专利名称：沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法
技术领域：
本发明涉及沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。具体来讲，涉及通过迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，可缩短制造工艺时间、降低生产费用，且可确保工艺安全性的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。
背景技术：
有机发光二极管(OLED，Organic Light Emitting Diodes)是一种利用分别从阴极和阳极注入的电子和空穴在有机物内相结合而发光的自发光现象的显示器。当向阳极注入空穴、向阴极注入电子时，空穴与电子相复合而产生高能的中性激子(Exciton)，而该激子向较低能级转移时产生光。OLED可以低电压驱动，并根据不同的发光物质表现出各种颜色，且可开发为具有宽视角、响应速度快以及宽面积的轻质元件，因此作为下一代的显示装置备受关注。一般有机电致发光元件的相互面对的电极之间形成有至少包含发光层的中间层。 该中间层为由有机物组成的有机薄膜，由空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层以及电子注入层等构成。对于所述有机薄膜而言，在真空腔室内安装基板后，在高温下加热盛有沉积材料的加热容器，通过升华将沉积材料附着到所述基板而形成。为了在所述有机薄膜上形成特定的图案而使用掩模，在欲形成有机薄膜的对象物上，安装形成有预定图案开口部的掩模， 以进行沉积，从而仅在通过所述开口部而露出的部位上沉积有机膜，以此沉积所需图案。所述沉积过程中，所述开口部周围会堆积不必要的沉积材料而阻碍沉积作业的准确性，为了提高后续有机膜沉积工艺的特性及整体工艺的可靠性，掩模应当保持无任何异物残留的状态。据此，为了去除掩模上不必要的沉积材料，而提出了各种洗涤液及洗涤装置。韩国公开专利第2007-0065646号中，作为洗涤液公开了异丙醇(Isopropylalcohol)；韩国公开专利第2009-0036435号及韩国授权专利第07沈049号中，作为洗涤液公开了 N-甲基-2-吡咯烷酮。但是，异丙醇具有低沸点而易挥发，需要过量使用，且被去除的沉积材料可能会再次附着到基板上，而且是产业安全保健法中所规定的作业环境检测物质、管理对象有害物质及暴露基准设定物质，对使用者的健康及环境有害。而N-甲基-2-吡咯烷酮需要花很长时间才能溶解沉积材料而降低工程效率。因此，需要开发出可在短时间内去除沉积材料而缩短工艺时间及降低生产费用，且能够确保工艺安全性的洗涤剂。
发明内容
本发明的目的在于提供一种通过迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，可缩短制造工艺时间、降低生产费用，且可确保工艺安全性的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。本发明提供的沉积材料洗涤液组合物包含於甲基+吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)；以及 1，3_ 二甲基-2-咪唑啉酮(1， 3-Dimethy1-2-imidazolidinone)。并且，本发明提供的洗涤方法包括如下步骤利用所述沉积材料洗涤液组合物，去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料。以下，详细说明根据本发明具体实施例的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。根据本发明一实施例所提供的沉积材料洗涤液组合物，包含N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)；以及1，3- 二甲基-2-咪唑啉酮(1， 3-Dimethy1-2-imidazolidinone)。N-甲基-2-吡咯烷酮对在光电设备的制造过程中所使用的沉积材料，尤其对包含在沉积材料中的高分子有机物质(例如，芳基胺类化合物、咔唑类化合物、聚苯撑乙烯类化合物、聚苯类化合物等)的溶解度不理想，因此为了去除不必要的沉积部分，需要使滞留在洗涤溶液内的时间变长或在洗涤过程中追加使用超声波。本申请的发明人通过实验确认，若使用同时包含所述N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)和 1，3_ 二甲基-2-咪唑啉酮(1， 3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的洗涤液，则可迅速去除溶解度相对小的沉积材料，借此完成了本发明。所述N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)可由如下的化学式1表示， 具有202 204°C的沸点及4. 09D左右的偶极矩(dipole moment)。[化学式1]所述1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(l，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)可由如下的化学式2表示，具有225°C左右的沸点及4. 05D左右的偶极矩(dipole moment)。[化学式2]所述N-甲基-2-吡咯烷酮与1，3-二甲基-2-咪唑啉酮具有相互类似的分子结构及偶极矩，因此可容易混合，且由于两者都具有高沸点，因此即使在混合状态下，挥发所致的组成变化也甚微，从而可确保工艺安全性。而且，所述N-甲基-2-吡咯烷酮和1，3-二甲基-2-咪唑啉酮分别具有高的偶极矩，因此包含这些物质的洗涤液组合物对于沉积材料，尤其对不易溶解的高分子材料可表现出较高的溶解度及优秀的洗涤/去除能力。进而，所述沉积材料洗涤液组合物可容易溶解芳基胺类化合物、咔唑类化合物、聚苯撑乙烯类化合物、聚苯类化合物等高分子有机物质，即 CBP0，4-N，N dicarbazole-biphenyl)、聚对亚苯(Poly (p-phenylene))、 Poly(p-phenylenvinylene)或这些物质的衍生物等，从而可在短时间内洗涤并去除。只是，这些效果是在混合特定的化合物，即所述N-甲基-2-吡咯烷酮和1，3_ 二甲基-2-咪唑啉酮时才能表现出来，如后述的实验例所示，并非单纯地混合具有高偶极矩的化合物(例如，DMSO或DMAc等)，均能表现出如上所述的效果。据此，若使用所述洗涤液组合物，则对附着在光电设备制造装置上的不必要的沉积材料无需采取搓洗(riAbing)等物理处理，也能迅速并容易去除，在洗涤所附着的不必要的沉积材料的过程中，不会发生再次附着的现象，从而无需经常更换洗涤液或过量使用洗涤液。根据本发明一实施例的沉积材料洗涤液组合物，可迅速去除附着在光电设备制造装置的不必要的沉积材料，因此可缩短制造有机发光二极管等光电设备时所需的制造工艺时间，且可降低生产费用。并且，所述N-甲基-2-吡咯烷酮和1，3-二甲基-2-咪唑啉酮对水具有很高的亲和性，因此只要使用所述沉积材料洗涤液组合物，即使洗涤步骤结束之后，光电设备制造装置上残留微量的洗涤液，也无需追加使用有机溶剂而仅通过水即可彻底去除残留的洗涤液。 不仅如此，所述两种成分对金属层的腐蚀性较低，因此几乎不会损坏光电设备制造装置。另外，所述沉积材料洗涤液组合物优选地包含5 80重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)；以及20 95重量％的1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1， 3-Dimethy1-2-imidazolidinone)。若所述N-甲基-2-吡咯烷酮低于5重量％，则对沉积材料的溶解力效果甚微，需使用过量的1，3- 二甲基-2-咪唑啉酮，所以不够经济，若超过80重量％，则对沉积材料的去除时间变长而使得整体工艺时间变长。并且，若所述1，3- 二甲基-2-咪唑啉酮低于20重量％，则对沉积材料的去除时间变长而使得工艺时间变长，若超过95重量％，则对沉积材料的溶解能力下降而洗涤能力的提高程度甚微，而且不必要的过量使用也导致不够经济。所述沉积材料洗涤液组合物可用于去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料。 而所述光电设备制造装置可包括有机发光二极管的制造装置。尤其，所述有机发光二极管的制造装置可包括用于沉积处理的防贴板或沉积掩模。在有机发光二极管的制造过程中，为了形成至少1个有机薄膜，可以使用在真空状态下将沉积材料加热而附着到基板上的沉积法。这种沉积法中，由于沉积处理过程反复进行多次，因此作为有机发光二极管制造装置的防贴板或沉积掩模的表面上会堆积沉积材料。若将堆积有沉积材料的防贴板或沉积掩模放置不管，则可能会污染沉积腔室，且由于堆积沉积材料的重量，沉积掩模会弯曲，从而会降低图案形成的精确度等工艺可靠度。而所述沉积材料洗涤液组合物可迅速去除附着的不必要的沉积材料，从而可提高工艺的可靠度，且降低有机发光二极管的制造工艺时间及费用。另外，根据本发明的另一实施例所提供的洗涤方法包括如下步骤利用所述沉积材料洗涤液组合物，去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料。如上所述，若使用同时包含所述N-甲基-2-卩比咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)和1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(l,3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的洗涤液，则即使溶解度相对低的沉积材料也可被迅速去除，因此可缩短用于制造有机发光二极管等光电设备所需的制造工艺时间以及降低生产费用。所述沉积材料洗涤液组合物优选地包含5 80重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)；以及 20 95 重量 ％ 的 1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1， 3-Dimethy1-2-imidazolidinone)。去除附着在所述光电设备制造装置上的沉积材料的步骤可以在20 70°C，优选地在25 35°C的温度下进行。在所述温度范围内，可以防止加热所致的制造装置的变形， 因此可提高光电设备制造过程的精确度及可靠度。并且，为了更加迅速去除沉积材料，在去除附着于所述光电设备制造装置上的沉积材料的步骤中，可追加使用超声波。并且，所述洗涤方法还可以包括如下步骤用水洗涤所述沉积材料已被去除的光电设备制造装置；以及烘干所述光电设备制造装置。所述沉积材料已被去除的光电设备制造装置上，可能会残留有所述沉积材料洗涤液，此时可利用水去除所述洗涤液。而且，为了去除所述水，可以追加进行烘干步骤或使用乙醇(ethanol)等酒精(alcohol)的步骤。适用所述洗涤方法的光电设备制造装置可以是有机发光二极管的制造装置，具体地可以例举在有机发光二极管的制造装置中，用于沉积处理的防贴板或沉积掩模等。对于所述洗涤方法而言，除所述内容之外，无其他限制地可追加使用用于洗涤光电设备制造装置中的常规的方法或设备及装置。根据本发明，可以提供能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而缩短制造工艺时间，降低生产费用，由于具有高沸点而可确保工艺安全性的沉积材料组合物及利用该组合物的洗涤方法。
图1为对实验例2中形成有4，4_N，N dicarbazole-biphenyl的掩模试片，用实施例4的洗涤液组合物处理前/后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片；图2为对实验例2中形成有P0Iy(P-Phenylene)的掩模试片，用实施例4的洗涤液组合物处理前/后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片；图3为对实验例2中形成有4，4_N，N dicarbazole-biphenyl的掩模试片，用实施例5的洗涤液组合物处理后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片；图4为对实验例2中形成有P0Iy(P-Phenylene)的掩模试片，用实施例5的洗涤液组合物处理后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片；图5为对实验例2中形成有4，4_N，N dicarbazole-biphenyl的掩模试片，用比较例1的洗涤液组合物处理后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片；图6为对实验例2中形成有Poly (p-phenylene)的掩模试片，用比较例1的洗涤液组合物处理后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片；图7为对实验例2中形成有4，4_N，N dicarbazole-biphenyl的掩模试片，用比较例7的洗涤液组合物处理后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片；图8为对实验例2中形成有Poly (p-phenylene)的掩模试片，用比较例7的洗涤液组合物处理后，观察到的2500倍扫描电子显微镜照片。
具体实施例方式在下述实施例中更加详细说明本发明。但，下述实施例只是本发明的例举而已，本发明的内容并非局限于这些实施例。<实施例及比较例沉积材料洗涤液组合物的制备>1、实施例1至8将以如下表1 组成的 N-Methyl-2-pyrrolidone (NMP)和 1，3-Dimethyl-2_imidaz olidinone (DMI)，在常温下混合10分钟而制备沉积材料洗涤液组合物。[表1]实施例1至8的组成
权利要求
1.一种沉积材料洗涤液组合物，其特征在于包含N-甲基-2-吡咯烷酮；以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮。
2.根据权利要求1所述的沉积材料洗涤液组合物，其特征在于包含5 80重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮；以及20 95重量％的1，3-二甲基-2-咪唑啉酮。
3.根据权利要求1所述的沉积材料洗涤液组合物，其特征在于所述组合物用于去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料。
4.根据权利要求3所述的沉积材料洗涤液组合物，其特征在于所述光电设备制造装置包括有机发光二极管的制造装置。
5.根据权利要求4所述的沉积材料洗涤液组合物，其特征在于所述有机发光二极管的制造装置包括用在沉积处理的防贴板或沉积掩模。
6.一种洗涤方法，其特征在于，包括如下步骤利用权利要求1所述的沉积材料洗涤液组合物，去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料。
7.根据权利要求6所述的洗涤方法，其特征在于，所述沉积材料洗涤液组合物包含5 80重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮；以及20 95重量％的1，3-二甲基-2-咪唑啉酮。
8.根据权利要求6所述的洗涤方法，其特征在于，去除附着在所述光电设备制造装置上的沉积材料的步骤在20 70°C下进行。
9.根据权利要求6所述的洗涤方法，其特征在于，所述光电设备制造装置包括有机发光二极管的制造装置。
10.根据权利要求8所述的洗涤方法，其特征在于，所述有机发光二极管的制造装置包括用于沉积处理的防贴板或沉积掩模。
11.根据权利要求6所述的洗涤方法，其特征在于，还包括如下步骤用水洗涤所述沉积材料已被去除的光电设备制造装置；以及烘干所述光电设备制造装置。
全文摘要
本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。
文档编号C11D7/32GK102161942SQ20111004180
公开日2011年8月24日 申请日期2011年2月18日 优先权日2010年2月19日
发明者尹锡壹, 张斗瑛, 朴善周, 权五焕, 许舜范, 辛成健, 郑世桓, 郑宗铉, 金柄郁 申请人:株式会社东进世美肯