专利名称：雾化异丙醇基片干燥设备的制作方法
技术领域：
本发明 涉及一种基片干燥工艺设备，尤其是雾化异丙醇基片干燥设备，该设备可以满足半导体、太阳能和LED/LCD等行业的基片干燥要求，克服基片碎片率较高的缺陷。
背景技术：
目前，用于基片干燥主要采用热烘干、旋转干燥和异丙醇蒸汽干燥这三种方式。热烘干和旋转干燥由于易产生水迹，并且旋转导致碎片率较高，因此这两种方式相对落后，一般半导体厂已经很少出现此类设备。异丙醇蒸汽干燥可以有效解决水迹和碎片的问题，但是由于采用较高浓度的异丙醇蒸汽，在安全性上必须非常小心，并且处理后的基片表面会带有很强的静电，更加容易吸附小颗粒，往往会使基片产生二次污染。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种雾化异丙醇基片干燥设备，不但可常温雾化，而且可去静电，防止二次污染。本发明通过下述技术方案解决所述的技术问题:一种雾化异丙醇基片干燥设备，由电气控制，包括外壳、干燥槽体、异丙醇存放罐、雾化装置和氮气加热器，放入基片花篮在密闭的干燥槽体内干燥，其中，所述的雾化装置由喷雾盖、和分别连接喷雾盖和异丙醇存放罐的雾化管道构成，一去静电装置安装在喷雾盖上；所述的干燥槽体内设有顶升支架，上口四面有溢流道，四周板不垂直向内有斜度，槽底有倾斜的孔板，且底部带有纯水进水的注水管和带有可调速排放阀的排水管。所述的顶升支架倾斜，底部横杆带有一定的倾斜角，两侧带导向，基片花篮放入后，基片被底部横杆顶起，并相应的倾斜。所述的喷雾盖可由气缸驱动，与氮气加热器连接，其内集成了雾化喷头和去静电装置。所述的雾化管道由316ΕΡ不锈钢，氟塑料制成。本发明的工作原理是:先对干燥槽体的槽体经纯水清洗并放空；然后，放入基片花篮，定位于顶升支架上；关闭槽盖并从底部注水至浸没基片；再从槽体顶部引入通过雾化产生的异丙醇；可控的缓慢向下排水，直至液面脱离基片底部；引入加热氮气对基片进行热吹扫，并消除基片表面静电；打开喷雾盖，完成基片干燥。本发明的优越性在于:不但可常温雾化干燥基片，而且可去静电，防止基片二次污染，并且整个过程基片没有发生运动，可以最大程度的预付碎片。
附图1本发明结构示意 图中标号说明:
1-干燥槽体； 11-溢流道； 12-注水管； 13-排水管； 2——顶升支架；
3——喷雾盖；
4——去静电装置；
5——雾化管道；
6-氮气加热器；
7——异丙醇存放罐；
8 孔板；
9——基片花篮。
具体实施例方式请参阅附图1本发明结构示意图:一种雾化异丙醇基片干燥设备，由电气控制，包括干燥槽体1、异丙醇存放罐7、雾化装置和氮气加热器6，基片花篮9放在密闭的干燥槽体I内干燥，其中，
所述的雾化装置由喷雾盖3、和分别连接喷雾盖3和异丙醇存放罐7的雾化管道5构成，一去静电装置4安装在喷雾盖3 ；
所述的干燥槽体I内设有倾斜的顶升支架2，上口四面有溢流道11，四周板不垂直向内有斜度，槽底设有倾斜的孔板8，且底部带有大流量进水口的纯水注水管12和带有可调速排放阀的排水管13。干燥槽体I和倾斜的顶升支架2均由兼容异丙醇且不会产生沾污的材料制成。进水后通过槽体底部的孔板8可有效的减少液面波动。采用雾化常温的异丙醇，通过密闭干燥槽体I对基片进行干燥，并且在处理过程中加入了去静电技术，以消除二次污染。且由于不需旋转基片，消除了基片的碎片率。所述的顶升支架的底部横杆21带有一定的倾斜角，两侧带导向，基片花篮9放入后，基片被底部横杆21顶起，并相应的倾斜。这样的设计能够使基片的底部与花篮接触的位置不积水，更有利于干燥。所述的喷雾盖3由气缸驱动，并与氮气加热器6连接，其内集成了雾化喷头31和去静电装置4。干燥过程中，异丙醇、氮气可分别经过管道从喷头中喷出，并经去静电装置可消除基片表面静电。所述的雾化管道5由316EP不锈钢，氟塑料制成。在上述方案基础上，所述的底部横杆带有一定的倾斜角，两侧带导向，基片花篮放入后，基片会被底部横杆顶起，并相应的倾斜一定的角度。这样的设计能够使基片的底部与花篮接触的位置不积水，更有利于干燥。所述的喷雾盖3由气缸驱动，该内集成了雾化喷头31、氮气喷头32及去静电装置
4。干燥过程中，异丙醇、氮气可分别经过管道从喷头中喷出，并经去静电装置可消除基片表面静电。雾化管道5由兼容异丙醇且不会产生沾污的材料制成，如316EP不锈钢，氟塑料(PFA)0本发明的工作原理是:先对干燥槽体I的槽体经纯水清洗并放空；然后，放入基片花篮，定位于顶升支架2上；关闭槽盖11并从底部注水至浸没基片；再从槽体顶部引入通过雾化产生的异丙醇；可控的缓慢向下排水，直至液面脱离基片底部；引入加热氮气对基片进行热吹扫，并消除基片表面静电；打开喷雾盖，完成基片干燥。
权利要求
1.一种雾化异丙醇基片干燥设备，由电气控制，包括外壳、干燥槽体(I)、异丙醇存放罐、雾化装置和氮气加热器(6)，基片花篮(9)放在密闭的干燥槽体(I)内干燥，其特征在于，所述的雾化装置由喷雾盖(3)、和分别连接喷雾盖(3)和异丙醇存放罐(7)的雾化管道(5)构成，一去静电装置(4)安装在喷雾盖(3)上；所述的干燥槽体(I)内设有顶升支架(2)，上口四面有溢流道(11 )，四周板不垂直向内有斜度，槽底有倾斜的孔板(8)，且底部带有纯水进水的注水管(12)和带有可调速排放阀的排水管(13)。
2.根据权利要求1所述的雾化异丙醇基片干燥设备，其特征在于，所述的顶升支架(2)倾斜，底部横杆(21)带有一定的倾斜角，两侧带导向，基片花篮放入后，基片被底部横杆(21)顶起，并相应的倾斜。
3.根据权利要求1所述的雾化异丙醇基片干燥设备，其特征在于，所述的喷雾盖(3)由气缸驱动与氮气加热器(6)连接，其内集成了雾化喷头(31)和去静电装置(4)。
4.根据权利要求1所述的雾化异丙醇基片干燥设备，其特征在于，所述的雾化管道(5)由316EP不锈钢，氟塑料制成。
全文摘要
本发明涉及一种雾化异丙醇基片干燥设备，由电气控制，包括外壳、干燥槽体、异丙醇存放罐、雾化装置和氮气加热器，基片花篮放在密闭的干燥槽体内干燥，其中，所述的雾化装置由喷雾盖、和分别连接喷雾盖和异丙醇存放罐的雾化管道构成，一去静电装置安装在喷雾盖上；所述的干燥槽体内设有顶升支架，上口四面有溢流道，四周板不垂直向内有斜度，槽底有倾斜的孔板，且底部带有纯水进水的注水管和带有可调速排放阀的排水管。本发明的优越性在于不但可常温雾化干燥基片，而且可去静电，防止基片发生碎片。
文档编号B08B3/04GK103111436SQ201310096778
公开日2013年5月22日 申请日期2013年3月25日 优先权日2013年3月25日
发明者赵国飞, 瞿稚华, 唐春铭, 王飞 申请人:上海旭熠电子技术有限公司