 的出口面积。至于对应设置在第一与第二部位H、L之间的喷嘴224b，其出口面积的大小则 可介于高低两部位H、L的喷嘴224b出口面积之间。类似地，此处仅为举例说明，上述对应设 置在第一与第二部位H、L之间喷嘴224b的出口面积还可以根据实际情况加以设计，只要能 使第一部位H的清洗液C喷出量总和大于第二部位L，皆在本发明所涵盖的范围。换言之， 本实施例的喷嘴224b的出口面积是以三种出口面积于对应在承载面210a的第一部位H、第 二部位L以及位于第一部位H与第二部位L之间的中间部位。然而，在其它的实施例中，也 可以仅设计两种出口面积，或是设计四种或以上的出口面积，但不限于此，可依实际需求调
iF. ο图4为本发明实施例2的另一种喷嘴设置示意图。请参照图4，承上述，喷嘴224b 除了可以在不同部位有不同的出口面积外，在另一实施例中，喷嘴224b的出口面积还可以 自对应设置于承载面210a的第一部位H逐渐往承载面210a的第二部位L降低。实施例3图5为本发明实施例3的一种湿式清洗设备示意图。请参照图5，本发明实施例3 的湿式清洗设备400，其设置大致和实施例1相同，其主要的差异在于，本实施例的湿式清 洗设备400是通过调整喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量，而达到使对应设置在承载面 210a的第一部位H的喷嘴224a的清洗液C喷出量总合大于对应设置于承载面210a的第二 部位L的喷嘴224b的清洗液C喷出量总合的效果。对应设置在承载面210a的第一部位H 的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量，可大于对应设置于承载面210a的第二部位L的 喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量。而对应设置在承载面210a的第一部位H与第二部 位L之间的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量，则可介于对应设置在承载面210a的第 一部位H的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量、以及对应设置于承载面210a的第二部 位L的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量之间。同样地，本发明也可使喷嘴224a在不 同部分可具有不同流速或流量。更详细而言，本实施例的喷嘴224a的流速或流量是以三种 流速或流量于对应在承载面210a的第一部位H、第二部位L以及位于第一部位与第二部位 L之间的中间部位。然而，在其它的实施例中，也可以仅设计两种流速或流量，或是设计四种 或以上的流速或流量，但不限于此，可依实际需求调整。此外，还可根据承载面210a的倾斜角度θ，或其它的考虑，使喷嘴224a在不同部 位具有不同的清洗液C喷出流速或流量。举例来说，在本发明的另一实施例中，上述喷嘴 224a的清洗液C喷出流速或流量，也可以自对应设置于承载面210a的第一部位H逐渐往承 载面210a的第二部位L降低。实际使用时，例如可加装流速控制器420，使对应设置在承载面210a的第一部位H 的喷嘴224a可具有较大流速或流量。当然，其它还有许多可以控制喷嘴224a流速或流量 的方法，此处的流速控制器420仅为举例说明，并非用以限定本发明。基本上，只要能够使对应于承载面210a第一部分H的清洗液C喷出量总和，大于 对应第二部分L的清洗液C喷出量总和，皆符合本发明的精神。综上所述，本发明的湿式清洗设备至少具有下列优点通过调整喷嘴设置的密度、出口面积、清洗液的流速或流量，可使清洗液在承载面 第一的位置有较多的喷出量，因而改善了第一部位清洁效果不佳的问题，使基板整体有较佳的洁净度。 虽然本发明已以具体实施例揭示，但其并非用以限定本发明，任何本领域的技术 人员，在不脱离本发明的构思和范围的前提下所作出的等同组件的置换，或依本发明专利 保护范围所作的等同变化与修饰，皆应仍属本专利涵盖之范畴。
权利要求
一种湿式清洗设备，其特征在于该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜角度，因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承载面实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位的该些喷嘴的分布密度大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的分布密度。
2.如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于该倾斜角度为2 8度。
3.如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承载面的该第一部 位与第二部位之间的该些喷嘴的分布密度介于对应设置在该承载面的该第一部位的该些 喷嘴的分布密度以及对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的分布密度之间。
4.如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的分布密度是自对应设 置于该承载面的该第一部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。
5.如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于该清洗液供应管路的延伸方向与 该基板搬运装置的行进方向实质垂直。
6.如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于位于该清洗液供应管路两端的喷 嘴分别与该承载面的该第一部位以及该第二部位对应。
7.—种湿式清洗设备，其特征在于该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜角度， 因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承载面 实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位的该 些喷嘴的清洗液喷出流速大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的清洗液喷 出流速。
8.如权利要求7所述的湿式清洗设备，其特征在于该倾斜角度为2 8度。
9.如权利要求7所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承载面的该第一部 位与该第二部位之间的该些喷嘴的清洗液喷出流速介于对应设置在该承载面的该第一部 位的该些喷嘴的清洗液喷出流速以及对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的清 洗液喷出流速之间。
10.如权利要求7所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的清洗液喷出流速是自 对应设置于该承载面的该第一部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。
11.如权利要求7所述的湿式清洗设备，其特征在于该清洗液供应管路的延伸方向与 该基板搬运装置的行进方向实质垂直。
12.如权利要求7所述的湿式清洗设备，其特征在于位于该清洗液供应管路两端的喷 嘴分别与该承载面的该第一部位以及该第二部位对应。
13.—种湿式清洗设备，其特征在于该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜角度， 因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承载面 实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位的该 些喷嘴的出口面积大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的出口面积。
14.如权利要求13所述的湿式清洗设备，其特征在于该倾斜角度为2 8度。
15.如权利要求13所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承载面的较第一 位与第二部位之间的该些喷嘴的出口面积介于对应设置在该承载面的该第一部位的该些 喷嘴的出口面积以及对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的出口面积之间。
16.如权利要求13所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的出口面积是自对应 设置于该承载面的该第一部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。
17.如权利要求13所述的湿式清洗设备，其特征在于该清洗液供应管路的延伸方向 与该基板搬运装置的行进方向实质垂直。
18.如权利要求13所述的湿式清洗设备，其特征在于位于该清洗液供应管路两端的 喷嘴分别与该承载面的该第一部位以及该第二部位对应。
19.一种湿式清洗设备，其特征在于该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜角度， 因而该承载面具有一第一部位以及一第二部位，且该第一部位高于该第二部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承载面 实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该第一部位的该 些喷嘴的流量大于对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的流量。
20.如权利要求19所述的湿式清洗设备，其特征在于该倾斜角度为2 8度。
21.如权利要求19所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承载面的第一部 位与第二部位之间的该些喷嘴的流量介于对应设置在该承载面的该第一部位的该些喷嘴 的流量以及对应设置于该承载面的该第二部位的该些喷嘴的流量之间。
22.如权利要求19所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的流量是自对应设置 于该承载面的该第一部位逐渐往对应设置于该承载面的该第二部位降低。
23.如权利要求19所述的湿式清洗设备，其特征在于该清洗液供应管路的延伸方向 与该基板搬运装置的行进方向实质垂直。
24.如权利要求19所述的湿式清洗设备，其特征在于位于该清洗液供应管路两端的 喷嘴分别与该承载面的该第一部位以及该第二部位对应。
全文摘要
本发明为一种湿式清洗设备，包括基板搬运装置以及清洗液供应装置。基板搬运装置具有承载面，且承载面具有倾斜角度，因而承载面具有第一部位以及第二部位。清洗液供应装置设置于基板搬运装置的上方，其中清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路以及多个喷嘴。清洗液供应管路的延伸方向与基板搬运装置的承载面实质平行。多个喷嘴装设于清洗液供应管路上，其中对应设置在承载面的第一部位的喷嘴的分布密度，大于对应设置于承载面的第二部位的喷嘴的分布密度。
文档编号B08B3/00GK101890412SQ20101022609
公开日2010年11月24日 申请日期2009年2月6日 优先权日2009年2月6日
发明者林宗融, 苏德修 申请人:友达光电股份有限公司