专利名称：足浴盆的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及卫浴，具体地说是涉及一种足浴盆。
背景技术：
现有技术中，足浴盆一般是塑料制成的，这样的足浴盆具有移动方便的优点，它还具有不耐使用，容易老化的缺点，另外现有技术中的足浴盆具有一个扁平的腔体，开口部分没有向上延伸的外沿，在使用同样水的情况下淹没的比较低，不会浸泡较高的腿部部位，具有使用不便的缺点。
发明内容本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种在使用较少水的情况下能够浸泡 较高的部位、经久耐用、不易老化的足浴盆。本实用新型所采取的技术方案是足浴盆，具有一个扁平的腔体，腔体上面具有开口，其特征是所述的开口部分周围具有向上延伸的外沿，所述的足浴盆是陶瓷制成的。进一步的讲，所述的足浴盆下侧部具有第一开口。进一步的讲，所述的足浴盆上部具有第二开口。本使用新型的有益效果是由于本实用新型采取了以上结构，使得这样的足浴盆具有在使用较少水的情况下能够浸泡较高的部位、经久耐用、不易老化、排水给水方便的优点。
图I是本实用新型的剖面结构示意图。其中1、腔体 2、开口 3、外沿 4、第一开口 5、第二开口。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步的描述。如图I所示，足浴盆，具有一个扁平的腔体I，腔体I上面具有开口 2，其特征是所述的开口 2部分周围具有向上延伸的外沿3，所述的足浴盆是陶瓷制成的。进一步的讲，所述的足浴盆下侧部具有第一开口 4，这个开口可以作为排水口。进一步的讲，所述的足浴盆上部具有第二开口 5，这个开口可以作为进水口。
权利要求1.足浴盆，具有一个扁平的腔体，腔体上面具有开口，其特征是所述的开口部分周围具有向上延伸的外沿，所述的足浴盆是陶瓷制成的。
2.根据权利要求I所述的足浴盆，其特征是所述的足浴盆下侧部具有第一开口。
3.根据权利要求I或2所述的足浴盆，其特征是所述的足浴盆上部具有第二开口。
专利摘要本实用新型涉及卫浴，具体地说是涉及一种足浴盆，它具有一个扁平的腔体，腔体上面具有开口，所述的开口部分周围具有向上延伸的外沿，所述的足浴盆是陶瓷制成的，所述的足浴盆下侧部具有第一开口，所述的足浴盆上部具有第二开口，这样的足浴盆具有在使用较少水的情况下能够浸泡较高的部位、经久耐用、不易老化、排水给水方便的优点。
文档编号A47K3/022GK202723692SQ20122036263
公开日2013年2月13日 申请日期2012年7月26日 优先权日2012年7月26日
发明者张延伟 申请人:长葛市新大都瓷业有限公司