一种适合cmis系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的制造方法
专利名称:一种适合cmis系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，包括整理箱以及传送单元和旋转单元；所述整理箱用于盛放服装纳米后整理的整理液；所述传送单元包括至少一个传送件，所述传送件用于将服装传送至所述整理箱以作纳米后整理；所述旋转单元包括至少一个旋转件，所述各旋转件分别设置在所述传送单元的各传送件上，所述旋转件用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出所述整理箱的整理液。本实用新型适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置解决了现有技术中服装纳米后整理不均匀及试剂无法到达一些区域内部的问题，从而提高了服装的纳米后整理的效果和持久性。
【专利说明】
一种适合CM IS系统的自动旋转水溃法服装纳米后整理装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及服装纳米后整理领域，尤其涉及一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置。
【背景技术】
[0002]服装的纳米后整理包括抗菌、芳香、除螨、防蛀、自清洁、保温等多个方面，是增加服装附加值、提高产品利润的重要途径。由于消费者的需求，服装纳米后整理技术正快速发展。然而，现有的服装的相关纳米后整理基本是采用纳米溶液试剂针对服装面料进行处理，处理后的面料由于服饰配件添加、裁剪、缝制等过程造成纳米微胶囊的破裂及挥发，使后整理效果大为降低，并且这种处理方法所需设备投资大耗能高，变化不够灵活，不能适应不同种类服装的纳米后整理需求。
[0003]—些厂家对服装纳米后整理进行了一些改进，可以对成衣制作完成的服装进行整体的纳米后整理。但是，由于服装款式复杂多变，针对服装整体的纳米后整理处理面临两个困难:一是处理后服装各个区域获取的纳米试剂多少不一，造成处理效果不够均匀，严重时甚至会在不均匀区域的交界处出现白斑或白线;二是由于整体服装的有些区域的衣片交错或重叠，导致纳米后整理试剂无法到达面料的内部，从而影响后整理的整体效果。另外，目前为止还没有出现一种能适合企业CMS系统接入、能自动对服装进行纳米后整理的装置，也未出现能使服装后整理效果并且适合规模化生产的高效简便工艺，这种现状使服装纳米后整理的效率受到极大限制，后整理效果难以达到优良，也不利于企业的CMS系统的开发及应用。
【实用新型内容】
[0004]为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本实用新型提供了一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置。
[0005]本实用新型是通过以下技术方案实现的:一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，包括整理箱以及传送单元和旋转单元；
[0006]所述整理箱用于盛放服装纳米后整理的整理液；
[0007]所述传送单元包括至少一个传送件，所述传送件用于将服装传送至所述整理箱以作纳米后整理；
[0008]所述旋转单元包括至少一个旋转件，所述各旋转件分别设置在所述传送单元的各传送件上，所述旋转件用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出所述整理箱的整理液。
[0009]进一步地，所述整理箱为上方开口的箱体结构，所述传送单元和旋转单元均位于所述整理箱的上方。传送单元和旋转单元带动服装至整理箱的开口上方并将服装浸入或升出整理箱的整理液。
[0010]进一步地，所述整理箱的下部设置有排水孔。排水孔用于将整理液排出。
[0011]进一步地，所述传送单元还包括传送带、两个传送轮及驱动传送轮和传送带转动的传送电机，所述传送件固定在所述传送带上。
[0012]进一步地，所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的支撑轮，所述支撑轮用于支撑位于传送轮上方的传送带。
[0013]进一步地，所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的悬挂轮，所述悬挂轮用于悬挂位于传送轮下方的传送带。
[0014]进一步地，所述旋转单元的旋转件包括衣撑杆及驱动衣撑杆上下移动的旋转电机，所述旋转电机固定在所述传送件上。
[0015]进一步地，所述旋转单元还包括旋转开关，所述旋转开关设置在所述传送件上，所述升降开关用于控制旋转电机的开关。
[0016]进一步地，所述旋转单元还包括设置在整理箱两端的启动杆和停止杆，所述启动杆和停止杆用于触碰所述旋转开关以控制旋转电机的开关。
[0017]进一步地，所述传送单元还包括用于放置所述传送电机的电机架。
[0018]相对于现有技术，本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置设置了整理箱、传送单元和旋转单元，传送单元和旋转单元实现对服装的自动传送和自动旋转，服装在整理箱的整理液中得到充分浸渍，解决了现有技术中服装纳米后整理不均匀及试剂无法到达一些区域内部的问题，从而提高了服装的纳米后整理的效果和持久性。本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置操作简单快捷，适合企业规模化生产，可降低服装企业的纳米后整理成本、增加企业的经济效益，并为企业开发及应用CHMS系统奠定了基础。
[0019]为了更好地理解和实施，下面结合附图详细说明本实用新型。
【附图说明】
[0020]图1是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的正视示意图。
[0021]图2是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的侧视示意图。
[0022]图3是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的俯视示意图。
【具体实施方式】
[0023]请参阅图1-图3。图1是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的正视示意图。图2是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的侧视示意图。图3是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的俯视示意图。
[0024]本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，包括整理箱10以及传送单元20和旋转单元30。传送单元20和旋转单元30分别对服装进行自动传送和自动旋转，以使服装在整理箱10的整理液内作纳米后整理。
[0025]具体地，整理箱10用于盛放服装纳米后整理的整理液。本实施例的整理箱10为上方开口的箱体结构，传送单元20和旋转单元30均位于整理箱10的上方。整理箱10的下部设置有排水孔11，排水孔11用于排出整理箱内10的整理液。整理箱10的纵向长度可根据同时处理的服装数量确定，最小为0.6m，本实施例的整理箱纵向长度设置为3m;整理箱10的高度可以为0.5m-3.6m，本实施例将高度设置为1.5m。整理箱10的箱体优选地由轻质不锈钢薄板制成，其厚度为5mm。
[0026]传送单元20包括至少一个传送件21、传送带22、两个传送轮23及驱动传送轮23和传送带22转动的传送电机24。传送件21固定在传送带22上，多个传送件21间隔排列，传送件21用于将服装传送至整理箱10以作纳米后整理。通常，传送件21为轻质金属或硬质塑料等高分子材料制成。本实施例的传送带22的中部下垂并保持一定的弧度，这样设置是为了随着传送带带动传送件21移动，服装能够随之浸入或升出整理箱10的整理液。为了使传送带22运转地更平稳，本实施例还优选地在传送带22的两侧设置了支撑轮25及悬挂轮26，支撑轮25用于支撑位于传送轮23上方的传送带22，悬挂轮26用于悬挂位于传送轮23下方的传送带22。
[0027]另外，本实施例的两个传送轮23之间设置了主杆27，本实施例的主杆27由中空不锈钢制成，直径可以为3cm-l 5cm，本实施例的主杆27的直径优选地设置为5cm。主杆27则通过前垂直柱211和后垂直柱212固定，为了使结构更稳定，在前垂直柱211和后垂直柱212的顶端各设置了前横梁213和后横梁214，前横梁213和后横梁214均与主杆保持垂直。前垂直柱211、后垂直柱212、前横梁213和后横梁214均由中空不锈钢制成，直径为lcm-lOcm，不锈钢壁厚为0.5mm-10mm。支撑轮25和悬挂轮26分别通过支撑杆28和悬挂杆29固定在主杆27上。通常情况下，支撑轮25和悬挂轮26设置两组或两组以上，每组包括2个，每组的两个对称位于传送带22的左右两侧。传送单元20还设置了用于放置传送电机24的电机架210。
[0028]旋转单元30包括至少一个旋转件31，各旋转件31分别设置在传送单元20的各传送件21上，旋转件31用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出整理箱10的整理液。本实施例的旋转件31包括衣撑杆311及驱动衣撑杆311上下移动的旋转电机312，旋转电机312固定在传送件21上。旋转单元30还包括旋转开关(图中未示)，旋转开关设置在传送件21上，旋转开关可为按压式或对称杆式，旋转开关用于控制旋转电机312的开关。为了可以自动地对旋转件31的旋转电机312进行开关控制，本实施例的旋转单元30还优选地在整理箱10的两端各设置了启动杆32和停止杆33，启动杆32和停止杆33的材质可以弹性金属或高分子材料。当衣撑杆311带着服装经过启动杆32或停止杆33时，启动杆32或停止杆33触碰旋转开关以控制旋转电机312的开关。启动杆31触碰旋转开关后，旋转电机312启动，衣撑杆311自动旋转并将服装下降到整理箱10的整理液中；停止杆33触碰旋转开关后，旋转电机312反向旋转，衣撑杆311上的服装上升并随着传送带22继续移动从整理箱10中升出到合适位置。
[0029]本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的具体工作过程为:
[0030]在整理箱10中放用于服装纳米后整理的整理液，传送单元20的传送件21将服装传送至整理箱10上，旋转件31悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出整理箱1的整理液。
[0031]具体地，将服装悬挂到旋转单元30的衣撑杆311上。启动传送单元20的传送电机24，传送带22载着传送件21及衣撑杆311向前移动。当服装经过启动杆31时，启动杆31触碰旋转开关，旋转电机312启动，衣撑杆311自动旋转并将服装下降到整理箱10的整理液中。随着传送带22的继续移动，服装在整理液中不停旋转并得到充分浸渍。当服装经过停止杆33时，停止杆33触碰旋转开关，旋转电机312反向旋转，衣撑杆311上的服装上升并随着传送带22继续移动从整理箱10中升出到合适位置，完成对服装的整理液浸渍。
[0032]相对于现有技术，本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置设置了整理箱、传送单元和旋转单元，传送单元和旋转单元实现对服装的自动传送和自动旋转，服装在整理箱的整理液中得到充分浸渍，解决了现有技术中服装纳米后整理不均匀及试剂无法到达一些区域内部的问题，从而提高了服装的纳米后整理的效果和持久性。本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置操作简单快捷，适合企业规模化生产，可降低服装企业的纳米后整理成本、增加企业的经济效益，并为企业开发及应用CHMS系统奠定了基础。
[0033]本实用新型并不局限于上述实施方式，如果对本实用新型的各种改动或变形不脱离本实用新型的精神和范围，倘若这些改动和变形属于本实用新型的权利要求和等同技术范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变形。
【主权项】
1.一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:包括整理箱以及传送单元和旋转单元； 所述整理箱用于盛放服装纳米后整理的整理液； 所述传送单元包括至少一个传送件，所述传送件用于将服装传送至所述整理箱以作纳米后整理； 所述旋转单元包括至少一个旋转件，所述各旋转件分别设置在所述传送单元的各传送件上，所述旋转件用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出所述整理箱的整理液。2.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述整理箱为上方开口的箱体结构，所述传送单元和旋转单元均位于所述整理箱的上方。3.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述整理箱的下部设置有排水孔。4.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括传送带、两个传送轮及驱动传送轮和传送带转动的传送电机，所述传送件固定在所述传送带上。5.根据权利要求4所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的支撑轮，所述支撑轮用于支撑位于传送轮上方的传送带。6.根据权利要求4所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的悬挂轮，所述悬挂轮用于悬挂位于传送轮下方的传送带。7.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述旋转单元的旋转件包括衣撑杆及驱动衣撑杆上下移动的旋转电机，所述旋转电机固定在所述传送件上。8.根据权利要求7所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述旋转单元还包括旋转开关，所述旋转开关设置在所述传送件上，所述旋转开关用于控制旋转电机的开关。9.根据权利要求8所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述旋转单元还包括设置在整理箱两端的启动杆和停止杆，所述启动杆和停止杆用于触碰所述旋转开关以控制旋转电机的开关。10.根据权利要求4所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括用于放置所述传送电机的电机架。
【文档编号】D06B23/04GK205711370SQ201620359884
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年4月25日
【发明人】吴咏鹏, 许玉卿, 吴锡波, 吴泽雄, 刘哲
【申请人】广东鹏运实业有限公司
【专利摘要】本实用新型公开了一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，包括整理箱以及传送单元和旋转单元；所述整理箱用于盛放服装纳米后整理的整理液；所述传送单元包括至少一个传送件，所述传送件用于将服装传送至所述整理箱以作纳米后整理；所述旋转单元包括至少一个旋转件，所述各旋转件分别设置在所述传送单元的各传送件上，所述旋转件用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出所述整理箱的整理液。本实用新型适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置解决了现有技术中服装纳米后整理不均匀及试剂无法到达一些区域内部的问题，从而提高了服装的纳米后整理的效果和持久性。
【专利说明】
一种适合CM IS系统的自动旋转水溃法服装纳米后整理装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及服装纳米后整理领域，尤其涉及一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置。
【背景技术】
[0002]服装的纳米后整理包括抗菌、芳香、除螨、防蛀、自清洁、保温等多个方面，是增加服装附加值、提高产品利润的重要途径。由于消费者的需求，服装纳米后整理技术正快速发展。然而，现有的服装的相关纳米后整理基本是采用纳米溶液试剂针对服装面料进行处理，处理后的面料由于服饰配件添加、裁剪、缝制等过程造成纳米微胶囊的破裂及挥发，使后整理效果大为降低，并且这种处理方法所需设备投资大耗能高，变化不够灵活，不能适应不同种类服装的纳米后整理需求。
[0003]—些厂家对服装纳米后整理进行了一些改进，可以对成衣制作完成的服装进行整体的纳米后整理。但是，由于服装款式复杂多变，针对服装整体的纳米后整理处理面临两个困难:一是处理后服装各个区域获取的纳米试剂多少不一，造成处理效果不够均匀，严重时甚至会在不均匀区域的交界处出现白斑或白线;二是由于整体服装的有些区域的衣片交错或重叠，导致纳米后整理试剂无法到达面料的内部，从而影响后整理的整体效果。另外，目前为止还没有出现一种能适合企业CMS系统接入、能自动对服装进行纳米后整理的装置，也未出现能使服装后整理效果并且适合规模化生产的高效简便工艺，这种现状使服装纳米后整理的效率受到极大限制，后整理效果难以达到优良，也不利于企业的CMS系统的开发及应用。
【实用新型内容】
[0004]为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本实用新型提供了一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置。
[0005]本实用新型是通过以下技术方案实现的:一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，包括整理箱以及传送单元和旋转单元；
[0006]所述整理箱用于盛放服装纳米后整理的整理液；
[0007]所述传送单元包括至少一个传送件，所述传送件用于将服装传送至所述整理箱以作纳米后整理；
[0008]所述旋转单元包括至少一个旋转件，所述各旋转件分别设置在所述传送单元的各传送件上，所述旋转件用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出所述整理箱的整理液。
[0009]进一步地，所述整理箱为上方开口的箱体结构，所述传送单元和旋转单元均位于所述整理箱的上方。传送单元和旋转单元带动服装至整理箱的开口上方并将服装浸入或升出整理箱的整理液。
[0010]进一步地，所述整理箱的下部设置有排水孔。排水孔用于将整理液排出。
[0011]进一步地，所述传送单元还包括传送带、两个传送轮及驱动传送轮和传送带转动的传送电机，所述传送件固定在所述传送带上。
[0012]进一步地，所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的支撑轮，所述支撑轮用于支撑位于传送轮上方的传送带。
[0013]进一步地，所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的悬挂轮，所述悬挂轮用于悬挂位于传送轮下方的传送带。
[0014]进一步地，所述旋转单元的旋转件包括衣撑杆及驱动衣撑杆上下移动的旋转电机，所述旋转电机固定在所述传送件上。
[0015]进一步地，所述旋转单元还包括旋转开关，所述旋转开关设置在所述传送件上，所述升降开关用于控制旋转电机的开关。
[0016]进一步地，所述旋转单元还包括设置在整理箱两端的启动杆和停止杆，所述启动杆和停止杆用于触碰所述旋转开关以控制旋转电机的开关。
[0017]进一步地，所述传送单元还包括用于放置所述传送电机的电机架。
[0018]相对于现有技术，本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置设置了整理箱、传送单元和旋转单元，传送单元和旋转单元实现对服装的自动传送和自动旋转，服装在整理箱的整理液中得到充分浸渍，解决了现有技术中服装纳米后整理不均匀及试剂无法到达一些区域内部的问题，从而提高了服装的纳米后整理的效果和持久性。本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置操作简单快捷，适合企业规模化生产，可降低服装企业的纳米后整理成本、增加企业的经济效益，并为企业开发及应用CHMS系统奠定了基础。
[0019]为了更好地理解和实施，下面结合附图详细说明本实用新型。
【附图说明】
[0020]图1是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的正视示意图。
[0021]图2是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的侧视示意图。
[0022]图3是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的俯视示意图。
【具体实施方式】
[0023]请参阅图1-图3。图1是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的正视示意图。图2是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的侧视示意图。图3是本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的俯视示意图。
[0024]本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，包括整理箱10以及传送单元20和旋转单元30。传送单元20和旋转单元30分别对服装进行自动传送和自动旋转，以使服装在整理箱10的整理液内作纳米后整理。
[0025]具体地，整理箱10用于盛放服装纳米后整理的整理液。本实施例的整理箱10为上方开口的箱体结构，传送单元20和旋转单元30均位于整理箱10的上方。整理箱10的下部设置有排水孔11，排水孔11用于排出整理箱内10的整理液。整理箱10的纵向长度可根据同时处理的服装数量确定，最小为0.6m，本实施例的整理箱纵向长度设置为3m;整理箱10的高度可以为0.5m-3.6m，本实施例将高度设置为1.5m。整理箱10的箱体优选地由轻质不锈钢薄板制成，其厚度为5mm。
[0026]传送单元20包括至少一个传送件21、传送带22、两个传送轮23及驱动传送轮23和传送带22转动的传送电机24。传送件21固定在传送带22上，多个传送件21间隔排列，传送件21用于将服装传送至整理箱10以作纳米后整理。通常，传送件21为轻质金属或硬质塑料等高分子材料制成。本实施例的传送带22的中部下垂并保持一定的弧度，这样设置是为了随着传送带带动传送件21移动，服装能够随之浸入或升出整理箱10的整理液。为了使传送带22运转地更平稳，本实施例还优选地在传送带22的两侧设置了支撑轮25及悬挂轮26，支撑轮25用于支撑位于传送轮23上方的传送带22，悬挂轮26用于悬挂位于传送轮23下方的传送带22。
[0027]另外，本实施例的两个传送轮23之间设置了主杆27，本实施例的主杆27由中空不锈钢制成，直径可以为3cm-l 5cm，本实施例的主杆27的直径优选地设置为5cm。主杆27则通过前垂直柱211和后垂直柱212固定，为了使结构更稳定，在前垂直柱211和后垂直柱212的顶端各设置了前横梁213和后横梁214，前横梁213和后横梁214均与主杆保持垂直。前垂直柱211、后垂直柱212、前横梁213和后横梁214均由中空不锈钢制成，直径为lcm-lOcm，不锈钢壁厚为0.5mm-10mm。支撑轮25和悬挂轮26分别通过支撑杆28和悬挂杆29固定在主杆27上。通常情况下，支撑轮25和悬挂轮26设置两组或两组以上，每组包括2个，每组的两个对称位于传送带22的左右两侧。传送单元20还设置了用于放置传送电机24的电机架210。
[0028]旋转单元30包括至少一个旋转件31，各旋转件31分别设置在传送单元20的各传送件21上，旋转件31用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出整理箱10的整理液。本实施例的旋转件31包括衣撑杆311及驱动衣撑杆311上下移动的旋转电机312，旋转电机312固定在传送件21上。旋转单元30还包括旋转开关(图中未示)，旋转开关设置在传送件21上，旋转开关可为按压式或对称杆式，旋转开关用于控制旋转电机312的开关。为了可以自动地对旋转件31的旋转电机312进行开关控制，本实施例的旋转单元30还优选地在整理箱10的两端各设置了启动杆32和停止杆33，启动杆32和停止杆33的材质可以弹性金属或高分子材料。当衣撑杆311带着服装经过启动杆32或停止杆33时，启动杆32或停止杆33触碰旋转开关以控制旋转电机312的开关。启动杆31触碰旋转开关后，旋转电机312启动，衣撑杆311自动旋转并将服装下降到整理箱10的整理液中；停止杆33触碰旋转开关后，旋转电机312反向旋转，衣撑杆311上的服装上升并随着传送带22继续移动从整理箱10中升出到合适位置。
[0029]本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置的具体工作过程为:
[0030]在整理箱10中放用于服装纳米后整理的整理液，传送单元20的传送件21将服装传送至整理箱10上，旋转件31悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出整理箱1的整理液。
[0031]具体地，将服装悬挂到旋转单元30的衣撑杆311上。启动传送单元20的传送电机24，传送带22载着传送件21及衣撑杆311向前移动。当服装经过启动杆31时，启动杆31触碰旋转开关，旋转电机312启动，衣撑杆311自动旋转并将服装下降到整理箱10的整理液中。随着传送带22的继续移动，服装在整理液中不停旋转并得到充分浸渍。当服装经过停止杆33时，停止杆33触碰旋转开关，旋转电机312反向旋转，衣撑杆311上的服装上升并随着传送带22继续移动从整理箱10中升出到合适位置，完成对服装的整理液浸渍。
[0032]相对于现有技术，本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置设置了整理箱、传送单元和旋转单元，传送单元和旋转单元实现对服装的自动传送和自动旋转，服装在整理箱的整理液中得到充分浸渍，解决了现有技术中服装纳米后整理不均匀及试剂无法到达一些区域内部的问题，从而提高了服装的纳米后整理的效果和持久性。本实用新型的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置操作简单快捷，适合企业规模化生产，可降低服装企业的纳米后整理成本、增加企业的经济效益，并为企业开发及应用CHMS系统奠定了基础。
[0033]本实用新型并不局限于上述实施方式，如果对本实用新型的各种改动或变形不脱离本实用新型的精神和范围，倘若这些改动和变形属于本实用新型的权利要求和等同技术范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变形。
【主权项】
1.一种适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:包括整理箱以及传送单元和旋转单元； 所述整理箱用于盛放服装纳米后整理的整理液； 所述传送单元包括至少一个传送件，所述传送件用于将服装传送至所述整理箱以作纳米后整理； 所述旋转单元包括至少一个旋转件，所述各旋转件分别设置在所述传送单元的各传送件上，所述旋转件用于悬挂服装并对服装的高度进行调整以使服装浸入或升出所述整理箱的整理液。2.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述整理箱为上方开口的箱体结构，所述传送单元和旋转单元均位于所述整理箱的上方。3.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述整理箱的下部设置有排水孔。4.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括传送带、两个传送轮及驱动传送轮和传送带转动的传送电机，所述传送件固定在所述传送带上。5.根据权利要求4所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的支撑轮，所述支撑轮用于支撑位于传送轮上方的传送带。6.根据权利要求4所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括设置在所述传送带两侧的悬挂轮，所述悬挂轮用于悬挂位于传送轮下方的传送带。7.根据权利要求1所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述旋转单元的旋转件包括衣撑杆及驱动衣撑杆上下移动的旋转电机，所述旋转电机固定在所述传送件上。8.根据权利要求7所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述旋转单元还包括旋转开关，所述旋转开关设置在所述传送件上，所述旋转开关用于控制旋转电机的开关。9.根据权利要求8所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述旋转单元还包括设置在整理箱两端的启动杆和停止杆，所述启动杆和停止杆用于触碰所述旋转开关以控制旋转电机的开关。10.根据权利要求4所述的适合CMIS系统的自动旋转水渍法服装纳米后整理装置，其特征在于:所述传送单元还包括用于放置所述传送电机的电机架。
【文档编号】D06B23/04GK205711370SQ201620359884
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年4月25日
【发明人】吴咏鹏, 许玉卿, 吴锡波, 吴泽雄, 刘哲
【申请人】广东鹏运实业有限公司
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