专利名称：一种具有保湿功能的清洗设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及硅片的清洗设备，尤其是涉及一种具有保湿功能的清洗设备。
背景技术：
在制作太阳能电池的过程中，由于硅片表面附着有污物残渣，因此需要使用清 洗设备清洗上面的污物残渣，然而，由于清洗节拍的限制，有时候等待清洗的时间较 长，此时由于时间长的原因，硅片表面的污物残渣已经风干，印在硅片表面，在后续的 清洗过程中很难清洗干净，因而严重影响了硅片的质量以及太阳能电池的转换效率。而 若能在清洗等待过程中使硅片一直保持湿润，则能极大方便后续的清洗。因此，如何开发设计一种结构简单，且具有保湿功能的清洗设备，已成为目前 急需解决的技术难题之一。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供一种具有保湿功能的清洗设备，以解决现 有清洗设备在硅片等待清洗过程中容易风干而导致的很难清洗技术问题。为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为设计一种具有保湿功能的 清洗设备，包括一设备主体以及位于设备主体上用于上料的上料台，所述上料台位置处 设置有一保湿装置，所述保湿装置包括一位于上料台上部的喷淋装置。所述喷淋装置包括一进水管以及与进水管相连的喷管，所述喷管上设置有对上 料台上的硅片喷水的喷嘴。所述保湿装置还包括一控制进水管路通、断的控制系统。所述保湿装置还包括位于上料台上的排水网板和与排水网板相连的废水排放 管，上料台上的水依次流经排水网板和废水排放管排出。所述保湿装置还包括一位于上料台上，与排水网板相连且将洒到排水网板外的 水导入所述排水网板的导水板。与现有技术相比，本实用新型通过在上料台上部设置喷淋装置对上料台上的硅 片喷水来保持硅片在等待清洗的过程中不被风干，非常有利于后续清洗硅片上的污物。
下面结合实施例和附图对本实用新型进行详细说明，其中图1是本实用新型具有保湿功能的清洗设备主视方向的结构原理图；图2是本实用新型具有保湿功能的清洗设备俯视方向的结构原理图。
具体实施方式
请参见图1、图2。本实用新型具有保湿装置的清洗设备包括设备主体1、位于 设备主体1上用于上料的上料台2以及位于位于上料台2位置处的保湿装置3。其中，上料台2用于放置待清洗的硅片，保湿装置3用于对上料台2上的硅片喷淋水以使上料台上 的硅片保持湿润。保湿装置3包括喷淋装置4、导水板5、排水网板6、废水排放管7和控制系统 8。喷淋装置4位于上料台的上部，可通过固定板等固定在上料台的上部，包括一 进水管41、与进水管相连的喷管42以及位于喷管上的喷嘴43，水依次流过进水管41、喷 管42后经喷嘴43喷向上料台上硅片，以湿润硅片。导水板5设置在上料台上且与排水网板相连，导水板5将上料台上流到排水网板 外的水导入排水网板以保证喷嘴喷淋出的水落在上料台内。排水网板6和废水排放管7均设置在上料台上，两者相互连接。喷嘴喷淋到上 料台上湿润硅片，多余的水经过排水网板6流入废水排放管7排出，防止水洒落到车间地 板上或设备死角内，造成积水。控制系统7设置在进水管41处，以控制进水管的通与断。通过控制系统7可以 根据需要控制进水管的通与断，从而控制喷淋装置在需要时对上料台上的硅片喷淋水。导水板的形状可以为任意形状，导水板只需要保证上料台上流到排水板外的水 被导入排水网板而洒落到上料台外即可。如，导水板可以为由四周向中间依次降低的弧 面，也可以在导水板上设置若干水槽。本实用新型并不限定导水板的形状。导水网板也可以为任意形状，只需要保证将水引导到废水排放管即可。如导水 板可以为若干均与废水排放管相连的排水槽组成。在上料台上的硅片需要湿润时，控制系统7打开进水管，水从进水管流经喷淋 装置喷管经喷嘴洒向上料台上的硅片，同时，导水板、排水网板将洒到上料台上湿润硅 片后的水经过废水排放管排出。上料台上的硅片被湿润后，控制系统7关闭进水管，从 而停止对上料台上的硅片喷淋水，以节约用水。本实用新型并不限定保湿装置和喷淋装置的具体结构，也不限定喷淋的方法和 控制系统的控制方式，只需要能够实现本实用新型对上料台的硅片进行湿润即可。凡在 本实用新型的技术构思内对本实用新型所做的等同替换、修改，均应在本实用新型的保 护范围内。本实用新型使用于太阳能硅片生产过程中对硅片的清洗，通过在清洗设备的上 料台处设置喷淋装置对上料台上待清洗的硅片喷淋水，以保持待清洗的硅片表面的污物 不被风干，非常有利于后续清洗硅片上的污物。
权利要求1.一种具有保湿功能的清洗设备，包括一设备主体以及位于设备主体上用于上料的 上料台，其特征在于所述上料台位置处设置有一保湿装置，所述保湿装置包括一位于 上料台上部的喷淋装置。
2.根据权利要求1所述的具有保湿功能的清洗设备，其特征在于所述喷淋装置 包括一进水管以及与进水管相连的喷管，所述喷管上设置有对上料台上的硅片喷水的喷 嘴。
3.根据权利要求2所述的具有保湿功能的清洗设备，其特征在于所述保湿装置还 包括一控制进水管路通、断的控制系统。
4.根据权利要求1所述的具有保湿功能的清洗设备，其特征在于所述保湿装置还 包括位于上料台上的排水网板和与排水网板相连的废水排放管，上料台上的水依次流经 排水网板和废水排放管排出。
5.根据权利要求4所述的具有保湿功能的清洗设备，其特征在于所述保湿装置还 包括一位于上料台上，与排水网板相连且将洒到排水网板外的水导入所述排水网板的导 水板。
专利摘要本实用新型公开一种具有保湿功能的清洗设备，包括一设备主体以及位于设备主体上用于上料的上料台，所述上料台位置处设置有一保湿装置，所述保湿装置包括一位于上料台上部的喷淋装置。本实用新型保湿功能的清洗设备用于硅片清洗前对硅片的保湿。
文档编号B08B13/00GK201791706SQ201020277139
公开日2011年4月13日 申请日期2010年7月30日 优先权日2010年7月30日
发明者左国军 申请人:常州捷佳创精密机械有限公司