专利名称：一种基板清洗设备及基板清洗系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及显示器制造领域，尤其涉及一种基板清洗设备及基板清洗系统。
背景技术：
在TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)的制造过程中，清洗设备需要对进行光刻技术前的基板(即涂覆光刻胶之前的基板)进行清洗，以去除基板表面的杂质。当前基板清洗的过程中，往往采用两台基板清洗设备交替工作的方式进行基板清洗。在两台基板清洗设备上分别设定好清洗周期、清洗数量后，两台设备轮流定时进行重 置。其中，“重置”是指基板清洗设备排出废液，重新向清洗箱加入清洗液并加热的过程。清洗液由洗涤剂和水混合而成，清洗液温度通常需要达到43°C。但是，在实际的基板清洗过程中，第一台基板清洗设备先进行清洗，基板位于基板清洗设备上面的流水线上，基板清洗设备通过内部设置的抽水装置将清洗液抽上去，再由基板清洗设备的喷洒装置向流水线上的基板喷洒清洗液，以清洗基板。随着流片的进行(“流片”是指基板通过流水线的运输经过基板清洗设备清洗的过程)，基板会带走部分清洗液，导致在清洗基板的数量还没有达到第一台基板清洗设备预设数量时，清洗液就已经低于液位底线。这时，第一台基板清洗设备需要将清洗液补充满并且重新重置。第一台基板清洗设备进行重置时，第二台基板清洗设备进行基板清洗。当第一台基板清洗设备重置完成后，再切换回第一台基板清洗设备进行基板清洗。这时，由于第一台基板清洗设备已经清洗了一定数量的基板，因此，当第一台基板清洗设备达到设定好的清洗数量后，第一台基板清洗设备会排掉所有的清洗液，补充新的清洗液，这一过程造成了清洗液的极大浪费，同时重置会浪费大量时间。此外，若第一台基板清洗设备和第二台基板清洗设备同时重置，就会导致死机，则流水线上没有基板清洗设备进行工作，影响清洗效率。
发明内容
本发明的实施例提供一种基板清洗设备及基板清洗系统，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，避免流水线上由于两台基板清洗设备同时重置而引起的死机问题。为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案—方面，本发明实施例提供一种基板清洗设备，包括相互连通的清洗单元和补液单元；设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；与所述补液控制装置连接，控制所述补液控制装置动作的控制器；其中，所述清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；所述补液单元，用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液；
所述控制器，通过控制所述补液控制装置的动作，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。所述控制器，具体用于当所述清洗单元中所述清洗液的液面高度低于预设高度时，调节所述补液控制装置，以使得所述补液单元向所述清洗单元补给所述清洗液。所述控制器，具体用于当所述清洗单元中所述清洗液的液面高度低于预设高度时，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，调节所述补液控制装置，以使得所述补液单元向所述清洗单元补给相应的所述清洗液。所述控制器还用于，控制所述补液控制装置，隔断清洗液在所述清洗单元与补液单元之间的流动。所述清洗单元和所述补液单元腔体相通；所述补液控制装置包括设置在所述清洗单元和所述补液单元之间的可移动的隔 液门。所述隔液门，具体用于通过所述隔液门的上升或下降，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。所述清洗液是由洗涤剂和水混合而成的。所述基板清洗设备，还包括与所述清洗单元均连接的洗涤剂管道、注水管道、排水管道以及洗液回流管道，其中，所述洗涤剂管道，用于向所述清洗单元和补液单元内注入所述洗涤剂；所述注水管道，用于向所述清洗单元和补液单元内注入所述水；所述排水管道，用于排出所述清洗单元内的所述清洗液；所述洗液回流管道，用于使得进行基板清洗后的所述清洗液回流入所述清洗单
J Li ο所述基板清洗设备，还包括设置于所述清洗单元中的第一加热装置和第一液位传感器，其中，所述第一加热装置，用于加热所述清洗单元内的所述清洗液；所述第一液位传感器，用于检测所述清洗单元内的所述清洗液的液面高度。所述基板清洗设备，还包括设置于所述补液单元的第二加热装置和第二液位传感器，其中，所述第二加热装置，用于加热所述补液单元内的所述清洗液；所述第二液位传感器，用于检测所述补液单元内的所述清洗液的液面高度。一方面，本发明实施例提供一种基板清洗系统，包括至少两台具有上述任意特征的基板清洗设备。本发明实施例所提供的基板清洗设备及基板清洗系统，通过设置相互连通的清洗单元和补液单元，设置于清洗单元和补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置，与补液控制装置连接，控制补液控制装置动作的控制器，其中，清洗单元，用于存储清洗液，补液单元，用于存储清洗液，控制器，通过控制补液控制装置的动作，控制清洗液由补液单元流入清洗单元内。通过该方案，由于在清洗单元与补液单元之间设置了补液控制装置，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，同时，由于两台基板清洗设备都是在清洗完预设数目的基板之后才进行重置，重置时间可控，防止由于补充清洗液发生多次重置，造成两台基板清洗设备可能会同时进行重置导致死机，影响设备正常工作。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本发明实施例提供的基板清洗设备结构示意图；图2为本发明实施例提供的基板清洗设备工作流程图一；图3为本发明实施例提供的基板清洗设备工作流程图二 ；图4为本发明实施例提供的基板清洗设备工作流程图三。
具体实施例方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供一种基板清洗设备，包括相互连通的清洗单元和补液单元；设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；
与所述补液控制装置连接，控制所述补液控制装置动作的控制器；其中，所述清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；所述补液单元，用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液；所述控制器，通过控制所述补液控制装置的动作，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。示例性的，本发明实施例提供一种基板清洗设备1，如图I所示，包括相互连通的清洗单元10、补液单元11，设置于清洗单元10与补液单元11之间的，用于控制液体流动的补液控制装置12，以及与补液控制装置12连接，控制补液控制装置动作的控制器13;清洗单元10，用于存储清洗液对基板进行清洗。进一步地，基板清洗设备1，还包括与该清洗单元10均连接的洗涤剂管道14、注水管道15、排水管道16以及洗液回流管道17，其中，洗涤剂管道14，用于向清洗单元10和补液单元11内注入洗涤剂；注水管道15，用于向清洗单元10和补液单元11内注入水；排水管道16，用于排出清洗单元10内的清洗液；洗液回流管道17，用于使得进行基板清洗后的清洗液回流入清洗单元10。进一步地，基板清洗设备I，还包括设置于清洗单元10中的第一加热装置100和第一液位传感器101,其中，第一加热装置100，用于加热清洗单元10内的清洗液；第一液位传感器101，用于检测清洗单元10内清洗液的液面高度。具体地，基板清洗装备I清洗基板时，一般需要第一加热装置100将由洗涤剂和水混合而成的清洗液加热到43°C。需要说明的是，按照用户策略，第一加热装置100可以将清洗液加热到43°C后停止工作，当清洗液的温度小于43°C的时候再进行加热，也可以将清洗液加热到43°C后保持恒温，维持清洗液的温度一直是43°C。本发明实施例中，在进行基板清洗过程中，基板会带走部分清洗液。随着基板清洗数量的增加，当第一液位传感器101检测到清洗单元10内的清洗液的液面高度已经低于基板清洗设备I的预设高度时，补液单元11就需要向清洗单元10适应性的补充清洗液。补 液单元11如何向清洗单元10适应性的补充清洗液的过程将会在下面详细描述。需要补充的是，第一液位传感器101，不仅用于检测清洗单元10内的清洗液的液面高度是否已经低于基板清洗设备I的预设高度，还用于检测当基板清洗设备I清洗基板的数量等于基板清洗设备I清洗基板的预设数量，排掉所有的清洗液，补充新的清洗液时，检测清洗液是否已经充满基板清洗设备I。首先，结合洗涤剂管道14、注水管道15、排水管道16以及洗液回流管道17，说明基板清洗设备I的清洗单元10清洗基板2的工作流程。本发明实施例提供的基板清洗设备I清洗基板2时，如图2所示，基板2位于基板清洗设备I上面的传送装置3上，基板清洗设备I通过抽水装置18将清洗液抽送至喷洒装置19 (清洗液的流向如图2中实线箭头所示)，以向流水线上的基板2喷洒清洗液，进而清洗基板2，清洗过基板2的清洗液通过洗液回流管道17回流到清洗单元10内循环利用(清洗液的流向如图2中虚线箭头所示)。当基板清洗设备I清洗过的基板的数量等于清洗基板的预设数量时，基板清洗设备I通过排水管道16排出废液，再通过洗涤剂管道14和注水管道15按照一定的比例向清洗单元10内注入洗涤剂和水，混合成清洗液，以准备进入下一轮的清洗过程。需要说明的是，用来清洗基板2的清洗液是洗涤剂和水按照一定比例混合而成的，通过洗涤剂管道14和注水管道15按照一定的比例向清洗单元10内分别注入洗涤剂和水，以使洗涤剂和水混合成清洗液。补液单元11，用于存储清洗液向所述清洗单元补充清洗液。进一步地，基板清洗设备I还包括设置于补液单元11中的第二加热装置110和第二液位传感器111，其中，第二加热装置110，用于加热补液单元11内的清洗液；第一液位传感器101，用于检测补液单元11内清洗液的液面高度。具体地，基板清洗装备I清洗基板时，一般需要第二加热装置110将由洗涤剂和水混合而成的清洗液加热到43°C。需要说明的是，第二加热装置110可以将清洗液加热到43°C后停止工作，当清洗液的温度小于43°C的时候再进行加热，也可以将清洗液加热到43°C后保持恒温，维持清洗液的温度一直是43°C，本发明不做限制。同时，由于第二加热装置110使得补液单元的清洗液的温度维持在43°C，当清洗单元需要补给清洗液时，从补液单元补充的清洗液可以直接使用而不用另外进行重置加热，进而减少了基板清洗设备重置的时间，提高了基板清洗的效率。其次，将对补液单元11如何适应性地向清洗单元10补给清洗液的过程进行说明。本发明实施例的基板清洗过程中，清洗过的基板会带走部分清洗液，随着基板清洗数量的增加，当第一液位传感器101检测到清洗单元10内的清洗液的液面高度已经低于基板清洗设备I的预设高度时，补液单元11就需要向清洗单元10适应性的补充清洗液。补液单元11通过第二液位传感器111，检测补液单元11内的清洗液的液面高度，然后根据基板清洗设备I已经清洗的基板数量 和需要清洗的基板的预设数量的差值，适应性的向清洗单兀10内补充清洗液。需要补充的是，第二液位传感器111，不仅用于检测补液单元11内的清洗液的液面高度，以适应性的向清洗单元10内补充清洗液，还用于检测当基板清洗设备I清洗基板的数量等于基板清洗设备I清洗基板的预设数量，排掉所有的清洗液，补充新的清洗液时，检测清洗液是否已经充满基板清洗设备I。补液控制装置12，用于控制补液单元11和清洗单元10内清洗液的流动。控制器13具体用于当清洗单元10中清洗液的液面高度低于预设高度时，调节补液控制装置12，控制清洗液由补液单元11流入清洗单元10内，以使得补液单元11向清洗单元10补给相应的清洗液。具体地，当清洗单元10中清洗液的液面高度低于预设高度时，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，调节补液控制装置12，以使得补液单元11向清洗单元10补给相应量的清洗液。进一步地，控制器13还用于，控制补液控制装置12，隔断清洗单元10与补液单元11之间的液体流动。具体地，当清洗单元10和补液单元11补液完成后，控制器13，还用于关闭补液控制装置12，隔断清洗单元10与补液单元11之间的液体流动。需要说明的是，当基板清洗设备清洗完预设数目的基板后，清洗单元10内的清洗液会全部排空，需要重新注入新的清洗液，在注入过程中，控制器13，还用于控制补液控制装置12连通所述清洗单元10和补液单元11，使得新的清洗液充满所述清洗单元10和补液单元11。最后，将对控制器13如何控制补液控制装置12，将补液单元11的清洗液补充至清洗单元10的过程进行说明。现有技术中的基板清洗设备在基板清洗过程中，一条流水线上至少有两台基板清洗设备投入工作，第一台基板清洗设备先进行清洗，清洗过的基板会带走部分清洗液，导致清洗基板的数量没有达到第一台基板清洗设备的预设数量时，清洗液的液面高度就已经低于基板清洗设备清洗液面的预设高度，这时第一台基板清洗设备需要将清洗液补充满并且重新重置，其中，重置是指基板清洗设备排出废液，重新向清洗箱加入清洗液并加热的过程，在第一台基板清洗设备进行重置时，第二台基板清洗设备进行基板清洗，当第一台基板清洗设备重置完成后，再切换回第一台基板清洗设备进行基板清洗，这时，由于第一台基板清洗设备已经清洗了一定数量的基板，因此，当第一台基板清洗设备清洗基板的数量等于基板清洗设备清洗基板的预设数量后，第一台基板清洗设备会排掉所有的清洗液，补充新的清洗液，这一过程造成了清洗液的极大浪费，同时重置会浪费大量时间。若第一台基板清洗设备和第二台基板清洗设备同时重置，则流水线上没有基板清洗设备进行工作，就会导致死机。本发明实施例提供的基板清洗设备I在基板清洗过程中，基板会带走部分清洗液，随着基板清洗数量的增加，当第一液位传感器101检测到清洗单元10内的清洗液的液面高度已经低于基板清洗设备I的预设高度时，补液单元11就需要向清洗单元10适应性的补充清洗液，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，控制器13调节补液控制装置12，以使得补液单元11向清洗单元10补给相应的清洗液。示例性的，预先设定基板清洗设备I需要清洗基板的预设数量为150块基板，清洗液液面的预设高度为80厘米，在实际的基板清洗过程中，当基板清洗设备I充满清洗液时，清洗液的液面高度为100厘米，清洗过的基板会带走部分清洗液，当基板清洗设备I清洗基 板的数量达到130块的时候，第一液位传感器101检测到清洗单元10内的清洗液的液面高度已经低于基板清洗设备I的预设高度80厘米，这时补液单元11就需要向清洗单元10适应性的补充清洗液，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，该基板清洗设备还需清洗20块基板就能进行重置，控制器13调节补液控制装置12，以使得补液单元11向清洗单元10补给需要清洗余下20块基板的相应的清洗液，与现有技术相比，本发明实施例提供的基板清洗设备I能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，最大程度地节省了清洗液。需要补充的是，控制器13调节补液控制装置12，补液单元11向清洗单元10补给需要清洗余下20块基板的清洗液，所补充的清洗液数量要比清洗20块基板所需要的清洗液的数量略大，因为随着流片的进行，基板会带走部分清洗液，这样会导致所补充的清洗20块基板所需要的清洗液不足以清洗20块基板，一般情况下，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，补液单元11向清洗单元10补充比已清洗的基板的数量和预设数量的差值略大的相应的清洗液。当清洗单元10清洗基板的数量等于预设数量时，基板清洗设备I进行重置。排水管道16会排出清洗单元10内的所有清洗液。排出所有清洗液后，控制器13会打开补液控制装置12，使清洗单元10和补液单元11相连通，洗涤剂管道14和注水管道15按照一定的比例向清洗单元10内注入洗涤剂和水,使清洗液充满清洗单元10和补液单元11。当清洗单元10和补液单元11补液完成后，控制器13，还用于关闭补液控制装置12，隔断清洗单元10与补液单元11之间的液体流动，这时第一加热装置100和第二加热装置110分别对清洗单元10和补液单元11内的清洗液进行加热。示例性的，如图3所示，补液控制装置可以是设立在相互连通的清洗单元10和补液单元11之间的一扇可移动的隔液门12，该隔液门12，用于通过隔液门12的上升和下降，控制清洗液由补液单元11流入清洗单元10内。需要说明的是，清洗单元10和补液单元11腔体相通，例如，清洗单元10和补液单元11可以是两个单独的腔体，清洗单元10和补液单元11通过一根管道相连(如图I所示)，当补液单元11向清洗单元10补给相应的清洗液时,通过挤压、抽水等方式向清洗单元10内补给相应的清洗液，也可以利用气压通过设立在相互连通的清洗单元10和补液单元11之间的一扇可移动的隔液门12控制液体的流动，本发明不做限制。在实际工作时，采用优选方案进行工作(如图3所示)，清洗单元10和补液单元11是一个完整的腔体，补液控制装置是设立在相互连通的清洗单元10和补液单元11之间的一扇可移动的隔液门12，通过隔液门12的上升和下降，控制清洗液由补液单元11流入清洗单元10内。具体地，基板清洗装置I的工作流程上述实施例已经进行描述，此处不再赘述。下面将对控制器13如何控制隔液门12，将补液单元11的清洗液补充至清洗单元10的过程进行说明。现有技术中的基板清洗设备在基板清洗过程中，一条流水线上至少有两台基板清洗设备投入工作，第一台基板清洗设备先进行清洗，清洗过的基板会带走部分清洗液，导致清洗基板的数量没有达到第一台基板清洗设备的预设数量时，清洗液的液面高度就已经低于基板清洗设备清洗液面的预设高度，这时第一台基板清洗设备需要将清洗液补充满并且重新重置，其中，重置是指基板清洗设备排出废液，重新向清洗箱加入清洗液并加热的过程，在第一台基板清洗设备进行重置时，第二台基板清洗设备进行基板清洗，当第一台基板清洗设备重置完成后，再切换回第一台基板清洗设备进行基板清洗，这时，由于第一台基板·清洗设备已经清洗了一定数量的基板，因此，当第一台基板清洗设备清洗基板的数量等于基板清洗设备清洗基板的预设数量后，第一台基板清洗设备会排掉所有的清洗液，补充新的清洗液，这一过程造成了清洗液的极大浪费，同时重置会浪费大量时间。若第一台基板清洗设备和第二台基板清洗设备同时重置，则流水线上没有基板清洗设备进行工作，进而导致死机。本发明实施例提供的基板清洗设备I在基板清洗过程中，基板会带走部分清洗液，随着基板清洗数量的增加，当第一液位传感器101检测到清洗单元10内的清洗液的液面高度已经低于基板清洗设备I的预设高度时，补液单元11就需要向清洗单元10适应性的补充清洗液，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，控制器13调节隔液门12下降相应的高度，以使得补液单元11向清洗单元10补给相应的清洗液。示例性的，预先设定基板清洗设备I需要清洗基板的预设数量为150块基板，清洗液液面的预设高度为80厘米，在实际的基板清洗过程中，当基板清洗设备I充满清洗液时，清洗液的液面高度为100厘米，清洗过的基板会带走部分清洗液，当基板清洗设备I清洗基板的数量达到130块的时候，第一液位传感器101检测到清洗单元10内的清洗液的液面高度已经低于基板清洗设备I的预设高度80厘米，这时补液单元11就需要向清洗单元10适应性的补充清洗液，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，该基板清洗设备还需清洗20块基板就能进行重置，控制器13调节隔液门12下降相应的高度，以使得补液单元11向清洗单元10补给需要清洗余下20块基板的相应的清洗液，与现有技术相比，本发明实施例提供的基板清洗设备I能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，最大程度地节省了清洗液。同时，由于第二加热装置110使得补液单元的清洗液的温度维持在43°C，当清洗单元需要补给清洗液时，从补液单元补充的清洗液可以直接使用而不用另外进行重置加热，进而减少了基板清洗设备重置的时间，提高了基板清洗的效率。需要补充的是，控制器13调节隔液门12下降相应的高度，补液单元11向清洗单元10补给需要清洗余下20块基板的清洗液，所补充的清洗液数量要比清洗20块基板所需要的清洗液的数量略大，因为随着流片的进行，基板会带走部分清洗液，这样会导致所补充的清洗20块基板所需要的清洗液不足以清洗20块基板，一般情况下，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，补液单元11向清洗单元10补充比已清洗的基板的数量和预设数量的差值略大的相应的清洗液。当清洗单元10清洗基板的数量等于预设数量时，基板清洗设备I进行重置。排水管道16会排出清洗单元10内的所有清洗液。排出所有清洗液后，控制器13会控制隔液门12上升，使清洗单元10和补液单元11相连通，洗涤剂管道14和注水管道15按照一定的比例向清洗单元10内注入洗涤剂和水,使清洗液充满清洗单元10和补液单元11。当清洗单元10和补液单元11补液完成后，控制器13，还用于关闭隔液门12，以使得补液单元11的清洗液不流入清洗单元10，这时第一加热装置100和第二加热装置110分别对清洗单元10和补液单元11内的清洗液进行加热。需要补充的是，隔液门12的结构可以是类似“推拉门”的结构，由控制器13控制隔液门的隔扇上升或下降，隔液门12的结构也可以是卷帘门、折叠门等结构，本发明不做 限制。示例性的，如图4所示，相互连通的清洗单元10和补液单元11可以是上下结构设置的，同样可以达到适应性通过补液单元11向清洗单元10补给清洗液，节省了清洗液的目的。本发明实施例提供的基板清洗设备I在基板清洗过程中，基板会带走部分清洗液，随着基板清洗数量的增加，当第一液位传感器101检测到清洗单元10内的清洗液的液面高度已经低于基板清洗设备I的预设高度时，补液单元11就需要向清洗单元10适应性的补充清洗液，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，控制器13调节补液控制装置12,以使得补液单元11向清洗单元10补给相应量的清洗液。当清洗单元10清洗基板的数量等于预设数量时，基板清洗设备I进行重置。排水管道16会排出清洗单元10内的所有清洗液。排出所有清洗液后，控制器13会打开补液控制装置12，使清洗单元10和补液单元11相连通，洗涤剂管道14和注水管道15按照一定的比例向清洗单元10内注入洗涤剂和水,使清洗液充满清洗单元10和补液单元11。当清洗单元10和补液单元11补液完成后，控制器13，还用于关闭补液控制装置12，以使得补液单元11的清洗液不流入清洗单元10，这时第一加热装置100和第二加热装置110分别对清洗单元10和补液单元11内的清洗液进行加热。本发明实施例所提供的基板清洗设备，通过设置相互连通的清洗单元和补液单元，设置于清洗单元和补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置，与补液控制装置连接，控制补液控制装置动作的控制器，其中，清洗单元，用于存储清洗液，补液单元，用于存储清洗液，控制器，通过控制补液控制装置的动作，控制清洗液由补液单元流入清洗单元内。通过该方案，由于在清洗单元与补液单元之间设置了补液控制装置，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省了清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，同时，由于两台基板清洗设备都是在清洗完预设数目的基板之后才进行重置，重置时间可控，防止由于补充清洗液发生多次重置，造成两台基板清洗设备可能会同时进行重置导致死机，影响设备正常工作。本发明实施例还提供一种基板清洗系统，包括至少两台具有上述任意特征的基板清洗设备。
每条流水线上均设置有至少两台上述的基板清洗设备，至少两台本发明实施例提供的基板清洗设备采用交替工作的方式进行基板清洗。示例性的，每条流水线上有两台基板清洗设备，为方便描述，分别称该两台基板清洗设备为第一基板清洗设备和第二基板清洗设备，第一基板清洗设备和第二基板清洗设备采用交替工作的方式进行基板清洗。若第一基板清洗设备清洗基板的数量达到了预设数量，则第一基板清洗设备进行重置，当第一基板清洗设备进行重置时，第二基板清洗设备投入工作，当第二基板清洗设备进行重置时，第一基板清洗设备投入工作，两台设备轮流定时进行重置。需要说明的是，第一基板清洗设备进行重置时，第二基板清洗设备投入工作，第二基板清洗设备清洗预设数量的基板的时间大于第一基板清洗设备重置的时间，所以当第二基板清洗设备进行重置时，第一基板清洗设备肯定能投入工作，则流水线上一直会有一台基板清洗设备投入工作。本发明实施例所提供的基板清洗系统，该系统包括至少两台具有上述任意特征的·基板清洗设备，所述清洗设备通过设置相互连通的清洗单元和补液单元，设置于清洗单元和补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置，与补液控制装置连接，控制补液控制装置动作的控制器，其中，清洗单元，用于存储清洗液，补液单元，用于存储清洗液，控制器，通过控制补液控制装置的动作，控制清洗液由补液单元流入清洗单元内。通过该方案，由于在清洗单元与补液单元之间设置了补液控制装置，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间。同时，由于两台基板清洗设备都是在清洗完预设数目的基板之后才进行重置，重置时间可控，防止由于补充清洗液发生多次重置，造成两台基板清洗设备可能会同时进行重置导致死机，影响设备正常工作。以上所述，仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括 相互连通的清洗单元和补液单元； 设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置； 与所述补液控制装置连接，控制所述补液控制装置动作的控制器； 其中，所述清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗； 所述补液单元，用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液； 所述控制器，通过控制所述补液控制装置的动作，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。
2.根据权利要求I所述的基板清洗设备，其特征在于，所述控制器，具体用于当所述清洗单元中所述清洗液的液面高度低于预设高度时，调节所述补液控制装置，以使得所述补液单元向所述清洗单元补给所述清洗液。
3.根据权利要求2所述的基板清洗设备，其特征在于，所述控制器，具体用于当所述清洗单元中所述清洗液的液面高度低于预设高度时，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，调节所述补液控制装置，以使得所述补液单元向所述清洗单元补给相应量的所述清洗液。
4.根据权利要求I或2或3所述的基板清洗设备，其特征在于，所述控制器还用于，控制所述补液控制装置，隔断所述清洗液在所述清洗单元与补液单元之间的流动。
5.根据权利要求I所述的基板清洗设备，其特征在于， 所述清洗单元和所述补液单元腔体相通； 所述补液控制装置包括设置在所述清洗单元和所述补液单元之间的可移动的隔液门。
6.根据权利要求5所述的基板清洗设备，其特征在于，所述隔液门，具体用于通过所述隔液门的上升或下降，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。
7.根据权利要求I所述的基板清洗设备，其特征在于，所述清洗液是由洗涤剂和水混合而成的。
8.根据权利要求7所述的基板清洗设备，其特征在于，还包括与所述清洗单元均连接的洗涤剂管道、注水管道、排水管道以及洗液回流管道，其中， 所述洗涤剂管道，用于向所述清洗单元和补液单元内注入所述洗涤剂； 所述注水管道，用于向所述清洗单元和补液单元内注入所述水； 所述排水管道，用于排出所述清洗单元内的所述清洗液； 所述洗液回流管道，用于使得进行基板清洗后的所述清洗液回流入所述清洗单元。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的基板清洗设备，其特征在于，还包括设置于所述清洗单元中的第一加热装置和第一液位传感器，其中， 所述第一加热装置，用于加热所述清洗单元内的所述清洗液； 所述第一液位传感器，用于检测所述清洗单元内的所述清洗液的液面高度。
10.根据权利要求9所述的基板清洗设备，其特征在于，还包括设置于所述补液单元的第二加热装置和第二液位传感器，其中， 所述第二加热装置，用于加热所述补液单元内的所述清洗液； 所述第二液位传感器，用于检测所述补液单元内的所述清洗液的液面高度。
11.一种基板清洗系统，其特征在于，包括至少两台如权利要求1-10所述的基板清洗设备。
全文摘要
本发明实施例提供一种基板清洗设备及基板清洗系统，涉及显示器制造领域，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，避免流水线上由于两台基板清洗设备同时重置而引起的死机问题。该基板清洗设备包括相互连通的清洗单元和补液单元；设置于清洗单元和补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；与补液控制装置连接，控制补液控制装置动作的控制器。其中，清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；补液单元，用于存储清洗液向所述清洗单元补充清洗液；控制器，通过控制补液控制装置的动作，控制清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。
文档编号B08B3/08GK102896104SQ201210391220
公开日2013年1月30日 申请日期2012年10月15日 优先权日2012年10月15日
发明者刘聪聪, 金相旭, 张建政, 徐涛, 程晋燕, 朱建涛 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司