一种电子元件清洗剂及制备方法

文档序号:1456754阅读:317来源:国知局
一种电子元件清洗剂及制备方法
【专利摘要】本发明涉及一种电子元件清洗剂及制备方法,以重量百分比计,包括以下组分:聚氧乙烯脂肪醇20%-30%,二乙醇胺3%-12%,有机磷酸3%-8%,三丙二醇甲醚3%-6%,防锈剂1%-5%,渗透剂1%-3%,PH调节剂0.5%-1.5%,其余成分为去离子水,按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗透剂、pH调节剂搅拌10-15分钟,本发明能迅速溶解清除附着于电子元件上的各种污垢和杂质,不产生新的离子污染,对电子元件无腐蚀,清洗效果好。
【专利说明】一种电子元件清洗剂及制备方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种电子元件清洗剂及制备方法,属于清洁剂【技术领域】。

【背景技术】
[0002] 随着世界电子信息产业的快速发展,作为电子信息产业基础的电子元件产业发展 也异常迅速。电子元件正进入以新型电子元件为主体的新一代元器件时代,它将基本上取 代传统元器件,电子元器件由原来只为适应整机的小型化及其新工艺要求为主的改进,变 成以满足数字技术、微电子技术发展所提出的特性要求为主,而且是成套满足的产业化发 展阶段。电子元件是组成电子产品的基础,了解常用的电子元件的种类、结构、性能并能正 确选用是学习、掌握电子技术的基本。常用的电子元件有:电阻、电容、电感、电位器、变压 器、三极管、二极管、IC等,就安装方式而言,目前可分为传统安装(又称通孔装即DIP)和表 面安装两大类。
[0003] 清洗剂溶剂是一个很大的范畴,种类繁多,包括无机清洗和有机清洗两大类。有机 清洗剂与无机清洗剂的区别简单地说,有机清诜剂就是含碳的化合物制成的清洗剂,无机 清诜剂就是不含碳的化合物制成的清洗剂,因此它们属于无机物。
[0004] 水是最重要的清洗剂,有着其它任何清洗剂无法替代的作用和地位。普通的水很 容易从自然界中得到,水有很强的溶解力和分散力。但是水的表面张力大,在使用中需要添 加表面活性剂,以减小表面张力,增加表面湿润性。在一般工业清洗中,酸,碱和水的配合比 较常见,有些金属用水洗要加入防锈剂。水基型清洗剂由表面活性剂(如烷基苯磺酸钠、月旨 肪醇硫酸钠)和各种助剂(如三聚磷酸钠)、辅助剂配制成的,在洗涤物体表面上的污垢时, 能降低水溶液的表面张力,提高去污效果的物质。按产品外观形态分为固体洗涤剂、液体洗 涤剂。固体洗涤剂产量最大,习惯上称洗衣粉,包括细粉状、颗粒状和空心颗粒状等。还有 介于二者之间的膏状洗涤剂,也称洗衣膏。各类合成洗涤剂有不同的生产工艺,其中以固体 洗涤剂最为复杂。世界各国普遍生产空心颗粒状固体洗涤剂,采用高塔喷雾干燥法,其主要 工序有料浆制备、喷雾干燥、风送老化和包装。液体洗涤剂制造简便,只需将表面活性剂、助 剂和其他添加剂,以及经处理的水,送入混合机进行混合即可。
[0005] 半水基型清洗剂也叫准水基型清洗剂,是由高沸点溶剂及活性剂等组成如醇类, 有机烃类等。通常含有5% - 20%的水分,一般不易燃烧,但加温清洗时水含量控制不当,可 能产生燃烧现象。半水基型清洗与溶剂洗有一些不同,它的清洗原理是剥离去除,而不是溶 解。为了防止已经剥落的油污再附到被清洗物上,清洗液要连续地循环,并增加油水分离 器。半水洗通常清洗效果很好,但运行成本较高,废液不能再生回收,重复使用,含COD (化 学耗氧量)较高,需要进行废水处理。半水基型清洗剂由细颗粒状弱碱性吸附各种助剂合 成的药剂的新型清洗剂产品,采用天然介面活性磨粒为原料,配合多种活性剂及杀菌剂、抛 光剂、进口参透剂以及独特光亮因子等环保技术高科技配制而成的,是一种多功能、高效的 综合性环保清洗护理产品。是现代新型的去污产品,去污效果独特,用途广,对人体皮肤没 有副作用。由活性磨粒为助与磨粒里含有独特的清洁药剂配合清洗时带有轻微软摩擦更能 快速彻底清除各类严重的顽固污垢污染。灰垢、重油污垢、水泥垢、填缝剂垢、金属划痕、锈 垢、胶粘质、茶渍、饮品渍、胶锤印、皮鞋划痕、顽固蜡渍、铝痕、木痕、方格痕、水印、鞋印、墨 水印等污垢,环保,不损砖面,不伤手。
[0006] 溶剂型清洗剂是指不溶于水的有机溶剂。溶剂型清洗剂由烃类溶剂、卤代烃溶剂、 醇类溶剂、醚类溶剂、酮类溶剂、酯类溶剂、酚类溶剂、混合溶剂组成。
[0007] 目前市场上的电子元件用的清洗剂,大都清洗效果不好,有的清洗剂还会有亚硝 酸盐类有害物质,危害环境和人们的身体健康;由于其对清洗液的要求较高,对其腐蚀性及 清洗速度都有比较高的要求,既要能对电子元件快速清洗又不会对电子造成损害。因此,开 发一种新型的具有对环境危害低,清洗效果优异,对电子元件损害较小的清洗剂,已经成为 本领域人员迫不及待解决的问题。
[0008] 中国发明专利说明书CN 103555474 A公开这样一种电子元器件清洗剂。该电子元 器件清洗剂成分及重量比为石油烃3份,乳化剂份,二丙二醇单丁醚2份,3-甲氧基-3-甲基-1- 丁醇3份,2-羟基乙胺2份,硼酸MEA酯6份,苯甲酸二乙醇胺5份,钥酸二乙 醇胺1份,表面活性剂5份,硅酸钠5份,乙醇胺1份,离子水15份。该发明的清洗剂能 够快速去除钢网和误印板上的锡膏和胶的残留,无异味和腐蚀性,没有发生爆炸和燃烧的 危险,不会对钢网和线路板产生损坏。添加了苯甲酸二乙醇胺或钥酸二乙醇胺等除锈剂,在 清洗金属零件上的油污的基础上,还可以除锈防锈。但是这种清洗剂对于芯片的的清洗效 果不是很好。
[0009] 中国发明专利说明书CN 101368132 A公开这样一种低表面张力电路芯片清洗剂。 该低表面张力电路芯片清洗剂,包括渗透剂、PH调节剂、表面活性剂、增溶剂和纯水,其中氧 化剂的重量百分比为1%至5%,PH调节剂的重量百分比为2%至10%,增溶剂的重量百分比为 5%至10%,表面活性剂的重量百分比为1%至10%,其余为纯水;其为碱性水溶液清洗剂,对 电路芯片表面清洗张力的抑制效果好,腐蚀性小,不腐蚀设备,且不易损坏电路芯片表面, 便于废弃清洗液的处理和排放,符合环境保护的要求。但是这种絮凝剂对于污水的处理效 果不是很好。但是这种清洗剂对于芯片的的清洗效果不是很好。


【发明内容】

[0010] 本发明要解决的技术问题是提供一种电子元件清洗剂及制备方法,该电子元件清 洗剂能迅速溶解清除附着于电子元件上的的各种污垢和杂质,不产生新的离子污染,对电 子元件无腐蚀,清洗效果好。
[0011] 为了解决上述技术问题,本发明的一种电子元件清洗剂,以重量百分比计,包括以 下组分:聚氧乙烯脂肪醇20%-30%,二乙醇胺3%-12%,有机磷酸3%-8%,三丙二醇甲醚3%-6%, 防锈剂1%-5%,渗透剂1%-3%,PH调节剂0. 5%-1. 5%,其余成分为去离子水。
[0012] 所述防锈剂为葵二酸。
[0013] 所述渗透剂选自月桂醇、油酸、薄荷脑中的一种。
[0014] 所述PH调节剂为硼酸。
[0015] 所述的电子元件清洗剂的制备方法,按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙 烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40 度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗透剂、PH调节剂搅拌10-15分钟。
[0016] 采用这种电子元件清洗剂具有以下优点:该清洗剂能迅速溶解清除附着于电子元 件上的的各种污垢和杂质,不产生新的离子污染,对电子元件无腐蚀,清洗效果好。加入防 锈剂,可以防止电子元件被锈蚀;加入渗透剂可以增强聚氧乙烯脂肪醇的渗透效率,二者协 同作用;加入PH值调节剂可以调节清洁剂的酸碱度。

【具体实施方式】
[0017] 电子元件清洗剂,以重量百分比计,包括以下组分:聚氧乙烯脂肪醇20%_30%,二 乙醇胺3%-12%,有机磷酸3%-8%,三丙二醇甲醚3%-6%,防锈剂1%-5%,渗透剂1%-3%,PH调节 剂0. 5%-1. 5%,其余成分为去离子水。
[0018] 所述防锈剂为葵二酸。
[0019] 所述渗透剂选自月桂醇、油酸、薄荷脑中的一种。
[0020] 所述PH调节剂为硼酸。
[0021] 所述的电子元件清洗剂的制备方法,按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙 烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40 度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗透剂、PH调节剂搅拌10-15分钟。
[0022] 实施例1 : 按照重量百分比,分别称取20%聚氧乙烯脂肪醇,3%二乙醇胺,3%有机磷酸,3%三丙二 醇甲醚,1%防锈剂,1%渗透剂,.5%PH调节剂,其余成分为去离子水。
[0023] 按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙 二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗 透剂、PH调节剂搅拌10-15分钟。
[0024] 实施例2 : 按照重量百分比,分别称取23%聚氧乙烯脂肪醇,5%二乙醇胺,4%有机磷酸,4%三丙二 醇甲醚,2%防锈剂,2%渗透剂,0. 8%PH调节剂,其余成分为去离子水。
[0025] 按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙 二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗 透剂、PH调节剂搅拌10-15分钟。
[0026] 实施例3 : 按照重量百分比,分别称取20%聚氧乙烯脂肪醇,7%二乙醇胺,有机5%磷酸,5%三丙二 醇甲醚,3%防锈剂,2%渗透剂,1%PH调节剂,其余成分为去离子水。
[0027] 按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙 二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗 透剂、PH调节剂搅拌10-15分钟。
[0028] 实施例4 : 按照重量百分比,分别称取28%聚氧乙烯脂肪醇,10%二乙醇胺,6%有机磷酸,5%三丙二 醇甲醚,4%防锈剂,2%渗透剂,I. 3%PH调节剂,其余成分为去离子水。
[0029] 按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙 二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗 透剂、PH调节剂搅拌10-15分钟。
[0030] 实施例5 : 按照重量百分比,分别称取30%聚氧乙烯脂肪醇,12%二乙醇胺,8%有机磷酸,6%三丙二 醇甲醚,5%防锈剂,3%渗透剂,I. 5%PH调节剂,其余成分为去离子水。
[0031] 按照重量配比将各个成分配置好,将聚氧乙烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙 二醇甲醚、去离子水依次放入搅拌器内混合,加热到40度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗 透剂、PH调节剂搅拌10-15分钟。
[0032] 对实施例1-5和对比例1-2所得电子元件清洗剂进行清洗效果测试,结果见表1 : 表1

【权利要求】
1. 一种电子元件清洗剂,其特征在于:以重量百分比计,包括以下组分:聚氧乙烯脂肪 醇20%-30%,二乙醇胺3%-12%,有机磷酸3%-8%,三丙二醇甲醚3%-6%,防锈剂1%-5%,渗透剂 1%-3%,PH调节剂0. 5%-1. 5%,其余成分为去离子水。
2. 按照权利要求1所述的电子元件清洗剂,其特征在于:所述防锈剂为葵二酸。
3. 按照权利要求1所述的电子元件清洗剂,其特征在于:所述渗透剂选自月桂醇、油 酸、薄荷脑中的一种。
4. 按照权利要求1所述的电子元件清洗剂,其特征在于:所述PH调节剂为硼酸。
5. -种如权利要求1所述的电子元件清洗剂的制备方法,其特征在于:按照重量配比 将各个成分配置好,将聚氧乙烯脂肪醇、二乙醇胺、有机磷酸、三丙二醇甲醚、去离子水依次 放入搅拌器内混合,加热到40度,搅拌均匀,然后加入防锈剂、渗透剂、PH调节剂搅拌10-15 分钟。
【文档编号】C11D10/02GK104388216SQ201410647244
【公开日】2015年3月4日 申请日期:2014年11月14日 优先权日:2014年11月14日
【发明者】禹胜林 申请人:无锡信大气象传感网科技有限公司
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