专利名称：一种硅料清洗装置组的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光电领域，具体涉及一种硅料清洗装置组。
背景技术：
光电领域中，硅是非常重要和常用的半导体原料，是太阳能电池最理想的原材料。制备硅片的原料表面一般都会有杂质和一些氧化物，必须要经过清洗后才能进入后续工序使用。但是目前生产操作中，由于很多硅料的清洗设备采用酸洗、碱洗、水冲洗和超声清洗为一体的封闭式操作，所以无法实施监控，必须要等硅原料清洗程序结束后，才能观察到硅料的清洗情况；硅原料通过这种方法清洗时一般只能按照酸洗、冲洗、碱洗、冲洗、超声洗的流程进行清洗，但原料表面的杂质组分不同，机械地按照基本流程进行清洗原料，不仅费时费力，而且还造成了原料的不必要浪费，降低了生产效率。
发明内容本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种硅料清洗装置组，将硅原料的清洗按照原料表面杂质的不同进行不同的清洗流程。本实用新型所采取的技术方案是一种灵活清洗硅料的装置组，包括冲淋清洗机，所述冲淋清洗机的四周分别设有酸性清洗机、酸性浸泡机、碱性清洗机和超声清洗机。本实用新型进一步改进方案是，所述酸性清洗机位于酸性浸泡机的对面，所述碱性清洗机位于超声清洗机的对面。本实用新型更进一步改进方案是，所述冲淋清洗机的型号为SGPR-05硅料清洗机。本实用新型更进一步改进方案是，所述酸性清洗机的型号为SGPR-04硅料酸洗机。本实用新型更进一步改进方案是，所述酸性浸泡机的型号为SGPR-05硅料浸泡机。本实用新型更进一步改进方案是，所述碱性清洗机的型号为SGSR-04硅料碱洗机。本实用新型更进一步改进方案是，所述超声清洗机的型号为SGR28-05手动硅料清洗机。本实用新型的有益效果在于用本实用新型进行硅原料的清洗时，先将硅原料放入冲淋清洗机内预冲洗，并在冲洗后对硅原料的表面进行检测；根据检测将表面无附着物的硅原料送入超声清洗机中清洗，将表面有少许杂质的硅原料放入酸性清洗机进行酸洗，将表面杂质较多的硅原料放入酸性浸泡机内浸泡数小时；将经过酸洗或酸浸泡的硅原料放入冲淋清洗机中进行冲洗，冲洗后对硅原料表面进行观察；根据观察将表面没有残留污垢的硅原料放入超声清洗机进行超声清洗，将表面仍有残留污垢的硅原料放入碱性清洗机内进行碱洗；将经过碱洗的硅原料放入冲淋清洗机中进行冲洗，之后再将硅原料送入超声清洗机中清洗。从上述工作过程可知，用本实用新型进行硅原料的清洗，既能够进行实时监控，又能保证硅原料的清洗质量，还能减少硅原料的损耗，节省成本、提高效率。
图1为本实用新型位置俯视示意图。
具体实施方式
如图1所示，本实用新型包括冲淋清洗机I (本实施案例中，冲淋清洗机I的型号为SGPR-05硅料清洗机)，所述冲淋清洗机I的四周分别设有酸性清洗机2 (本实施案例中，酸性清洗机2的型号为SGPR-04硅料酸洗机)、酸性浸泡机3 (本实施案例中，酸性浸泡机3的型号为SGPR-05硅料浸泡机)、碱性清洗机4 (本实施案例中，碱性清洗机4的型号为SGSR-04硅料碱洗机)和超声清洗机5 (本实施案例中，超声清洗机5的型号为SGR28-05手动硅料清洗机)；所述酸性清洗机2位于酸性浸泡机3的对面，所述碱性清洗机4位于超声清洗机5的对面。本实用新型使用时，先将硅原料放入冲淋清洗机I内预冲洗，并在冲洗后对硅原料的表面进行检测；根据检测将表面无附着物的硅原料送入超声清洗机5中清洗，将表面有少许杂质的硅原料放入酸性清洗机2进行酸洗，将表面杂质较多的硅原料放入酸性浸泡机3内浸泡数小时(本实施案例中，将硅原料浸泡f 3小时);将经过酸洗或酸浸泡的硅原料放入冲淋清洗机I中进行冲洗，冲洗后对硅原料表面进行观察；根据观察将表面没有残留污垢的硅原料放入超声清洗机5进行超声清洗，将表面仍有残留污垢的硅原料放入碱性清洗机4内进行碱洗；将经过碱洗的硅原料放入冲淋清洗机I中进行冲洗，之后再将硅原料送入超声清洗机5中清洗。
权利要求1.一种硅料清洗装置组，其特征在于包括冲淋清洗机(1)，所述冲淋清洗机(I)的四周分别设有酸性清洗机(2)、酸性浸泡机(3)、碱性清洗机(4)和超声清洗机(5)。
2.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述酸性清洗机(2)位于酸性浸泡机(3)的对面，所述碱性清洗机(4)位于超声清洗机(5)的对面。
3.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述冲淋清洗机(I)的型号为SGPR-05硅料清洗机。
4.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述酸性清洗机(2)的型号为SGPR-04硅料酸洗机。
5.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述酸性浸泡机(3)的型号为SGPR-05硅料浸泡机。
6.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述碱性清洗机(4)的型号为SGSR-04硅料碱洗机。
7.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述超声清洗机(5)的型号为SGR28-05手动硅料清洗机。
专利摘要本实用新型公开了一种硅料清洗装置组，本实用新型包括冲淋清洗机，所述冲淋清洗机的四周分别设有酸性清洗机、酸性浸泡机、碱性清洗机和超声清洗机；所述酸性清洗机位于酸性浸泡机的对面，所述碱性清洗机位于超声清洗机的对面。用本实用新型行星硅原料清洗时，根据硅原料表面的不同，按照不同的流程对硅原料进行清洗。从上述工作过程可知，用本实用新型进行硅原料的清洗，既能够进行实时监控，又能保证硅原料的清洗质量，还能减少硅原料的损耗，节省成本、提高效率。
文档编号B08B7/04GK202845382SQ201220542400
公开日2013年4月3日 申请日期2012年10月23日 优先权日2012年10月23日
发明者张凌松 申请人:宿迁宇龙光电科技有限公司