一种ito导电玻璃清洗工艺的制作方法

文档序号:1453687阅读:718来源:国知局
一种ito导电玻璃清洗工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种ITO导电玻璃清洗工艺,所述工艺包括首先将切割好后的玻璃放置在清洗架中,然后将装有玻璃的清洗架放置在第一去离子水池中浸泡第一预设时间,然后将浸泡处理后的所述装有玻璃的清洗架放入第一酒精池中进行振动清洗第二预设时间;然后将振动清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一丙酮池中进行超声清洗第三预设时间;然后将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间;最后将清洗完成后的玻璃取出存放,实现了ITO导电玻璃清洗工艺设计合理,清洗效果较好,ITO导电玻璃表面杂质较少,产品次品率较低,且不容易破坏玻璃表面的导电层的技术效果。
【专利说明】—种ITO导电玻璃清洗工艺

【技术领域】
[0001]本发明涉及工业加工领域,尤其涉及一种ITO导电玻璃清洗工艺。

【背景技术】
[0002]ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上,利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡(俗称ΙΤ0)膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃,还会在镀ITO层之前,镀上一层二氧化硅阻挡层,以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理,以得到更均匀的显示控制。液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃,所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。
[0003]在工业加工中,采购回来的是大片的ITO导电玻璃,需要进行切割成需要的尺寸才能进行加工,而在切割后都需要进行清洗处理,现有技术中通常使用去离子水直接清洗,然后晾干后进行加工处理,清洗工艺简单,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多。
[0004]综上所述,本申请发明人在实现本申请实施例中发明技术方案的过程中,发现上述技术至少存在如下技术问题:
在现有技术中,由于通常使用去离子水直接清洗,然后晾干后进行加工处理,清洗工艺简单,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多,所以,现有技术中的ITO导电玻璃清洗工艺存在步骤简单,清洗效果较差,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多的技术问题。


【发明内容】

[0005]本发明提供了一种ITO导电玻璃清洗工艺,解决了现有技术中的ITO导电玻璃清洗工艺存在步骤简单,清洗效果较差,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多的技术问题,实现了 ITO导电玻璃清洗工艺设计合理,清洗效果较好,ITO导电玻璃表面杂质较少,产品次品率较低的技术效果。
[0006]为解决上述技术问题,本申请实施例提供了一种ITO导电玻璃清洗工艺,所述工艺包括:
首先,将切割好后的玻璃放置在清洗架中;
然后,将装有玻璃的清洗架放置在第一去离子水池中浸泡第一预设时间;
然后,将浸泡处理后的所述装有玻璃的清洗架放入第一酒精池中进行振动清洗第二预设时间;
然后,将振动清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一丙酮池中进行超声清洗第三预设时间;
然后,将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间; 最后,将清洗完成后的玻璃取出存放。
[0007]进一步的,所述第一预设时间、所述第二预设时间、所述第三预设时间、所述第四预设时间均为lOmin。
[0008]进一步的,所述第一去离子水池中、所述第一酒精池、所述第一丙酮池、所述第二去离子水池在水平方向从左到右依次排列,所述第一去离子水池中、所述第一酒精池、所述第一丙酮池、所述第二去离子水池上方设有一传输导轨,所述清洗架通过支架与所述导轨连接,所述清洗架能够利用所述导轨在水平方向左右滑动。
[0009]进一步的,在所述步骤将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间之后还包括:
首先,将在所述第二去离子水池中清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一紫外光清洗池中进行清洗1min ;
然后,将利用紫外光清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入风干池中进行风干处理。
[0010]进一步的,所述清洗架具体为N层网状结构,且每层均设有M个玻璃放置区,所述玻璃放置区的宽度大于等于玻璃的厚度,所述玻璃放置区内表面设有缓冲垫,所述N、M均为大于等于2的正整数。
[0011]本申请实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
由于采用了首先将切割好后的玻璃放置在清洗架中,然后将装有玻璃的清洗架放置在第一去离子水池中浸泡第一预设时间,然后将浸泡处理后的所述装有玻璃的清洗架放入第一酒精池中进行振动清洗第二预设时间;然后将振动清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一丙酮池中进行超声清洗第三预设时间;然后将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间;最后将清洗完成后的玻璃取出存放的生产工艺,即多玻璃进行了多次清洗,分别采用了去离子水、酒精、丙酮以及紫外光进行清洗保障了清洗效果,且采用了多种清洗方式包括浸泡、振动清洗、超声清洗,可以将不同的杂质去除,进一步保障清洗的效果,且不破坏导电玻璃的导电层,所以,有效解决了现有技术中的ITO导电玻璃清洗工艺存在步骤简单,清洗效果较差,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多的技术问题,进而实现了 ITO导电玻璃清洗工艺设计合理,清洗效果较好,ITO导电玻璃表面杂质较少,产品次品率较低,且不容易破坏玻璃表面的导电层的技术效果。

【专利附图】

【附图说明】
[0012]图1是本申请实施例一中ITO导电玻璃清洗工艺的流程图。

【具体实施方式】
[0013]本发明提供了一种ITO导电玻璃清洗工艺,解决了现有技术中的ITO导电玻璃清洗工艺存在步骤简单,清洗效果较差,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多的技术问题,实现了 ITO导电玻璃清洗工艺设计合理,清洗效果较好,ITO导电玻璃表面杂质较少,产品次品率较低的技术效果。
[0014]本申请实施中的技术方案为解决上述技术问题。总体思路如下:
采用了首先将切割好后的玻璃放置在清洗架中,然后将装有玻璃的清洗架放置在第一去离子水池中浸泡第一预设时间,然后将浸泡处理后的所述装有玻璃的清洗架放入第一酒精池中进行振动清洗第二预设时间;然后将振动清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一丙酮池中进行超声清洗第三预设时间;然后将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间;最后将清洗完成后的玻璃取出存放的生产工艺,即多玻璃进行了多次清洗,分别采用了去离子水、酒精、丙酮以及紫外光进行清洗保障了清洗效果,且采用了多种清洗方式包括浸泡、振动清洗、超声清洗,可以将不同的杂质去除,进一步保障清洗的效果,且不破坏导电玻璃的导电层,所以,有效解决了现有技术中的ITO导电玻璃清洗工艺存在步骤简单,清洗效果较差,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多的技术问题,进而实现了 ITO导电玻璃清洗工艺设计合理,清洗效果较好,ITO导电玻璃表面杂质较少,产品次品率较低,且不容易破坏玻璃表面的导电层的技术效果。
[0015]为了更好的理解上述技术方案,下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
[0016]实施例一:
在实施例一中,提供了一种ITO导电玻璃清洗工艺,请参考图1,所述工艺包括:
S10,将切割好后的玻璃放置在清洗架中;
S20,将装有玻璃的清洗架放置在第一去离子水池中浸泡第一预设时间;
S30,将浸泡处理后的所述装有玻璃的清洗架放入第一酒精池中进行振动清洗第二预设时间;
S40,将振动清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一丙酮池中进行超声清洗第三预设时间;
S50,将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间;
S60,将清洗完成后的玻璃取出存放。
[0017]其中,在本申请实施例中,所述第一预设时间、所述第二预设时间、所述第三预设时间、所述第四预设时间均为lOmin。
[0018]其中,在实际应用中,超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的,因此采用超声清洗可以达到较好的清洗效果。
[0019]其中,在本申请实施例中,所述第一去离子水池中、所述第一酒精池、所述第一丙酮池、所述第二去离子水池在水平方向从左到右依次排列,所述第一去离子水池中、所述第一酒精池、所述第一丙酮池、所述第二去离子水池上方设有一传输导轨,所述清洗架通过支架与所述导轨连接,所述清洗架能够利用所述导轨在水平方向左右滑动。
[0020]其中,在本申请实施例中,在所述步骤将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间之后还包括:
首先,将在所述第二去离子水池中清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一紫外光清洗池中进行清洗1min ;
然后,将利用紫外光清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入风干池中进行风干处理。
[0021]其中,在实际应用中,紫外光清洗为利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质,经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度〃,可以有效去除表面的杂质,并且利用加压风口对玻璃进行风干,避免二次污染。
[0022]其中,在本申请实施例中,所述清洗架具体为N层网状结构,且每层均设有M个玻璃放置区,所述玻璃放置区的宽度大于等于玻璃的厚度,所述玻璃放置区内表面设有缓冲垫,所述N、M均为大于等于2的正整数。
[0023]其中,在实际应用中,设计为多层可以一次清洗多片玻璃,保障效率,设计为网状便于水和空气的流通,达到良好的清洗效果,设置缓冲垫可以在清洗移动时保护玻璃。
[0024]其中,在实际应用中,采用去离子水可以保护玻璃的导电层,先浸泡一段时间可以便于后期的清洗,将杂质泡松软,振动清洗具体为上下左右移动为一次清洗动作,然后进行循环清洗动作,这样可以有效的清洗掉杂质。
[0025]上述本申请实施例中的技术方案,至少具有如下的技术效果或优点:
由于采用了首先将切割好后的玻璃放置在清洗架中,然后将装有玻璃的清洗架放置在第一去离子水池中浸泡第一预设时间,然后将浸泡处理后的所述装有玻璃的清洗架放入第一酒精池中进行振动清洗第二预设时间;然后将振动清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一丙酮池中进行超声清洗第三预设时间;然后将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间;最后将清洗完成后的玻璃取出存放的生产工艺,即多玻璃进行了多次清洗,分别采用了去离子水、酒精、丙酮以及紫外光进行清洗保障了清洗效果,且采用了多种清洗方式包括浸泡、振动清洗、超声清洗,可以将不同的杂质去除,进一步保障清洗的效果,且不破坏导电玻璃的导电层,所以,有效解决了现有技术中的ITO导电玻璃清洗工艺存在步骤简单,清洗效果较差,导致ITO导电玻璃表面存在杂质,无法满足生产要求,生产出的次品较多的技术问题,进而实现了 ITO导电玻璃清洗工艺设计合理,清洗效果较好,ITO导电玻璃表面杂质较少,产品次品率较低,且不容易破坏玻璃表面的导电层的技术效果。
[0026]尽管已描述了本发明的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
[0027]显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种ITO导电玻璃清洗工艺,其特征在于,所述工艺包括: 将切割好后的玻璃放置在清洗架中; 将装有玻璃的清洗架放置在第一去离子水池中浸泡第一预设时间; 将浸泡处理后的所述装有玻璃的清洗架放入第一酒精池中进行振动清洗第二预设时间; 将振动清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一丙酮池中进行超声清洗第三预设时间; 将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间; 将清洗完成后的玻璃取出存放。
2.根据权利要求1所述的工艺,其特征在于,所述第一预设时间、所述第二预设时间、所述第三预设时间、所述第四预设时间均为lOmin。
3.根据权利要求1所述的工艺,其特征在于,所述第一去离子水池中、所述第一酒精池、所述第一丙酮池、所述第二去离子水池在水平方向从左到右依次排列,所述第一去离子水池中、所述第一酒精池、所述第一丙酮池、所述第二去离子水池上方设有一传输导轨,所述清洗架通过支架与所述导轨连接,所述清洗架能够利用所述导轨在水平方向左右滑动。
4.根据权利要求1所述的工艺,其特征在于,在所述步骤将利用丙酮清洗后的所述装有玻璃的清洗架放置在第二去离子水池中超声清洗第四预设时间之后还包括: 将在所述第二去离子水池中清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入第一紫外光清洗池中进行清洗1min ; 将利用紫外光清洗后的所述装有玻璃的清洗架放入风干池中进行风干处理。
5.根据权利要求1-4中任一权项所述的工艺,其特征在于,所述清洗架具体为N层网状结构,且每层均设有M个玻璃放置区,所述玻璃放置区的宽度大于等于玻璃的厚度,所述玻璃放置区内表面设有缓冲垫,所述N、M均为大于等于2的正整数。
【文档编号】B08B3/04GK104174611SQ201410395734
【公开日】2014年12月3日 申请日期:2014年8月13日 优先权日:2014年8月13日
【发明者】林华业 申请人:成都派莱克科技有限公司
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