专利名称：清洗结构及清洗设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种清洗结构及清洗设备。
背景技术：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管-液晶显示器)的生产过程中清洗工艺是最重要的工艺之一。在显影(Wioto)工程中， 在曝光之前和之后需要对玻璃基板进行清洗，并且在湿法刻蚀和显影胶(Photo Resist)剥离工程的后续都需涉及到清洗工艺。目前的清洗结构大致有喷淋(Nozzle Spray)、二流体以及高压喷淋。喷淋、二流体、高压喷淋都是将液体垂直喷淋到待清洗的玻璃基板进行，然而玻璃基板上的污渍，尤其是微粒(particle)，由于其自身体积较小(小到Ium以下)，而微粒与玻璃基板之间存在静电问题使得微粒很难从玻璃基板上清除，导致玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍。
实用新型内容本实用新型的实施例提供一种清洗结构及清洗设备，解决了现有技术中玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍的问题。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案一方面，提供了一种清洗结构，包括用于旋转的中心部件，所述中心部件连接有用于驱动所述中心部件旋转的驱动部件；所述中心部件上沿旋转轴旋转的面上均勻设置有多个出水口，所述出水口与清洗条的进水口连接，所述清洗条上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴的出水口与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角。具体的，为了简便中心部件的结构，所述中心部件可以为中心管道。具体的，为了简便清洗条的结构，所述清洗条包括子管道，所述子管道的一端为进水口，所述子管道的另一端为密封端体。为了保证所述狭缝喷嘴对待清洗基板上施力均衡，所述狭缝喷嘴均勻分布在所述子管道上。为了达到更大的水流冲击力，所述驱动部件驱动所述中心部件旋转时，所述中心部件的旋转方向与所述狭缝喷嘴的倾斜方向一致。另一方面，还提供了一种清洗设备，包括泵管道与清洗结构，所述泵管道的出水口与所述清洗结构的进水口连接，所述清洗结构包括用于旋转的中心部件，所述中心部件连接有用于驱动所述中心部件旋转的驱动部件；所述中心部件上沿旋转轴旋转的面上均勻设置有多个出水口，所述出水口与清洗条的进水口连接，所述清洗条上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴的出水口与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角。[0012]具体的，为了简便中心部件的结构，所述中心部件可以为中心管道。具体的，为了简便清洗条的结构，所述清洗条包括子管道，所述子管道的一端为进水口，所述子管道的另一端为密封端体。为了保证所述狭缝喷嘴对待清洗基板上施力均衡，所述狭缝喷嘴均勻分布在所述子管道上。为了达到更大的水流冲击力，所述驱动部件驱动所述中心部件旋转时，所述中心部件的旋转方向与所述狭缝喷嘴的倾斜方向一致。本实用新型实施例提供的清洗结构及清洗设备，由于清洗条安装在可旋转的中心部件上且清洗条上的狭缝喷嘴与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角，使得与中心部件之间距离不同的狭缝喷嘴其线速度不同以使得不同冲击力的水到达待清洗玻璃基板的表面，以达到更好的清洗效果，解决了现有技术中玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍的问题。
图1为本实用新型实施例提供的清洗结构的结构示意图；图2为图1所示的清洗结构中清洗条的剖面图；图3为本实用新型实施例提供的清洗设备的结构示意具体实施方式
本实用新型实施例提供一种清洗结构及清洗设备，解决了现有技术中玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍的问题。
以下结合附图对本实用新型实施例提供的显示装置进行详细描述。如图1所示，本实用新型实施例提供的清洗结构，包括用于旋转的中心部件11，所述中心部件11连接有用于驱动所述中心部件11旋转的驱动部件12 ；所述中心部件11上沿旋转轴旋转的面上均勻设置有多个出水口，所述出水口与清洗条13的进水口连接，所述清洗条13上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴14，如图2 所示，所述狭缝喷嘴14的出水口与待清洗的玻璃基板15的垂直方向存在夹角。具体的，为了简便中心部件的结构，所述中心部件可以为中心管道。具体的，为了简便清洗条的结构，所述清洗条包括子管道，所述子管道的一端为进水口，所述子管道的另一端为密封端体。值得说明的是，所述子管道可以是聚氯乙烯 (Polyvinylchloride, PVC)材料的管道。本实用新型实施例提供的清洗结构，由于清洗条安装在可旋转的中心部件上且清洗条上的狭缝喷嘴与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角，使得与中心部件之间距离不同的狭缝喷嘴其线速度不同以使得不同冲击力的水到达待清洗玻璃基板的表面，以达到更好的清洗效果，解决了现有技术中玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍的问题。为了保证所述狭缝喷嘴对待清洗基板上施力均衡，所述狭缝喷嘴均勻分布在所述子管道上。为了达到更大的水流冲击力，所述驱动部件驱动所述中心部件旋转时，所述中心部件的旋转方向与所述狭缝喷嘴的倾斜方向一致。如图3所示，本实用新型实施例提供的清洗设备，包括泵管道31与如图1和2所示的清洗结构32，所述泵管道的出水口与所述清洗结构的进水口连接。所述清洗结构的具体结构与上述实施例相同，此处不再赘述。本实用新型实施例提供的清洗设备，由于清洗条安装在可旋转的中心部件上且清洗条上的狭缝喷嘴与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角，使得与中心部件之间距离不同的狭缝喷嘴其线速度不同以使得不同冲击力的水到达待清洗玻璃基板的表面，以达到更好的清洗效果，解决了现有技术中玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍的问题。为了保证所述狭缝喷嘴对待清洗基板上施力均衡，所述狭缝喷嘴均勻分布在所述子管道上。为了达到更大的水流冲击力，所述驱动部件驱动所述中心部件旋转时，所述中心部件的旋转方向与所述狭缝喷嘴的倾斜方向一致。本实用新型实施例提供的清洗结构及清洗设备可以应用在清洗工艺中。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种清洗结构，其特征在于，包括用于旋转的中心部件，所述中心部件连接有用于驱动所述中心部件旋转的驱动部件；所述中心部件上沿旋转轴旋转的面上均勻设置有多个出水口，所述出水口与清洗条的进水口连接，所述清洗条上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴的出水口与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角。
2.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述中心部件为中心管道。
3.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述清洗条包括子管道，所述子管道的一端为进水口，所述子管道的另一端为密封端体。
4.根据权利要求3所述的清洗结构，其特征在于，所述狭缝喷嘴均勻分布在所述子管道上。
5.根据权利要求1-4任一项所述的清洗结构，其特征在于，所述驱动部件驱动所述中心部件旋转时，所述中心部件的旋转方向与所述狭缝喷嘴的倾斜方向一致。
6.一种清洗设备，包括泵管道与清洗结构，所述泵管道的出水口与所述清洗结构的进水口连接，其特征在于所述清洗结构包括用于旋转的中心部件，所述中心部件连接有用于驱动所述中心部件旋转的驱动部件；所述中心部件上沿旋转轴旋转的面上均勻设置有多个出水口，所述出水口与清洗条的进水口连接，所述清洗条上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴的出水口与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角。
7.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述中心部件为中心管道。
8.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗条包括子管道，所述子管道的一端为进水口，所述子管道的另一端为密封端体。
9.根据权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，所述狭缝喷嘴均勻分布在所述子管道上。
10.根据权利要求6-9任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述驱动部件驱动所述中心部件旋转时，所述中心部件的旋转方向与所述狭缝喷嘴的倾斜方向一致。
专利摘要本实用新型公开了一种清洗结构及清洗设备，涉及半导体技术领域，能够解决的现有技术中玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍的问题。本实用新型提供的清洗设备，包括泵管道与清洗结构，所述泵管道的出水口与所述清洗结构的进水口连接，所述清洗结构包括用于旋转的中心部件，所述中心部件连接有用于驱动所述中心部件旋转的驱动部件；所述中心部件上沿旋转轴旋转的面上均匀设置有多个出水口，所述出水口与清洗条的进水口连接，所述清洗条上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴的出水口与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角。本实用新型可以应用清洗工艺中。
文档编号B08B3/02GK202316390SQ201120468228
公开日2012年7月11日 申请日期2011年11月22日 优先权日2011年11月22日
发明者吴代吾, 周伯柱, 杨子衡, 王世凯, 王建伟, 郑载润 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司