磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法、拾取装置以及盘装置的制作方法

专利名称：磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法、拾取装置以及盘装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及磁性构件的安装结构、磁性构件和磁连结构件的粘接方法、拾取装置 以及光盘装置。
背景技术：
图9表示现有的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法的一种 形式。在光拾取装置用的物镜驱动器中，通过使驱动器的可动部(未图示)轻量化，并且 增大设置在驱动器固定部507上的磁铁550的体积而从磁铁550获得较大的磁通密度，来 获取高驱动灵敏度。驱动器(actuator)是指例如使能量转换为平移运动或旋转运动等的 驱动装置。另外，在光拾取装置用的物镜驱动器等中，为了加速例如驱动器的组装工序，多 使用在UV (ultraviolet radiation 紫外线)等作用下固化的灌封(potting)粘接剂(未 图示)等。作为现有的其他光拾取装置，例如有提高透镜架和磁轭的粘接强度、减少不必要 振动的动磁(MM)式光学拾取装置(例如参照专利文献1)。“磁轭”是减少例如由磁体产生 的磁力的泄漏的装置。专利文献1 日本特开平11-259877号公报(第1、3、4页，图1-4)然而，光拾取装置或光拾取装置用的驱动器一旦不慎跌落，此时，具有磁铁550的 驱动器受到跌落等的冲击时，由于磁铁550自身的重量/质量，有时会发生磁铁550相对于 后磁轭(back yoke)510位置偏移。由此，后磁轭510和磁铁550之间需要牢固的粘接力。但是，如果粘接部分使用一般的由UV等固化的灌封粘接剂，不能期待提高粘接 力。在磁铁550的粘接面部551和后磁轭510的粘接面部511之间存在未图示的UV固化型 粘接剂的状态下，使磁铁550的粘接面部分551与后磁轭510的粘接面部511对合时，UV被 磁铁550和后磁轭510遮挡而无法到达粘接面部511、551，因此导致UV固化型粘接剂在粘 接面部511、551间无法凝固。因此，在使用UV固化型粘接剂将磁铁550粘接在后磁轭510 上时，存在仅能在磁铁550的周围涂敷UV固化型灌封粘接剂，而在磁铁550和后磁轭510 的很大的粘接面部511上无法涂敷UV固化型粘接剂的问题。而且，由于温度、湿度变化等，也存在磁铁550相对于后磁轭510的粘接强度降低 的情况。在使用UV固化型粘接剂将磁铁550粘接在后磁轭510上时，仅在磁铁550的周围 涂敷/固化UV固化型灌封粘接剂，例如在上述情况下，在具有磁铁550的驱动器受到跌落 等冲击时，存在粘接力不能战胜磁铁550自身的重量/质量产生的下降力的问题。由于这些问题，期望通过在安装有磁铁550的后磁轭510的整个接触面的尽可能 大的面积上涂敷粘接剂560来将磁铁550粘接在后磁轭510上，来确保磁铁550相对于后 磁轭510的粘接强度。此时，由于UV无法到达磁铁550的粘接面部551及后磁轭510的粘 接面部511上，因此不能使用未图示的UV固化型粘接剂。因此，在使磁铁550的粘接面部551和后磁轭510的粘接面部511之间存在粘接剂560而将磁铁550粘接在后磁轭510上 时，例如要使用单组分热固性粘接剂560、双组分混合型粘接剂560、厌氧性固化型之类的 即使无光也可固化的粘接剂560。为了提高磁铁550相对于后磁轭510的粘接强度，优选磁铁550的粘接面部551的 粘接面积及后磁轭510的粘接面部511的粘接面积较大。为了在较大面积的粘接面部511、 551上涂敷粘接剂560，期望进行例如预先在后磁轭510的粘接面部511上涂敷粘接剂560 的预先涂覆，但在预先在后磁轭510的粘接面部511上涂敷粘接剂560之后、将磁铁550安 装在涂敷了粘接剂560的后磁轭510上的情况下，由于磁铁550具有强大的磁力，因此磁铁 550被配置成可在后磁轭510滑动。此时，磁铁550自身相对于粘接剂560具有桨那样的作 用，预先涂敷在后磁轭510上的粘接剂560有可能被磁铁550刮掉。在将磁铁550配置在后磁轭510上的组装工序之前预先在后磁轭510上涂敷粘接 剂560的情况下、在将磁铁550设置在后磁轭510附近之后立即在后磁轭510上涂敷粘接 剂560的情况下，在使用已磁化的、产生强大磁力的永久磁铁550时，都难以确认磁铁550 是否在足够大的粘接面积上粘接在后磁轭510上。

发明内容
为了解决上述问题，本发明技术方案1的磁性构件的安装结构至少具有磁性构件 和磁连结构件，该磁连结构件设置有用于确保安装所述磁性构件时的粘接强度的粘接力确 保部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。磁连结构件是指在结 构上支持磁性连接的构件。利用设置在磁连结构件上的粘接力确保部能确保粘接强度，从 而能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。技术方案2的磁性构件的安装结构的特征在于，其至少具有磁性构件、能配设所 述磁性构件的磁连结构件、用于将所述磁性构件粘接在所述磁连结构件上的粘接构件，在 所述磁性构件和所述磁连结构件的任一方或双方上设置有用于确保粘接强度的粘接力确 保部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设置在磁性构件 和磁连结构件的任一方或双方上的粘接力确保部，能确保粘接强度，从而能将磁性构件和 磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案3的磁性构件的安装结构以技术方案2所述的磁性构件的安装结构以基 础，其特征在于，所述粘接力确保部被形成为包括凹凸部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件上之前或者在将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构件的粘接 力确保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的粘接构件，利用毛细管现象在 构成磁性构件的粘接力确保部的凹凸部或在构成磁连结构件的粘接力确保部的凹凸部上 展开，因此能实现可靠的粘接。因此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接强 度。技术方案4的磁性构件的安装结构以技术方案2或3所述的磁性构件的安装结构 为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有大致网格状的凹凸部。
采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件上之前或者将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构件的粘接力 确保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的粘接构件，利用毛细管现象在构 成磁性构件的粘接力确保部的大致网格状的凹凸部或构成磁连结构件的粘接力确保部的 大致网格状的凹凸部上展开，因此能实现可靠的粘接。因此，能可靠地确保磁性构件相对于 磁连结构件的粘接强度。技术方案5的磁性构件的安装结构以技术方案2 4中任一项所述的磁性构件的 安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有大致窄条形状的凹凸部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件上之前或者将磁性构件安装于磁连结构件之后，被涂敷在磁性构件的粘接力确 保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的粘接构件，利用毛细管现象在构成 磁性构件的粘接力确保部的大致窄条形状的凹凸部或构成磁连结构件的粘接力确保部的 大致窄条形状的凹凸部上展开，因此能实现可靠的粘接。因此，能可靠地确保磁性构件相对 于磁连结构件的粘接强度。技术方案6的磁性构件的安装结构以技术方案2 5中任一项所述的磁性构件的 安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有大致放射状的凹凸部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件上之前或者将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构件的粘接力 确保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的粘接构件，利用毛细管现象在构 成磁性构件的粘接力确保部的大致放射状的凹凸部或构成磁连结构件的粘接力确保部的 大致放射状的凹凸部上展开，因此能实现可靠的粘接。因此，能可靠地确保磁性构件相对于 磁连结构件的粘接强度。技术方案7的磁性构件的安装结构以技术方案2 6中任一项所述的磁性构件的 安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部被形成为具有深度超过0mm(毫米)且在 约0. 2mm以下的凹凸部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构件的粘接力确保 部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的粘接构件，利用毛细管现象容易地在 构成磁性构件的粘接力确保部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹凸部或构成磁连结构 件的粘接力确保部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹凸部上展开，因此能实现可靠的 粘接。在设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方 上的凹凸部的深度为0mm的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。而在设置在磁性构件 的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的凹凸部的深度超过约 0. 2mm的情况下，担心难以发生毛细管现象。如果在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件 的粘接力确保部的任一方或双方上构成深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹凸部，被涂敷 在粘接力确保部上的粘接构件利用毛细管现象容易地在粘接力确保部上展开。因此，能可 靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接强度。技术方案8的磁性构件的安装结构以技术方案2 7中任一项所述的磁性构件的 安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有槽。
采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设置在磁性构件 和磁连结构件的任一方或双方上的粘接力确保部的槽，能确保粘接强度，从而能将磁性构 件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案9的磁性构件的安装结构以技术方案2 8中任一项所述的磁性构件 的安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有V槽。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设置在磁性构件 和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部的V槽，能确保粘接强度，从而能将磁 性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案10的磁性构件的安装结构以技术方案2 9中任一项所述的磁性构件 的安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有被配设为大致网格状的槽。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设置在磁性构件 和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部的大致网格状的槽，能确保粘接强度， 从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案11的磁性构件的安装结构以技术方案2 10中任一项所述的磁性构件 的安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有大致沿第一方向延伸设置的第一 方向槽和大致沿第二方向延伸设置的第二方向槽。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。通过使设置在磁性构 件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部具有大致沿第一方向延伸设置的第 一方向槽和大致沿第二方向延伸设置的第二方向槽，能确保粘接强度，从而能将磁性构件 和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案12的磁性构件的安装结构以技术方案2 11中任一项所述的磁性构件 的安装结构，其特征在于，所述粘接力确保部具有以大致放射状延伸设置的槽。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。通过使设置在磁性构 件和磁连结构件的任一方或双方上的粘接力确保部具有以大致放射状延伸设置的槽，能 确保粘接强度，从而将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案13的磁性构件的安装结构以技术方案2 12中任一项所述的磁性构件 的安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有深度超过0mm且在约0. 2mm以下的槽。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，涂敷在磁性构件的粘接力确保 部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的粘接构件，利用构成磁性构件的粘接 力确保部的的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的槽或构成磁连结构件的粘接力确保部的深 度超过0_且在约0. 2mm以下的槽通过毛细管现象容易地展开，因此能实现可靠的粘接。在 设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的槽的 深度为0mm的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。而且，在设置在磁性构件的粘接力确 保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的槽的深度超过约0. 2mm的情况下， 担心难以发生毛细管现象。如果在磁性构件的粘接力确保部或磁连结构件的粘接力确保部 的任一方或两方上构成深度超过0mm且在0. 2mm以下的槽，则涂敷在粘接力确保部上的粘 接构件能利用毛细管现象容易地在粘接力确保部上展开。因此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接强度。技术方案14的磁性构件的安装结构以技术方案2 13中任一项所述的磁性构件 的安装结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有截面积超过0mm2 (平方毫米)且在 约0. 05mm2以下的槽。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构件的粘接力确 保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件利用构成磁性构件的 粘接力确保部的、截面积超过0mm2且在约0. 05mm2以下的槽或构成磁连结构件的粘接力确 保部的、截面积超过0mm2且在约0. 05mm2以下的槽通过毛细管现象容易地展开，因此能实现 可靠的粘接。在设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方 或双方上的槽的截面积为0mm2的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。而且，在设置在 磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的槽的截面 积超过约0. 05mm2的情况下，担心难以发生毛细管现象。如果在磁性构件的粘接力确保部 和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上构成截面积超过0mm2且在约0. 05mm2以 下的槽，则涂敷在粘接力确保部上的粘接构件能利用毛细管现象容易地在粘接力确保部上 展开。因此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接强度。技术方案15的磁性构件的安装结构以技术方案2 14中任一项所述的磁性构件 的安装结构为基础，其特征在于，在所述磁性构件和所述磁连结构件中的任一方或双方上 设有用于将粘接构件引导至所述粘接力确保部的粘接构件积存部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。能利用设置在磁性构 件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接构件积存部确保粘接强度，从而将磁性构件和 磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案16的磁性构件的安装结构以技术方案15所述的安装结构为基础，其特 征在于，所述粘接力确保部被形成为具有凹凸部，所述粘接构件积存部被形成为具有凹 部，在向所述磁性构件和所述磁连结构件的任一方或双方上涂敷用于接合二者的所述粘接 构件时，所述凹部位于所述凹凸部的略上侧的位置。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。能利用设置在磁性构 件和磁连结构件的任一方或双方上的、靠上侧的粘接构件积存部的的凹部及粘接力确保部 的凹凸部来确保粘接强度，从而将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。通过在磁性 构件和磁连结构件的任一方或双方上的、靠上侧的粘接构件积存部上涂敷粘接构件，能利 用重力和/或毛细管现象将粘接构件稳定地供给至粘接力确保部的凹凸部。因此，能容易 地使粘接构件遍布于粘接力确保部。技术方案17的磁性构件的安装结构以技术方案15或16所述的磁性构件的安装 结构为基础，其特征在于，所述粘接力确保部具有槽，所述粘接构件积存部具有凹部，所述 槽的深度和所述凹部的深度大致相同。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。能利用设置在磁性构 件和磁连结构件的任一方或双方上的粘接构件积存部的凹部及粘接力确保部的槽来确保 粘接强度，从而将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。通过例如在磁性构件和磁连 结构件中的任一方或双方的粘接构件积存部上涂敷粘接构件，能将粘接构件稳定地供给至粘接力确保部的槽，使粘接构件容易地遍布于粘接力确保部。技术方案18的磁性构件的安装结构以技术方案15 17中任一项所述的磁性构 件的安装结构为基础，其特征在于，所述粘接构件积存部具有深度超过0mm且在约0. 2mm以 下的凹部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于 磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构件的粘接构件 积存部和磁连结构件的粘接构件积存部中的任一方或双方上的粘接构件，利用构成磁性构 件的粘接构件积存部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹部或构成磁连结构件的粘接构 件积存部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹部通过毛细管现象容易地展开，因此能实 现可靠的粘接。在设置在磁性构件的粘接构件积存部和磁连结构件的粘接构件积存部中的 任一方或双方上的凹部的深度为0mm的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。而且，在设 置在磁性构件的粘接构件积存部和磁连结构件的粘接构件积存部中的任一方或双方上的 凹部的深度超过约0. 2mm的情况下，担心难以发生毛细管现象。如果在磁性构件的粘接构 件积存部和磁连结构件的粘接构件积存部中的任一方或双方上构成深度超过0mm且在约 0. 2mm以下的凹部，则被涂敷在粘接构件积存部上的粘接构件利用毛细管现象等以粘接构 件积存部为起点容易地在粘接力确保部上展开。由此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连 结构件的粘接强度。技术方案19的拾取装置的特征在于，其具有技术方案2 18中任一项所述的磁 性构件的安装结构。采用上述结构，能构成将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上的拾取装置。能利 用设置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部来确保粘接强度，从 而能构成将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起的拾取装置。技术方案20的磁性构件与磁连结构件的粘接方法的特征在于，在磁性构件和磁 连结构件中的任一方或双方上形成用于确保粘接强度的粘接力确保部，从而将所述磁性构 件粘接于磁连结构件上。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。通过在磁性构件和磁 连结构件中的任一方或双方上形成用于确保粘接强度的粘接力确保部，在形成于磁性构件 和磁连结构件的任一方或双方上的粘接力确保部上设置粘接构件，能确保粘接强度，从而 能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案21的磁性构件与磁连结构件的粘接方法以技术方案20所述的磁性构件 与磁连结构件的粘接方法为基础，其特征在于，使用模具形成所述粘接力确保部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。使用模具在磁性构件 和磁连结构件中的任一方或双方上进行转印加工而形成粘接力确保部，利用经由转印加工 形成在磁性构件上的粘接力确保部和经由转印加工形成在磁连结构件上的粘接力确保部 中的任一方或双方来确保粘接强度，从而将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案22的磁性构件与磁连结构件的粘接方法以技术方案20或21所述的磁 性构件与磁连结构件的粘接方法为基础，其特征在于，进行冲压加工形成所述粘接力确保 部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上进行冲压加工而形成粘接力确保部，利用经由冲压加工形成在磁 性构件上的粘接力确保部和经由冲压加工形成在磁连结构件上的粘接力确保部中的任一 方或双方来确保粘接强度，从而将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案23的磁性构件与磁连结构件的粘接方法以技术方案20 22中任一项 所述的磁性构件与磁连结构件的粘接方法为基础，其特征在于，进行转印加工形成所述粘 接力确保部。采用上述结构，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在磁性构件和磁连结 构件中的任一方或双方上进行转印加工而形成粘接力确保部，利用经由转印加工形成在磁 性构件上的粘接力确保部和经由转印加工形成在磁连结构件上的粘接力确保部中的任一 方或双方来确保粘接强度，从而将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。技术方案24的拾取装置的特征在于，通过实施技术方案20 23中任一项所述的 磁性构件与磁连结构件的粘接方法而构成。采用上述结构，能构成将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上的拾取装置。通过 在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上形成用于确保粘接强度的粘接力确保部，在 形成于磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部上设置粘接构件，能确 保粘接强度，从而能构成将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起的拾取装置。技术方案25的盘装置的特征在于，其具有技术方案19或24所述的拾取装置。采用上述结构，能构成具有将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上的拾取装置的
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Ihl^C 且 o如上所述，采用技术方案1所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件 上。利用设置在磁连结构件上的粘接力确保部能确保粘接强度，从而能将磁性构件可靠地 粘接在磁连结构件上。采用技术方案2所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设 置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部能确保粘接强度，从而能 将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案3所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁 性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构 件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件利用毛 细管现象在构成磁性构件的粘接力确保部的凹凸部或构成磁连结构件的粘接力确保部的 凹凸部上展开，能实现可靠地粘接。因此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接 强度。采用技术方案4所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁 性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构 件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件利用毛 细管现象在构成磁性构件的粘接力确保部的大致网格状的凹凸部或构成磁连结构件的粘 接力确保部的大致网格状的凹凸部上展开，能实现可靠的粘接。因此，能可靠地确保磁性构 件相对于磁连结构件的粘接强度。采用技术方案5所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁 性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件利用毛 细管现象在构成磁性构件的粘接力确保部的大致窄条形状的凹凸部或构成磁连结构件的 粘接力确保部的大致窄条形状的凹凸部上展开，能实现可靠地粘接。因此，能可靠地确保磁 性构件相对于磁连结构件的粘接强度。采用技术方案6所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁 性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构 件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件利用毛 细管现象在构成磁性构件的粘接力确保部的大致放射状的凹凸部或构成磁连结构件的粘 接力确保部的大致放射状的凹凸部上展开，能实现可靠地粘接。因此，能可靠地确保磁性构 件相对于磁连结构件的粘接强度。采用技术方案7所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁 性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构 件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件利用毛 细管现象容易地在构成磁性构件的粘接力确保部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹凸 部或构成磁连结构件的粘接力确保部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹凸部上展开， 因此能实现可靠的粘接。在设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部 中的任一方或双方上的凹凸部的深度为0mm的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。而 在设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部的任一方或双方上的凹 凸部的深度超过约0. 2mm的情况下，担心例如难以发生毛细管现象。如果在磁性构件的粘 接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上构成深度超过0mm且在约 0. 2mm以下的凹凸部，能利用毛细管现象使涂敷在粘接力确保部上的粘接构件容易地在粘 接力确保部上展开。因此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接强度。采用技术方案8所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设 置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部的槽能确保粘接强度，从 而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案9所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设 置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部的V槽能确保粘接强度， 从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案10所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设 置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部的大致网格状的槽能确 保粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案11所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。通过使 设置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部具有大致沿第一方向 延伸设置的第一方向槽和大致沿第二方向延伸设置的第二方向槽，能确保粘接强度，从而 能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案12所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。通过使 设置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部具有以大致放射状延 伸设置的槽，能确保粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案13所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构 件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件，利用构 成磁性构件的粘接力确保部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的槽或构成磁连结构件的粘 接力确保部的深度超过0_且在约0. 2mm以下的槽通过毛细管现象容易地展开，因此能实 现可靠的粘接。在设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一 方或双方上的槽的深度为例如0mm的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。而在设置在 磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的槽的深度 超过例如约0. 2mm的情况下，担心例如难以发生毛细管现象。如果在磁性构件的粘接力确 保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上构成深度超过0mm且在约0. 2mm以 下的槽，则被涂敷在粘接力确保部上的粘接构件利用毛细管现象容易地在粘接力确保部上 展开。因此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接强度。采用技术方案14所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁 性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构 件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上的粘接构件，利用构 成磁性构件的粘接力确保部的截面积超过0mm2且在约0. 05mm2以下的槽或构成磁连结构 件的粘接力确保部的截面积超过0mm2且在约0. 05mm2以下的槽通过毛细管现象容易地展 开，因此能实现可靠的粘接。在设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确 保部中的任一方或双方上的槽的截面积为例如0mm2的情况下，担心基本不会发生毛细管现 象。而在设置在磁性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方 上的槽的截面积超过例如约0.05mm2的情况下，担心例如难以发生毛细管现象。如果在磁 性构件的粘接力确保部和磁连结构件的粘接力确保部中的任一方或双方上构成截面积超 过0mm2且在约0. 05mm2以下的槽，则被涂敷在粘接力确保部上的粘接构件利用毛细管现象 容易地在粘接力确保部上展开。因此，能可靠地确保磁性构件相对于磁连结构件的粘接强 度。采用技术方案15所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设 置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接构件积存部能确保粘接强度，从 而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案16所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用 设置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的靠上侧的粘接构件积存部的凹部及 粘接力确保部的凹凸部能确保粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一 起。例如，通过在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的靠上侧的粘接构件积存部 上涂敷粘接构件，能利用重力和/或毛细管现象将粘接构件稳定地供给至粘接力确保部的 凹凸部。因此，能使粘接构件容易地遍布粘接力确保部。采用技术方案17所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。利用设 置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接构件积存部的凹部及粘接力确保 部的槽能确保粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。通过例如在 磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方的粘接构件积存部上涂敷粘接构件，能将粘接构 件稳定地供给至粘接力确保部的槽，容易使粘接构件遍布粘接力确保部。采用技术方案18所述的发明， 将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在将磁性构件安装于磁连结构件上之前或将磁性构件安装于磁连结构件上之后，被涂敷在磁性构 件的粘接构件积存部和磁连结构件的粘接构件积存部中的任一方或双方上的粘接构件，利 用构成磁性构件的粘接构件积存部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹部或构成磁连结 构件的粘接构件积存部的深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹部通过毛细管现象等容易地 展开，因此能实现可靠的粘接。在设置在磁性构件的粘接构件积存部和磁连结构件的粘接 构件积存部中的任一方或双方上的凹部的深度为例如0mm的情况下，担心基本不会发生 毛细管现象。而在设置在磁性构件的粘接构件积存部和磁连结构件的粘接构件积存部中的 任一方或双方上的凹部的深度超过例如0. 2mm的情况下，担心难以发生毛细管现象。如果 在磁性构件的粘接构件积存部和磁连结构件的粘接构件积存部中的任一方或双方上构成 深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹部，则被涂敷在粘接构件积存部上的粘接构件利用毛 细管现象等以粘接构件积存部为起点容易地在粘接力确保部上展开。因此，能可靠地确保 磁性构件相对于磁连结构件的粘接强度。采用技术方案19所述的发明，能构成将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上的 拾取装置。利用设置在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部能确保 粘接强度，从而能构成将粘接构件和磁连结构件可靠地粘接在一起的拾取装置。采用技术方案20所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。通过在 磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上形成用于确保粘接强度的粘接力确保部，在形 成于磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部上设置粘接构件，能确保 粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案21所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。使用模 具在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上进行转印加工而形成粘接力确保部，利用 经由转印加工形成在磁性构件上的粘接力确保部和经由转印加工形成在磁连结构件上的 粘接力确保部中的任一方或双方，能确保粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠 地粘接在一起。采用技术方案22所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在磁性 构件和磁连结构件中的任一方或双方上进行冲压加工而形成粘接力确保部，利用经由冲 压加工形成在磁性构件上的粘接力确保部和经由冲压加工形成在磁连结构件上的粘接力 确保部中的任一方或双方，能确保粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接
在一起。采用技术方案23所述的发明，能将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上。在磁性 构件和磁连结构件中的任一方或双方上进行转印加工而形成粘接力确保部，利用经由转印 加工形成在磁性构件上的粘接力确保部和经由转印加工形成在磁连结构件上的粘接力确 保部中的任一方或双方，能确保粘接强度，从而能将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。采用技术方案24所述的发明，能构成将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件上的 拾取装置。通过在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上形成用于确保粘接强度的粘 接力确保部，在形成于磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上的粘接力确保部上设置 粘接构件，能确保粘接强度，从而能构成将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起的拾 取装置。
采用技术方案25所述的发明，能构成具有将磁性构件可靠地粘接在磁连结构件 上的拾取装置的盘装置。


图1是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法的 第一实施方式的说明图。图2的(A)是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接 方法的第一实施方式的分解立体图，(B)同样是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构 件与磁连结构件的粘接方法的第一实施方式的说明图。图3的(A)和⑶是表示粘接力确保部的凹凸部的槽的说明图。图4是表示本发明的拾取装置的第一实施方式的立体图。图5是表示本发明的盘装置的第一实施方式的说明图。图6的(A)是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接 方法的第二实施方式的分解立体图，(B)同样是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构 件与磁连结构件的粘接方法的第二实施方式的说明图。图7是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法的 第三实施方式的说明图。图8是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法的 第四实施方式的说明图。图9的(A)是表示以往的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方 法的一种形式的分解立体图，(B)是表示以往的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构 件的粘接方法的一种形式的说明图。
具体实施例方式下面，基于说明书附图，详细说明本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连 结构件的粘接方法、拾取装置以及盘装置的实施方式。图1 图5是表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接 方法、拾取装置以及盘装置的第一实施方式的图。磁连结构件10 1 (图1，图2的(A)，图2的(B))和磁性构件50 (图2的(A))构成 驱动装置5(图4)的固定部7。另外，图4所示的物镜250、保持构件90、与磁性构件50 (图 2的(A))相对应的各线圈(未图示)、在保持构件90 (图4)上安装了物镜250和未图示 的各线圈等而构成的可动部组装体100、用于支承可动部组装体100的各支承构件80构成 驱动装置5的可动部9。拾取装置3的物镜250的驱动装置5构成为具有所述固定部7和 所述可动部9的驱动器5。作为图4和图5所示的拾取装置3，例如使用能射出激光(LASER light amplification by stimulatedemission of radiation)的光拾取装置 3。将光拾取 (optical pickup)或光拾取装置(optical pickup unit)简称为“0PU”。另外，图5所示 的盘装置1使用能射出激光的光盘装置1。将物镜(objective lens)简称为“0BL”。在保 持构件90即透镜架90上安装0BL250和未图示的各线圈等而构成的可动部组装体100例如为透镜架组装体100。图4及图5所示的0PU3与各种盘M(图5)等各种介质M相对应。作为盘M，可列 举出如光盘M等。0PU3使记录在各种光盘M(图5)等各种介质M上的数据、信息、信号等再 现。另外，0PU3将数据、信息、信号、图像等记录在可写入或可改写的各种光盘M等各种介 质Mi。并且，与可擦除数据、信息、信号等的各种光盘M等的各种介质M相对应，0PU3能 擦除记录在各种光盘M等各种介质M上的数据、信息、信号等。介质(media)是指能保存例 如数据、信息、信号等的盘等。另外，0PU3例如与“CD” (Compact Disc)(商标)系列的介质、“DVD” (注册商标) (Digital Versatile Disc)系列的介质、“HD DVD "(High Definition DVD)(注册商标)系 列的介质、根据中国规定的规格被作为介质的“CBHD (China Blue High-Definition) ”(例 如旧称“CH-DVD”)系列的介质、“Blu-ray Disc”(注册商标)系列的介质相对应。0PU3例 如与从由上述各种介质构成的组中选择的至少一种介质相对应。具体而言，0PU3与上述 多个介质中的任意介质相对应。作为介质M，例如可列举上述各种光盘M等，也可列举出具有如下形态的介质M。 例如，作为盘(M)，也可列举出在盘双面上设有信号面部(Ma)、可写入/擦除数据、可改写数 据等的光盘(M)等。另外，作为盘(M)，也可列举出设有两层信号面部(Ma)、可写入/擦除 数据、可改写数据的光盘M等。另外，在本说明书中对标记附加括号“0”是为了便于说明 与图示等的装置有一些区别的装置。另外，还可列举出设有三层信号面部、可写入/擦除数 据、可改写数据等的“HD DVD”用光盘等(未图示)。另外，还可列举出设有四层信号面部、 可写入/擦除数据、可改写数据等的“Blu-ray Disc”用光盘等(未图示)。另外，还可列举 出对光盘(M)的标签面部侧照射激光而能进行标签等各种写入等的光盘(M)。光盘M的信 号面部Ma、标签面部具有金属薄膜等薄层等。在具有金属薄膜等的信号面部Ma上记录数 据、信息、信号等，在标签面部上记录图像等。光盘M的信号面部Ma为具有金属薄层等的信 号层Ma。向发光元件210供给电流，利用从发光元件210射出的激光在光盘M上进行信息 记录，或再现光盘M上记录的信息，或擦除光盘M上记录的信息。另外，向发光元件220供 给电流，利用从发光元件220射出的激光在光盘M上进行信息记录，或再现光盘M上记录的 信息，或擦除光盘M上记录的信息。通过使用0PU3的驱动器5使0PU3的0BL250上下/左右移动，从而使激光的焦点 对焦在光盘M的信号层Ma上。在光盘M的信号层Ma上照射形成高精度的激光束光斑时， 利用0PU3的驱动器5使被安装在透镜架90上的0BL250大致沿聚焦方向D1、跟踪方向D2 等移动。在利用0BL250进行激光对焦时，该0PU3进行聚焦调整、跟踪调整和必要时的倾斜 调整。而且，聚焦调整、跟踪调整和倾斜调整例如大约同时进行。焦点(focus)是指焦点或要点(punt)。另外，聚焦(focusing)是指对准焦点或 焦点被对准。另外，轨道(track)是指光盘上的信号的轨道。另外，跟踪(tracking)是指 使用光跟踪观测设置在光盘信号面上的微小信号部从而确定大致呈螺旋状轨道的位置。另 外，光盘装置或光拾取装置中的倾斜(tilt)是指盘面和物镜光轴的角度偏移。例如，对光盘M进行具有安装了 0BL250的透镜架90的透镜架组装体100的聚焦 伺服(focus servo)时，具有安装了 0BL250的透镜架90的透镜架组装体100沿上下方向D1移动。另外，对光盘M进行具有安装了 0BL250的透镜架90的透镜架组装体100的跟踪 伺服时，具有安装了 0BL250的透镜架90的物镜组装体100沿左右方向D2移动。伺服或伺 服机构是指测量控制对象的状态、将测得的值与标准值进行比较而自动进行校正控制的机 构。在被0BL250集中的激光的焦点与光盘M的信号层Ma对准时，具有安装了 0BL250的透 镜架90的透镜架组装体100被驱动器5沿上下左右等驱动。图1、图2的㈧及图2的(B)所示的磁性构件50的安装结构例如磁铁50的安 装结构包括一对大致矩形平板状的磁铁50、配设有一对大致矩形平板状磁铁50的例如大 致二字形的磁连结构件10 I例如磁轭10 I、用于将一对大致矩形平板状的磁铁50粘接/ 接合在大致二字形的磁轭10 I上的粘接构件60例如粘接剂60。磁轭(yoke)是指例如在 结构上支承磁连接的装置。另外，磁轭用于减少磁铁(磁体)等磁性构件产生的磁力的泄 露。在此，使用配设有磁铁50的例如后磁轭10 I作为磁轭10 I。例如，后磁轭10 I可以 被当做轭架(frame yoke) 10 I来处理。架(frame)是指框、框架、支架。轭架形成为具有 磁轭功能的框架。在构成磁铁50的大致矩形平面状的安装面部51和构成后磁轭10 I的 一对大致矩形平面状的安装面部11a I、llb I中的任一方或双方上设置有粘接力确保部 12a I、12b I，该粘接力确保部12a I、12b I用于确保将磁铁50安装于后磁轭10 I上时 粘接剂60的粘接强度。下面具体说明图1、图2的(A)及图2的⑶所示的磁铁50的安装结构。该磁铁50 的安装结构包括一对大致矩形平板状的磁铁50 ；设置有一对粘接力确保部12a I、12b I 的大致二字形的后磁轭10 I ；用于将一对大致矩形平板状的磁铁50粘接/接合于大致-字形的后磁轭10 I上的粘接剂60，上述一对粘接力确保部12a I、12b I用于确保将一对 大致矩形平板状的磁铁50粘接到后磁轭10 I上时的粘接强度。大致二字形的后磁轭10 I包括形成为大致中空矩形平板状的基壁18和沿相对于 基壁18大致正交的方向延伸设置的一对侧壁10a I、10b I。在作为构成后磁轭10 I的 第一侧壁10a I的粘接面侧的大致矩形的安装面部11a I上设有用于确保粘接剂60的粘 接强度的粘接力确保部12a I。另外，在作为构成后磁轭10 I的第二侧壁10b I的粘接 面侧的大致矩形的安装面部lib I上设有用于确保粘接剂60的粘接强度的粘接力确保部 12b I。另外，在构成后磁轭10 I的大致矩形板状的基壁18上设有供激光通过的大致矩形 孔状的通孔19。大致矩形平板状的磁铁50包括作为粘接面侧的大致矩形的安装面部51 ；与安装 面部51相反一侧的作为线圈相对面侧的大致矩形的线圈相对面部52 ；与大致矩形的安装 面部51和大致矩形的线圈相对面部52大致正交的四个大致长方形的端面部53、54、55、56。 大致矩形平板状的磁铁50像这样形成为具有至少6个面部51、52、53、54、55、56的平坦的 大致长方体形状。虽然如图1、图2的(A)、图2的⑶所示地在构成后磁轭10 I的侧壁10a I、10b I 的安装面部11a I、llb I上设置有粘接力确保部12a I、12b I，但也可根据磁铁50的安 装结构、0PU3的设计/规格、磁铁50与磁轭10 I的粘接方法等，例如在构成磁铁50的安 装面部51上设置粘接力确保部(未图示)。另外，如图1、图2的(A)及图2的(B)所示，虽然在构成后磁轭10 I的安装面部 11a I、llb I上设置粘接剂60将磁铁50粘接在后磁轭10 I上，但也可通过磁铁50的安轭10 I的粘接方法等，在构成磁铁50的安装面 部51等上设置粘接剂60，将磁铁50粘接在后磁轭10 I上。例如，通过构成图1、图2的(A)及图2的⑶所示的磁铁50的安装结构，一对大 致矩形平板状的磁铁50被可靠地粘接在构成后磁轭10 I的一对大致矩形平面状安装面部 11a I、llb I上。能在利用设置在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装 面部11a I、llb I中的任一方或双方上的粘接力确保部12a I、12b I来确保了粘接剂60 的粘接强度的状态下，将磁铁50和后磁轭10 I可靠地粘接在一起。具体而言，在利用设置 在构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I上的粘接力确保部12a I、12b I来确保了粘 接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上。粘接力确保部12a I、12b I包括多个微细凹凸部13a I、13b I。本发明中的凹 凸部是为了便于表达而使用的，是指例如槽等凹部、具有凹部的面。例如，若形成图1、图2的(A)及图2的⑶所示的粘接力确保部12a I、12b I， 则能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上。在将磁铁50安装于后磁轭10 I上之前或 将磁铁50安装于后磁轭10 I上之后，被涂敷在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保 部和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、lib I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方 或双方上的粘接剂60，容易利用毛细管现象在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保部 的多个微细凹凸部或构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I的粘接力确保部12a I、 12b I的多个微细凹凸部13a I、13b I上展开，因此，能实现可靠的面粘接。因此，能可靠 地确保磁铁50相对于后磁轭10 I的粘接强度。例如，在预先在构成磁铁50的安装面部51的多个微细凹凸部和构成后磁轭10 I 的安装面部11a I、llb I的多个微细凹凸部13a I、13b I中的任一方或双方上涂敷粘接 剂60、再将磁铁50安装于后磁轭10 I上的情况下，例如发生磁铁50相对于后磁轭10 I产 生桨的作用，从而要将粘接剂60刮掉。即使磁铁50相对于粘接剂60有桨/铲刮的作用， 由于多个微细凹凸部13a I、13b I起到存留粘接剂的作用，因此，能限制被磁铁50从多个 微细凹凸部13a I、13b I刮走的粘接剂60的量。因此，在构成磁铁50的安装面部51和构 成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I中的任一方或双方的大面积上残留有粘接剂60。 因此，能可靠地确保磁铁50相对于后磁轭10 I的粘接强度。另外，在将磁铁50粘接于后磁轭10 I上时，例如，在预先在构成磁铁50的安装面 部51的多个微细凹凸部和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I的多个微细凹凸部 13a I、13b I中的任一方或双方上大致均勻地展开涂敷粘接剂60的情况下，或者在将构成 磁铁50的安装面部51安装于构成后磁轭10 I的安装面部11a I、lib I的附近之后、立即 在构成磁铁50的安装面部51的多个微细凹凸部和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、 lib I的多个微细凹凸部13a I、13b I中的任一方或双方上大致点状地涂覆粘接剂60的 情况下，粘接剂60都能利用毛细管现象在多个微细凹凸部13a I、13b I上展开，因此，能可 靠地确保磁铁50相对于后磁轭10 I的稳定的粘接强度。粘接力确保部12a I、12b I例如包括大致呈矩形倾斜网格状或大致倾斜窄条形 状的多个微细凹凸部13a I、13b I。如果像这样形成粘接力确保部12a I、12b I，则能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭 10 I上。在将磁铁50安装于后磁轭10 I上之前或将磁铁50安装于后磁轭10 I上之后，被涂敷在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保部和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、 lib I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上的粘接剂60，容易利用毛细管现 象在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保部的例如大致矩形倾斜网格状或大致倾斜 窄条形状的多个微细凹凸部或构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I的粘接力确保部 12a I、12b I的例如大致矩形倾斜网格状或大致倾斜窄条形状的多个微细凹凸部13a I、 13b I上展开，因此能实现可靠的面粘接。因此，能可靠地确保磁铁50相对于后磁轭10 I 的粘接强度。根据磁铁50的安装结构、0PU3的设计/规格、磁铁50与磁轭10 I的粘接方法等， 粘接力确保部12a I、12b I也可以不是例如大致矩形倾斜网格状或大致倾斜窄条形状的 多个微细凹凸部13a I、13b I，而是例如不连续的任意形状的多个微细凹凸部(未图示)。 例如，粘接力确保部12a I、12b I也可以为大致波浪状的多个微细凹凸部(未图示)。粘接力确保部12a I、12b I包括凹凸部13a I、13b I，该凹凸部13a I、13b I具 有多个槽深16d (图3)超过0mm (毫米)且在约0. 2mm以下的微细的槽14a、14b、15a、15b。 如图3所示，槽14a、14b、15a、15b作为能通过例如冲压加工等高精度且容易成形的、纵截 面大致V字形的槽14a、14b、15a、15b形成为规定的深度16d。详细而言，假如大致沿与细长 的各槽14a、14b/15a、15b的长度方向大致正交的方向剖切具有各槽14a、14b/15a、15b的侧 壁10a I /10b I时，从截面看，各V槽14a、14b、15a、15b的深度16d超过0謹且在约0. 2謹 以下。由此，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上。在将磁铁50安装于后磁轭10 I 上之前或将磁铁50安装于后磁轭10 I上之后，被涂覆在构成磁铁50的安装面部51的粘 接力确保部和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I的粘接力确保部12a I、12b I中 的任一方或双方上的粘接剂60，容易利用例如由各V槽14a、14b、15a、15b等产生的毛细管 现象在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保部的、具有多个槽深超过0mm且在约0. 2mm 以下的微细V槽的凹凸部或在构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I的粘接力确保部 12a I、12b I的、具有多个槽深16d超过0_且在约0.2mm以下的微细V槽14a、14b、15a、 15b的凹凸部13a I、13b I上展开，因此能实现可靠的面粘接。在设置在磁铁50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中 的任一方或双方上的凹凸部13a I、13b I的V槽14a、14b、15a、15b的槽深16d为例如0_ 的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。另外，在设置在磁铁50的粘接力确保部和后磁 轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上的凹凸部13a I、13b I的V槽 14a、14b、15a、15b的槽深16d超过例如0. 2mm的情况下，担心难以发生毛细管现象。还担 心不能高精度且容易地形成构成凹凸部13a I、13b I的V槽14a、14b、15a、15b。如果在磁 铁50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上 构成具有槽深16d超过0mm且在约0. 2mm以下的V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部13a I、 13b I，则被涂敷在粘接力确保部12a I、12b I上的粘接剂60能利用毛细管现象容易地在 粘接力确保部12a I、12b I上展开。因此，能可靠地确保磁铁50相对于后磁轭10 I的粘 接强度。通过在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I 中的任一方或双方上形成作为粘接力确保部12a I、12b I的、具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部13a I、13b I，能利用粘接剂60的毛细管现象等可靠地确保磁铁50相对 于后磁轭10 I的粘接强度，上述多个微细V槽14a、14b、15a、15b的槽深16d为几ym(微 米) 0. 2mm左右、优选为大致0. 01mm 大致0. 15mm。在设置在磁铁50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中 的任一方或双方上的凹凸部13a I、13b I的V槽14a、14b、15a、15b的槽深16d为例如小于 约0. 01mm的情况下，担心难以发生毛细管现象。另外，在设置在磁铁50的粘接力确保部和 后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上的凹凸部13a I、13b I的 V槽14a、14b、15a、15b的槽深16d例如超过约0. 15mm的情况下，担心难以发生毛细管现象。 还担心难以高精度且容易地形成构成13a I、13b I的V槽14a、14b、15a、15b。如果在磁铁 50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上形成 具有槽深16d为约0. 01mm 约0. 15mm的V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部13a I、13b I， 则被涂敷在粘接力确保部12a I、12b I上的粘接剂60能够利用毛细管现象容易地在粘接 力确保部12a I、12b I上展开。由此，能可靠地确保磁铁50相对于后磁轭10 I的粘接强 度。粘接力确保部12a I、12b I包括具有多个槽截面积16f (图3的(B))超过0mm2 (平 方毫米)且在约0.05mm2以下的微细槽14a、14b、15a、15b的凹凸部13a I、13b I。如图3 的(B)所示，槽14a、14b、15a、15b作为能通过例如冲压加工等高精度且容易成形的、纵截面 大致V字形的槽14a、14b、15a、15b形成为规定的截面积16f。详细而言，假如大致沿相对于 细长的各槽14a、14b/15a、15b的长度方向大致正交的方向剖切具有各槽14a、14b/15a、15b 的侧壁10a I、10b I时，从截面看，各V槽14a、14b、15a、15b的截面积16f超过0mm2且在 约0. 05mm2以下。由此，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上。在将磁铁50安装在后磁轭10 I 上之前或将磁铁50安装在后磁轭10 I上之后，被涂敷在构成磁铁50的安装面部51的粘 接力确保部和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I的粘接力确保部12a I、12b I中 的任一方或双方上的粘接剂60，能够利用例如由各V槽14a、14b、15a、15b等产生的毛细管 现象容易地在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保部的、具有多个槽截面积超过0mm2 且在约0. 05mm2以下的微细V槽的凹凸部或在构成后磁轭10 I的安装面部11a I、lib I 的粘接力确保部12a I、12b I的、具有多个槽截面积16f超过0mm2且在约0. 05mm2的微细 V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部13a I、13b I上展开，因此能实现可靠的表面粘接。在设置在磁铁50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中 的任一方或双方上的凹凸部13a I、13b I的V槽14a、14b、15a、15b的横截面积16f为例如 0mm2的情况下，担心基本不会发生毛细管现象。另外，在设置在磁铁50的粘接力确保部和 后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上的凹凸部13a I、13b I的 V槽14a、14b、15a、15b的横截面积16f为例如超过0. 05mm2时，担心难以发生毛细管现象。 如果在磁铁50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或 双方上形成具有横截面积16f超过0mm2且在约0. 05mm2以下的V槽14a、14b、15a、15b的凹 凸部13a I、13b I，则被涂敷在粘接力确保部12a I、12b I上的粘接剂60能够利用毛细 管现象容易地在粘接力确保部12a I、12b I上展开。因此，能够可靠地确保磁铁50相对于 后磁轭10 I的粘接强度。
通过在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I 中的任一方或双方上形成作为粘接力确保部12a I、12b I的、具有多个微细V槽14a、14b、 15a、15b的凹凸部13a I、13b I，能够利用粘接剂60的毛细管现象等可靠地确保磁铁50 相对于后磁轭10 I的粘接强度，上述多个微细V槽14a、14b、15a、15b的横截面积16f为几 U m2 (平方微米) 0. 05mm2左右、优选为大约0. 0001mm2 约0. 03mm2。在设置在磁铁50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中 的任一方或双方上的凹凸部13a I、13b I的V槽14a、14b、15a、15b的横截面积16f为例如 小于约0. 0001mm2的情况下，担心难以发生毛细管现象。另外，在设置在磁铁50的粘接力 确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上的凹凸部13a I、 13b I的V槽14a、14b、15a、15b的横截面积16f为例如超过0. 03mm2的情况下，担心难以 发生毛细管现象。如果在磁铁50的粘接力确保部和后磁轭10 I的粘接力确保部12a I、 12b I中的任一方或双方上形成具有横截面积16f为约0.0001mm2 约0.03mm2的V槽14a、 14b、15a、15b的凹凸部13a I、13b I，则被涂敷在粘接力确保部12a I、12b I上的粘接剂 60能利用毛细管现象容易地在粘接力确保部12a I、12b I上展开。因此，能可靠地确保磁 铁50相对于后磁轭10 I的粘接强度。粘接力确保部12a I、12b I具有配置成大致网格状的多个微细V槽14a、14b、 15a、15b0如果像这样形成粘接力确保部12a I、12b I，则能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭 10 I上。利用设置在磁铁50和后磁轭10 I中的任一方或双方上的粘接力确保部12a I、 12b I的多个微细的大致网格状V槽14a、14b、15a、15b，能确保粘接强度，从而能将磁铁50 和后磁轭10 I可靠地粘接在一起。粘接力确保部12a I、12b I包括多个大致沿朝向例如左下向的第一方向延伸设 置的微细的第一方向V槽14a、14b和多个大致沿与第一方向不同的方向朝向例如右下方的 第二方向延伸设置的微细的第二方向V槽15a、15b。而且，多个微细的第一方向V槽14a、 14b与多个微细的第二方向V槽15a、15b相交叉。如果像这样形成粘接力确保部12a I、12b I，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭 10 I上。设置在磁铁50和后磁轭10 I中的任一方或双方上的粘接力确保部12a I、12b I 包括多个大致沿朝向例如左下方的第一方向延伸设置的微细的第一方向V槽14a、14b和 多个大致沿与第一方向不同朝向例如右下方的第二方向延伸设置的微细的第二方向V槽 15a、15b，通过使多个微细的第一方向V槽14a、14b和多个微细的第二方向V槽15a、15b相 交叉，使粘接剂60通过各V槽14a、14b、15a、15b遍布粘接力确保部12a I、12b I，结果，粘 接剂60容易地在粘接力确保部12a I、12b I上展开。因此，能确保粘接强度，能将磁铁50 和后磁轭10 I可靠地粘接在一起。侧壁10a I、10b I的各V槽14a、14b、15a、15b相对于划分后磁轭10 I的基壁18 与侧壁10a I、10b I的基准线10x倾斜约45°地延伸交叉。另外，各V槽14a、14b、15a、 15b大致正交，且各V槽14a、14b、15a、15b的交叉角约为90°。另外，各V槽14a、14b、15a、15b例如包括相对于后磁轭10 I的安装面部11a I、 lib I的基准面部16以大约135° (度)的钝角倾斜形成的第一倾斜面部16a ；相对于后 磁轭10 I的安装面部11a I、llb I的基准面部16以约135° (度)的钝角倾斜形成且相对于第一倾斜面部16a大致正交的第二倾斜面部16b ；第一倾斜面部16a和第二倾斜面部 16b以约90°交叉的里端部16e ；从安装面部11a I、llb I的基准面部16以规定的深度 16d凹至里端部16e而形成的槽收纳部16c。基准面部16是构成后磁轭10 I的安装面部 11a I、llb I的粘接力确保部12a I、12b I的凹凸部13a I、13b I的基准面部16。通过使进入各V槽14a、14b、15a、15b的槽收纳部16c的、规定粘度的粘接剂60产 生例如毛细管现象，能使粘接剂60可靠地在设于粘接力确保部12a I、12b I上的具有V槽 14a、14b、15a、15b 的凹凸部 13a I、13b I 上展开。另外，构成各V槽14a、14b、15a、15b的第一倾斜面部16a与第二倾斜面部16b的 角度16g大致为直角，但该角度16g可以为锐角，也可以为钝角。而且，各槽14a、14b、15a、 15b的横截面形状不限于大致V字形，也可以形成为大致W字形、大致U字形、大致凹状等大 致矩形状。另外，根据磁铁50的安装结构、0PU3的设计/规格、磁铁50与磁轭10 I的粘接方 法等，例如在构成后磁轭10 I的大致矩形的安装面部11a I的大致中央部上设置作为涂敷 粘接构件60时的目标的粘接构件涂敷目标部(未图示)的例如圆孔状的凹部(未图示)。 另外，例如在构成后磁轭10 I的大致矩形的安装面部lib I的大致中央部上设置作为涂敷 粘接构件60时的目标的粘接构件涂敷目标部(未图示)的例如大致圆孔状的凹部(未图 示)°如图1、图2的(A)及图2的⑶所示，例如进行褶皱加工而形成微细的大致凹凸 状的粘接力确保部12a I、12b I。例如，如果形成如图1、图2的(A)、图2的(B)所示的磁铁50的安装结构，则能将 磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上。“褶皱”是指例如在表面上形成的大致凹凸状。另 外，本说明书中所说的褶皱加工是指例如在金属等表面上形成图案等的微细加工法。作为 褶皱加工法例如可以列举出用刀雕刻、使用化学药品进行表面处理、使用模具进行冲压成 形等的加工方法。能在利用在构成磁铁50的安装面部51上进行褶皱加工而形成的微细的 大致凹凸状粘接力确保部和在构成后磁轭10 I的安装面部11a I、llb I上进行褶皱加工 而形成的微细的大致凹凸状的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方来确保了粘 接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50和后磁轭10 I可靠地粘接在一起。下面详细说明形成微细的大致凹凸状粘接力确保部12a I、12b I时的加工手段。 如图1、图2的(A)及图2的(B)所示，进行冲压模具成形加工时一并进行转印加工，转印形 成微细的大致凹凸状的粘接力确保部12a I、12b I。例如，如果形成图1、图2的(A)及图2的(B)所示的磁铁50的安装构造，则能将 磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上。能在利用在构成磁铁50的安装面部51上进行冲压 模具成形加工而转印形成的微细的大致凹凸状粘接力确保部和在构成后磁轭10 I的安装 面部11a I、llb I上进行冲压模具成形加工而转印形成的微细的大致凹凸状粘接力确保 部12a I、12b I中的任一方或双方来确保了粘接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50和 后磁轭10 I可靠地粘接在一起。具体而言，通过使用冲压模具(未图示)在金属底板(未图示)上大约同时进行 冲切、转印、弯曲、冲压加工，能高生产率地形成后磁轭10 I，并且能在后磁轭10 I的侧壁 10a I、10b I的安装面部11a I、llb I上高生产率地形成具有凹凸部13a I、13b I等的粘接力确保部12a I、12b I，该凹凸部13a I、13b I具有多个微细的V槽14a、14b、15a、 15b。另外，根据磁铁50的安装结构、0PU3的设计/规格、磁铁50与磁轭10 I的粘接 方法等，例如进行滚花加工等而形成微细的大致凹凸状的粘接力确保部12a I、12b I。另外，作为与各线圈(未图示)相对应的各磁性构件，例如可列举出磁铁、磁钢等。 具体而言，与未图示的各线圈相对应的各磁性构件50，例如可使用磁铁/磁钢形成。磁性构 件50使用永久磁铁材料等形成。磁铁指的是以铁或氧化铁为主要成分的磁性体。磁性构 件50使用含有氧化铁、钡、锶等的铁素体系磁铁形成。或者，磁性构件50使用含有铁、铬、 钴、钐、钕、硼等稀土类/合金类磁铁、磁钢等形成。磁钢是指在铁等中添加铬、铝、镍、钴等 合金元素而成的合金钢，是通过淬火固化、析出固化等而成为具有剩磁和剩磁通密度较高 的永久磁铁特性、且可进行轧制加工等成形加工的例如合金类磁铁。大致板状的磁性构件50例如使用铁素体磁铁、稀土类磁铁、塑性加工磁铁、铸造 磁铁、粘接磁铁、特殊磁铁等形成。例如，根据磁铁50的安装结构、0PU3的设计/规格、磁 铁50与后磁轭10 I的粘接方法等，使用聚氯乙烯磁铁、橡胶磁铁、塑料磁铁、稀土类磁铁等 的粘接磁铁，也可以形成大致板状的磁性构件50。例如，使用永久磁铁材料形成各磁铁50。例如，使用廉价、顽磁力较大、不易被消磁 且耐腐蚀性优良的铁素体系磁铁形成磁铁50。作为磁铁50，即使使用廉价的铁素体磁铁， 只要能构成具有透镜架90的透镜架组装体100、具有透镜架组装体100的驱动器5、具有驱 动器5的0PU3及具有0PU3的光盘装置1，就能避免价格的大幅上升，且能不降低线圈相对 于磁铁50的灵敏度而将线圈相对于磁铁50的灵敏度维持在必要的水平。作为铁素体磁铁， 例如可列举出日立金属公司生产的高性能铁素体磁铁NMF(注册商标)系列等。高性能铁 素体磁铁的具体的NMF(注册商标)的产品名例如可列举出NMF3B、NMF12G等。根据0PU3、驱动器5等的设计/规格等，作为磁铁50，例如可使用发出比铁素 体磁铁高的磁力、热稳定性优良的稀土类磁铁。作为稀土类磁铁，例如可列举出TOSHIBA MATERIALS CO.，LTD.公司生产的卜^ > 7夕^ (注册商标)等。作为稀土类钴磁铁的具 体的卜；^ l· 7夕；^ (注册商标)的产品名，例如可列举出TS-24、TS-28HS等。另外，根据0PU3、驱动器5等的设计/规格等，作为磁铁50，例如使用发出比铁素 体磁铁高的磁力、可进行轧制等塑性加工的合金类磁铁即金属磁铁。作为合金磁铁即金属 磁铁(metal magnet)，例如，可列举日立金属公司生产的才、卡”“(注册商标)等。 作为金属磁铁的具体的本Μ、”、(注册商标)的产品名，例如可列举出NMX-31UH、 NMX-33UH 等。另外，例如使用在一面侧的一侧形成正极部且在一面侧的另一侧形成负极部的单 体两极的驱动用磁铁50。另外，根据磁铁50的安装结构、0PU3的设计/规格、磁铁50与 磁轭10 I的粘接方法等，作为磁性构件50，也可以使用单极/双极磁铁、双极以上充磁的多 级充磁磁铁。安装了各磁铁/磁钢等各磁性构件50的磁轭10 I，使用被磁性体吸引的金属材 料形成。例如，对轧制钢板等薄钢板(均未图示)进行冲切加工、折弯加工、滚压加工等冲 压模具成形加工而形成磁轭10 I。具体而言，例如使用轧制钢板等以铁为主要成分的金属 底板，通过冲压成形机(均未图示)等冲压折弯形成磁轭10 I。作为以铁为主要成分的金属底板，可列举出不锈钢钢板、轧制钢板、带钢等。例如，作为冷轧钢板及带钢，可列举出根 据《JIS G 3141》制定的 SPCC、SPCD、SPCE 等。另外，作为粘接剂60，可列举出单组分和/或双组分环氧树脂、丙烯酸系树脂、氨 酯系树脂、甲基丙烯酸系树脂等树脂/聚合物。例如，使用选自所述树脂组中的树脂/聚合 物中的任意一种作为构成单组分和/或双组分粘接剂60的聚合物/主剂。另外，环氧系树 脂、氨酯系树脂、热固性丙烯酸树脂等例如为热固性树脂/聚合物。此外，作为相对于双组 分聚合物主剂的固化剂，例如可以列举出多元醇、聚酰胺胺(Polyamidoamine)、改性聚胺、 叔胺等的胺系材料等聚合物。例如使用选自上述聚合物组的任意一种聚合物作为构成双组 分粘接剂60的固化剂。由单组分聚合物形成的粘接剂，粘接性能优良，而由双组分聚合物 形成的粘接剂在粘接剂的价格方面有优势。另外，作为粘接剂60，例如也可使用具有被光等电子束照射而固化的特性的电子 束固化型粘接剂60。具体而言，粘接剂60也可以使用具有被紫外线照射而固化的特性的紫 外线固化型粘接剂60。更详细而言，粘接剂60也可使用具有被紫外线照射而固化的特性且 具有热固化特性的紫外线固化型粘接剂60。另外，例如也可以和热固化型粘接剂60 —起 并用紫外线固化型粘接剂60。作为具体的环氧系粘接剂60，例如可列举出瑞士 Huntsman (Huntsman Advanced Materials)公司生产/Huntsman · Japan公司销售的7，A夕· ^卜(注册商标)2010-1、 2012等。7，义夕 卜(注册商标)2010-1在23°C的温度条件下的粘度约为80000mPaS (毫 帕秒)，快速固化性优良。另外，7，>夕、卜(注册商标)2012为具有主剂AW2104和固化 剂冊2934的双组分粘接剂，且在23°C的温度条件下的粘度约为25000 35000mPas，通用 性、快速固化性优良。另外，作为具体的聚氨酯系粘接剂60，例如可列举出瑞士 Huntsman (Huntsman Advanced Materials)公司生产/Huntsman · Japan公司销售的7，A夕· ^卜(注册商 标)2055等。” W、卜(注册商标)2055例如为触变性(thixotropy)物质，且拉伸剪 切强度约为9000mPaS，缝隙充填性能等优良。另外，作为具体的改性丙烯酸系粘接剂60，例如可列举出瑞士Huntsman (Huntsman Advanced Materials)公司生产/Huntsman · Japan公司销售的7，A夕· ^卜(注册商 标)2021等。7，A夕、卜(注册商标)2021为具有主剂XD4661A和固化剂XD4661D的双 组分粘接剂，在23°C的温度条件下的粘度约为60000mPas，最低固化时间短，约18分钟，与 其他τ·，&夕M卜(注册商标)相比，在快速固化性方面更优良。另外，作为粘接剂，例如可列举出ThreeBond Co.，Ltd公司生产的厌氧性强力密封 剂等厌氧性粘接剂。厌氧性粘接剂是指与空气接触期间不固化、与空气隔断后固化的粘接 剂。另外，ThreeBond Co.，Ltd公司生产的厌氧性强力密封剂同时具有紫外线固化特性等 电子束固化特性，因此，例如对被挤出的厌氧性粘接剂照射紫外线等电子束而使被挤出的 厌氧性粘接剂固化。作为构成厌氧性粘接剂的主要成分，例如可举出(甲基)丙烯酸酯、甲 基丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯单体等。另外，三键公司生产的1300系列厌氧性粘接剂中，可列举出ThreeBoncK注册商 标)1359D,ThreeBond (注册商标)1373N等。ThreeBond (注册商标)1359D固化前的主要成 分为(甲基)丙烯酸酯，例如在室温时的粘度约为HOOOmPas，具有快速固化性和紫外线固化特性等电子束固化特性，固化后迅速变为聚丙烯酸树脂，具有优良的耐振动性、耐热性、 挠性、表面粘接性等。另外，ThreeBond(注册商标)1373N固化前的主要成分为甲基丙烯酸 酯，例如在室温时的粘度约为90mPas，具有快速固化性和紫外线固化特性等电子束固化特 性，固化后迅速转变为甲基丙烯树脂，具有优良的耐振动性、耐热性、低温固化性等。另外，作为粘接剂，例如可列举出ThreeBond Co.，Ltd公司生产的瞬干胶(金牌 系列)。瞬干胶是指以几秒到几十秒这样的“秒速”将被粘接构件之间固定的粘接剂。作 为ThreeBond Co.，Ltd公司生产的7700系列瞬干胶，例如可列举出ThreeBond(注册商 标)7741等。ThreeBond (注册商标)7741的主成分为2-氰基丙烯酸乙酯，在室温下的粘度 约为2mPas，瞬间粘接性优良。另外，作为电子束固化型粘接剂60的一种的紫外线固化型粘接剂60，例如可列举 出美国NORLAND公司生产的光学UV粘接剂60N0A65、N0A68、N0A73、N0A83H等。光学UV粘 接剂60N0A65、N0A68、N0A73、N0A83H等紫外线固化性粘接剂60为丙烯酸系单组分紫外线固 化型粘接剂60。丙烯酸系紫外线固化性粘接剂60的固化时间短，几秒中即可固化。“UV” 是指“ultraviolet”。另外，“ultraviolet radiation”是指“紫外线”。紫外线固化型粘接 剂60被称为UV固化型粘接剂60等。NORLAND公司生产的N0A65例如在室温下的粘度约为1000 1200cps (厘泊/ centipoise)，具有柔软性，可粘接到精巧的部分上。另外，Icps为ImPas0另外，NORLAND 公司生产的N0A68例如在室温下的粘度约为5000cps，有柔软性，可粘接到精巧的部分上。 另外，NORLAND公司生产的N0A73例如在室温下的粘度约为130cps，有柔软性，粘度低，可 薄薄地粘接在精巧的部分上。另外，NORLAND公司生产的N0A83H例如在室温下的粘度约为 250cps,除UV特性以外，还具有热固化特性，也能粘接至光不直接到达的部分。另外，作为电子束固化型粘接剂60的一种的紫外线固化型粘接剂60，例如可列举 出美国EMI公司生产的产品名为“0PT0CAST”系列的产品等。作为具体的紫外线固化型粘接 剂 60，可列举出美国 EMI 公司生产的 0PT0CAST3415、0PT0CAST3505-HM 等。0PT0CAST3415、 0PT0CAST3505-HM等紫外线固化型粘接剂60为环氧系单组分紫外线固化型粘接剂60。环 氧系紫外线固化型粘接剂60为低收缩性、高耐热性物质，具有优良的耐药品性、耐湿性。通 过使用单组分紫外线固化型粘接剂60，不需要在使用双组分紫外线固化型粘接剂60时进 行的液体和液体的混合工序。由此，可以迅速且高效率地进行粘接剂60的涂敷工序。EMI公司生产的0PT0CAST3415例如在室温下的粘度约为lOOOOOcps，通过施加UV 照射进行加热而实现可靠的固化。另外，EMI公司生产的0PT0CAST3505-HM例如在室温下 的粘度约为300-500cps，通过施加UV照射进行加热而实现可靠的固化。如上，作为构成单组分及/或双组分粘接剂60的聚合物/主剂，使用选自由环氧 系聚合物、改性丙烯酸系聚合物、聚氨酯系聚合物、丙烯酸酯系聚合物、甲基丙烯酸酯系聚 合物构成的组中的至少一种聚合物。另外，构成固化后的单组分及/或双组分粘接剂60的 树脂为选自由环氧系树脂、改性丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂、聚丙烯系树脂、聚甲基丙烯 酸系树脂构成的组中的至少一种树脂。另外，作为构成双组分粘接剂60的固化剂，使用选 自由多元醇、聚酰胺胺(Polyamidoamine)、改性聚胺、叔胺构成的组中的至少一种聚合物。另外，根据磁铁50的安装结构、0PU3的设计/规格、磁铁50与磁轭10 I的粘接 方法等，也可使用使用双组分紫外线固化型粘接剂60进行粘接工序。作为双组分紫外线固化型粘接剂60，例如可列举出双组分环氧系紫外线固化型粘接剂60等。通过使用丙烯酸系 粘接剂60、环氧系粘接剂60等聚合物系粘接剂60，能吸收高频振动成分等。另外，例如在室温条件下、具体而言在23°C的温度条件下，进行粘接工序时的粘接 剂60的粘度约为2mPas lOOOOOmPas。在室温条件下、具体而言在23 °C的温度条件下，粘接剂60的粘度为超过约 lOOOOOmPas的高粘度的情况下，在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保部和构成后磁 轭 ο I的安装面部Ila I Ulb I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上涂敷 粘接剂60、使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I对合而将磁 铁50粘接于后磁轭10 I上时，粘接剂60难以在设于粘接力确保部12a I、12b I上的具有 V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部13a I、13b I上展开，结果，担心粘接剂60难以大致均勻 地遍布后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I及磁铁50的安装面部51。如此，在室温条件下、具体而言在23°C的温度条件下，进行粘接工序时的粘接剂 60的粘度优选为大约60000mPas以下。在室温条件下、具体而言在23°C的温度条件下，进行 粘接工序时的粘接剂60的粘度更优选为大约14000mPas以下，从而使得粘接剂60可靠地 在设于粘接力确保部12a I、12b I上的具有V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部13a I、13b I 上展开。另外，在室温条件下、具体而言在23°C的温度条件下，粘接剂60的粘度为低于约 2mPas的低粘度时，在构成磁铁50的安装面部51的粘接力确保部和构成后磁轭10 I的安 装面部Ila I Ulb I的粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方上涂敷粘接剂60、使 磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I的安装面部Ila I、llb I对合而将磁铁50粘接于后 磁轭10 I上时，担心会发生例如粘接剂60的滴落等。通过优选地使进行粘接工序时在室温条件下、具体而言在23°C的温度条件下的粘 接剂60的粘度例如为约250mPas以上，使得难以发生例如粘接剂60的滴落等，粘接剂60 可靠地存在于设在粘接力确保部12a I、12b I上的具有V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部 13a I 、13b I 。通过更优选地使进行粘接工序时在室温条件、具体而言在23°C的温度条件下的粘 接剂60的粘度例如为约lOOOmPas以上，易于防止粘接剂60的滴落等，粘接剂60广泛且 可靠地存在于设在粘接力确保部12a I、12b I上的具有V槽14a、14b、15a、15b的凹凸部 13a I 、13b I 。图1、图2的㈧及图2的(B)所示的磁铁50的安装结构被设置在图4和图5所 示的0PU3等上。图4及图5所示的0PU3具有图1、图2的㈧及图2的⑶所示的磁铁 50的安装结构等。通过由图1、图2的㈧及图2的⑶所示的磁铁50的安装结构构成0PU3 (图4、 图5)，能够构成将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上的0PU3。能够构成在利用设置在构 成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方 上的微细的大致凹凸状粘接力确保部12a I、12b I来确保了粘接剂60的粘接强度的状态 下、将磁铁50和后磁轭10 I可靠地粘接在一起的0PU3。下面，就磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法进行说明。具体而言，就磁铁 50与后磁轭10 I的粘接方法进行说明。
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该磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法包括以下工序使用具有多个微细突出部及 凹凸部的模具(均未图示)，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面 部Ila I Ulb I中的任一方或双方上形成具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部 13a I、13b I的、用于确保粘接强度的粘接力确保部12a I、12b I ；在形成在构成磁铁50 的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上的、具有 多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I、13b I的粘接力确保部12a I、12b I上 涂敷粘接剂60 ；使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I对合而 使粘接剂60介于后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I和磁铁50的安装面部51之间，从 而将磁铁50粘接在后磁轭10 I上；对借助粘接剂60设置了磁铁50的后磁轭10 I进行加 热或将其常温放置，使粘接剂60粘接固化。详细说明磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法，首先，使用具有多个微细突出部及凹 凸部的模具，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中 的任一方或双方上形成具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I、13b I的、 用于确保粘接强度的粘接力确保部12a I、12b I，接着，在形成于构成磁铁50的安装面部 51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上的、具有多个微细V 槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I U3b I的粘接力确保部12a I、12b I上涂敷粘接剂 60，接着，使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I对合而使粘接 剂60介于后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I和磁铁50的安装面部51之间，从而将磁 铁50粘接在后磁轭10 I上，然后，对借助粘接剂60设置了磁铁50的后磁轭10 I进行加 热或常温放置，使粘接剂60粘接固化。通过这样进行磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后磁 轭10 I上。使用未图示的具有多个微细突出部及凹凸部的模具，在构成磁铁50的安装面部 51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上形成具有多个微细V 槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I、13b I的、用于确保粘接强度的粘接力确保部12a I、 12b I，在形成在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I、llb I 中的任一方或双方上的、具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I、13b I的粘 接力确保部12a I、12b I上涂敷粘接剂60，之后使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I 的安装面部Ila I ,lib I对合而使粘接剂60介于后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I 和磁铁50的安装面部51之间，在该状态下对具有磁铁50的后磁轭10 I进行加热或将其 常温放置，使粘接剂60粘接固化，从而能在确保了粘接剂60的粘接强度的状态下将磁铁50 和后磁轭10 I可靠地粘接在一起。下面更具体地说明图1、图2的㈧及图2的⑶所示的磁铁50与后磁轭10 I的 粘接方法。该磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法包括以下工序转印成形工序，在该工序 中，使用具有多个微细突出部和凹凸部的模具，在构成后磁轭的安装面部Ila I Ulb I上 形成具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I、14b I的、用于确保粘接强度的 粘接力确保部12a I、12b I ；粘接构件/粘接剂涂敷工序，在该工序中，在构成磁铁50的 安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上涂敷热固化 型粘接剂60;组装粘接工序，在该工序中，使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I的安装面 部Ila I Ulb I对合而使热固化型粘接剂60介于后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I和磁铁50的安装面部51之间，从而将磁铁50粘接在后磁轭10 I上；加热粘接固定工序， 在该工序中，对借助热固化型粘接剂60设置了磁铁50的后磁轭10 I进行加热，使热固化 型粘接剂60粘接固化。根据磁铁50的安装结构、0PU3的设计/规格、磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法 等，也可以在使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I的安装面部Ila I、llb I对合且粘接 在一起之后再在磁铁50的端面部53、54、55和后磁轭10 I之间涂敷紫外线固化型粘接剂 (60)，之后再通过紫外线使其固化，从而将磁铁50和后磁轭10 I更可靠地粘接固定。例如，使用经褶皱加工来形成未图示的凹凸部的模具对对象物进行转印加工，从 而在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方 或双方上转印形成具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I U3b I的粘接力确 保部 12a I、12b I。通过如此进行磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后 磁轭10 I上。使用经褶皱加工来形成未图示的凹凸部的模具，在构成磁铁50的安装面部 51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上进行模具转印成形 加工，形成微细的大致凹凸状的粘接力确保部12a I、12b I，能在利用经模具转印成形加 工形成在构成磁铁50的安装面部51上的微细的大致凹凸状粘接力确保部和经模具转印加 工形成在构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I上的微细的大致凹凸状粘接力确保部 12a I、12b I中的任一方或双方来确保了粘接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50和后 磁轭10 I可靠地粘接在一起。通过使用经雕刻加工形成未图示的突出部及凹凸部的模具对对象物进行转印加 工，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I、llb I中的任一方 或双方上转印形成具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I、13b I的粘接力确 保部 12a I、12b I。通过如此进行磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后磁 轭10 I上。使用经雕刻加工来形成未图示的突出部及凹凸部的模具，在构成磁铁50的安 装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上进行模具转印 成形加工，形成微细大致凹凸状的粘接力确保部12a I、12b I，能在利用经模具转印成形 加工形成在构成磁铁50的安装面部51上的微细的大致凹凸状粘接力确保部和经模具转印 加工形成在构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I上的微细的大致凹凸状粘接力确保 部12a I、12b I中的任一方或双方来确保了粘接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50和 后磁轭10 I可靠地粘接在一起。通过在使用具有未图示的多个微细突出部及凹凸部的模具对对象物进行冲压模 具成形加工时一并对对象物进行转印加工，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭 10 I的安装面部Ila I、llb I中的任一方或双方上转印形成具有多个微细V槽14a、14b、 15a、15b及凹凸部13a I、13b I的粘接力确保部12a I、12b I。通过如此进行磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后磁 轭10 I上。使用具有未图示的多个微细突出部及凹凸部的模具，在构成磁铁50的安装面 部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上进行冲压模具成形 加工，转印形成微细的大致凹凸状的粘接力确保部12a I、12b I，能在利用经冲压模具成形加工转印形成在构成磁铁50的安装面部51上的微细的大致凹凸状粘接力确保部和经冲 压模具成形加工转印形成在构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I上的微细的大致凹 凸状粘接力确保部12a I、12b I中的任一方或双方来确保了粘接剂60的粘接强度的状态 下，将磁铁50和后磁轭10 I可靠地粘接在一起。另外，通过使用具有未图示的多个微细突出部及凹凸部的模具在构成磁铁50的 安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上进行冲压模 具成形加工，在磁铁50的安装面部51和后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方 或双方上高效率地转印形成微细的大致凹凸状粘接力确保部12a I、12b I。具体而言，通过使用未图示的冲压模具在未图示的金属底板上大约同时进行冲 切、转印、折弯、冲压加工，能高效率地形成后磁轭10 I，且能高效率地在后磁轭10 I的侧 壁IOa I UOb I上形成具有凹凸部13a I、13b I等的粘接力确保部12a I、12b I，该凹凸 部 13a I、13b I 具有多个微细 V 槽 14a、14b、15a、15b。通过实行上述磁铁50与后磁轭10 I的粘接方法来实行0PU3的制造方法，构成 0PU3。通过如此进行0PU3的制造方法，能构成将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上的 0PU3。使用未图示的具有多个微细突出部及凹凸部的模具，在构成磁铁50的安装面部51 和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I中的任一方或双方上形成具有多个微细V槽 14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I U3b I的、用于确保粘接强度的粘接力确保部12a I、 12b I，在形成在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 I的安装面部Ila I、llb I 中的任一方或双方上的、具有多个微细V槽14a、14b、15a、15b及凹凸部13a I、13b I的粘 接力确保部12a I、12b I上涂敷粘接剂60，之后使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 I 的安装面部Ila I Ulb I对合而使粘接剂60介于后磁轭10 I的安装面部Ila I Ulb I 和磁铁50的安装面部51之间，在该状态下对具有磁铁50的后磁轭10 I进行加热，粘接剂 60被粘接固化，从而在确保了粘接剂60的粘接强度的状态下将磁铁50和后磁轭10 I可靠 地粘接在一起而构成0PU3。图4所示的0PU3具有用于对光盘M(图5)照射激光的发光元件210、220 (图4) 即激光二极管(LD =Iaser diode)。另外，该0PU3具有用于对LD210、220通电而使LD210、 220发光的驱动电路部即激光驱动器(LDD =LD driver)(未图示)。该0PU3还具有可通电 地连接各LD210、220等电气部件和LDD等电气部件的柔性印刷电路体(未图示)等柔性基 板(未图示)。柔性印刷电路体(Flexible Printed Circuit)简称为“FPC”。“FPC”构成 为，在由进行钎焊等时耐热性等优良的聚酰亚胺(PI =Polyimide)系树脂等耐热性合成树 脂制的绝缘板上印刷多个电路导体，在绝缘板上并列设置例如铜箔等金属箔，在金属箔上 面设置透明或半透明的保护层(均未图示)。例如，电流从未图示的LDD通过FPC流至第一 LD210，从第一 LD210输出激光。例 如，从第一 LD210射出“⑶”用的0. 2 500mW(毫瓦)的激光，所述激光能射出波长约为 765 840nm(纳米)、标准波长约为780nm的红外激光。另外，例如电流从未图示的LDD经 FPC流至第二 LD220，从第二 LD220输出激光。例如，从第二 LD220射出“DVD”用的0. 2 500mff的激光，所述激光能射出波长约为630 685nm、标准波长约为635nm或650nm的红 外激光。
根据光盘装置1、0PU3等的设计/规格等，例如，从LD21CV220射出“CBHD”、“HD DVD”、“Blu-ray Disc”用的0. 2 500mW的激光，所述激光能射出波长约为340 450nm、 优选约380 450nm、更优选约超过400nm且在450nm以下、标准波长约为405nm的蓝色激 光。此时，LD210/220构成为可射出多种波长的激光的特殊的LD210/220。可使用各种LD 作为 LD210/220，。从LD210、220射出输出值例如为0. 2 500mW、具体而言为0. 5 400mW的激光。 例如，在为输出值低于0. 2mff的激光的情况下，被照射到光盘M后被反射而到达受光元件 290上的激光的光量会不足。在使光盘M的各数据等再现时，例如用输出值在0. 2mff以上、 优选0. 5mff 20mW左右的几mW 几十mW的激光就足够了。在向光盘M写入各数据等时， 需要输出值为几十 几百mW的激光。例如在光盘M上高速写入各数据等时，需要400mW、 500nw等这样的高输出值的脉冲激光。另外，该0PU3具有用于集中激光而对光盘M的信号层Ma照射形成聚焦光斑的 0BL250。0BL250形成为设置有大致凸状的曲面部251的凸透镜250。例如，使用能进行注射模塑成形的透明或半透明的热塑性耐热性合成树脂材料 基于注射模塑成形法形成0BL250。详细而言，0BL250例如使用耐气候性、镜面平滑性、精度 等优良的以透明度高的丙烯酸/甲基丙烯酸系树脂为基材的组合物基于注射模塑成形法 形成。甲基丙烯酸树脂的正式名称为聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate)，聚 甲基丙烯酸甲酯简称为PMMA等。另外，甲基丙烯酸树脂有时也被称为丙烯酸树脂。另外， 0BL250例如使用加工性能等优良的、以能降低价格的聚碳酸酯(PC polycarbonate)系树 脂为基材的组合物形成。通过使用例如合成树脂材料形成0BL250，能谋求0BL250的轻量化。另外，大致凸 透镜状的合成树脂制的0BL250可基于注射模塑成形法高效率地大量生产。由于0BL250能 大量生产，因此可实现0BL250的低价格化。另外，根据光盘装置1、0PU3等的设计/规格 等，使用半透明性或透明性玻璃材料代替半透明性或透明性合成树脂材料来形成0BL250。另外，该0PU3具有构成透镜架组装体100的透镜架90。透镜架90使用成形性优 良的热塑性的含芳香族环的耐热性合成树脂材料基于大量生产性优良的注射模塑成形法 形成。具体而言，透镜架90使用薄壁/精密成形性优良且进行钎焊等时的耐热性优良、注 射模塑成形性优良、以比钢材等轻量化的液晶聚合物(LCP :liquid crystal polymer)为 基材的组合物形成。作为液晶聚合物，例如可列举出耐热性优良的全芳香族系液晶树脂等。 如果基于注射模塑成形法形成透镜架90，即使透镜架90具有复杂的形状，也能高效率地大 量生产透镜架90。另外，该0PU3具有用于接收从光盘M的信号层Ma反射的激光的受光元件290即 光探测器或 PDIC (photo diode IC)或光电检测器(PD :photo detector) 290。PD290 至少 包括俯视大致矩形的主受光部(未图示)和一对俯视大致矩形的副受光部(未图示)这 三个受光部，该俯视大致矩形的主受光部与透过例如四分割型等被分割为多个的衍射栅格 (未图示)的主光束(零次光)相对应；该一对俯视大致矩形的副受光部与透过衍射栅格 而被衍射分光的一对副光束(士 1次衍射光束)相对应。俯视大致矩形的主受光部具有被 大致均等地4分割的俯视大致矩形的4个部分。另外，俯视大致矩形的副受光部具有被大 致均等地4分割的俯视大致矩形的4个部分。在0PU3上配设像这样包括具有多个俯视大致矩形的部分的、多分割型的各受光部的PD290。该PD290接收从光盘M的信号层Ma反射的激光、将其信号转变为电信号、用于检 测光盘M的信号层Ma上记录的数据、信息、信号。另外，PD290接收从光盘M的信号层Ma反 射的激光、将其信号转变为电信号、用于使透镜架组装体100的伺服机构动作，该透镜架组 装体100包括带构成0PU3的0BL250的透镜架90。在利用0PU3例如读取光盘M上记录的 数据/信息/信号或在光盘M上写入数据/信息/信号或擦除光盘M上记录的数据/信息 /信号时，通过对PD290的各受光部照射各激光，来检测光盘M的主信息信号、相对于光盘M 的聚焦误差信号、跟踪误差信号等。作为0PU3的光盘M的聚焦光斑的聚焦检测法，例如可列举出基于差动像散法的检 测方法等。差动像散法是通过检测由具有像散的光学系统成像的点像畸变来检测聚焦光斑 位移的方法。该0PU3的聚焦光斑的聚焦检测法是基于例如差动像散法的检测方法。另外， 作为聚焦检测法，可以并用福柯(Foucault)法、刀口法等其他检测方法。另外，作为0PU3的光盘M的聚焦光斑的跟踪检测法，例如可列举出基于差动推挽 (DPP differential push-pull)法的检测方法等。差动推挽法是利用读写数据用的主光束 和用于检测位置偏移的校正信号的两个副光束来检测聚焦光斑的位移的方法。该0PU3的 聚焦光斑的跟踪检测法是基于例如差动推挽法的检测方法。另外，作为跟踪检测法，例如也 可并用相位差法、外差探检测法等其他检测法。另外，该0PU3被配设在大致矩形箱状的透镜架组装体100上，具有用于弹性支承 透镜架组装体100的多个大致线状的金属制弹性支承构件80即大致线状的金属制吊线 (suspension wire) 80。例如，构成0PU3的大致线状的各吊线80大致沿切线方向D3延伸 设置，该切线方向D3为与大致沿0BL250的光轴方向Dl的聚焦方向Dl和大致沿着光盘M 一个半径方向D2的跟踪方向D2正交的方向。例如通过光盘M的旋转位置等而使切线方向 D3为光盘M的另一半径方向D3。通过对配设在0PU3的透镜架组装体100上的左右6根吊 线80中的至少左右4根、优选左右6根吊线80导通作为驱动信号、控制信号等的电流，而 对配设在0PU3的透镜架组装体100上的可通电地与各吊线80相连接的至少4个线圈、优 选6个线圈导通作为驱动信号、控制信号等的电流。另外，大致线状的各吊线80例如使用磷青铜制的导线形成。例如，使用“JIS G 3402”规定的钢琴线、“ JIS G 3522”规定的钢琴线、“ JIS G 3512”规定的硬钢丝等形成构 成吊线80的线材。另外，吊线80例如使用基于电镀法进行了镀金处理的带镀铜的导线构 成。具体而言，使用弹簧的耐力、疲劳强度等优良的钢丝或钢琴线、在其上覆盖导电性优良 的铜(Cu)而构成可通电的吊线80。另外，该0PU3具有用于抑制例如在吊线80上产生的异常振动等的大致凝胶状的 合成聚合物制的阻尼材料(未图示)和用于保持阻尼材料的合成树脂制的阻尼保持构件 140。将各吊线80插入安装于金属制后磁轭10 I后侧的合成树脂制阻尼保持构件140的 各孔(未图示)内。另外，在插入有吊线80的阻尼保持构件140的孔内填充例如富有柔软 性的合成聚合体制的阻尼材料即阻尼剂。阻尼保持构件140使用绝缘性优良的合成树脂材 料形成。阻尼保持构件140例如使用聚碳酸酯系树脂等合成树脂材料基于大量生产率优良 的注射模塑成形法形成。另外，该0PU3具有安装有各金属制吊线80的电路基板150，各金属制吊线80与该
30电路基板150可通电地相连接。电路基板例如被称为PWB(printed wired board/printed wiring board)等。PWB150的基板主体151使用绝缘性优良的合成树脂材料形成。另外， 合成树脂制的基板主体151上的电路导体形成为导电性优良的金属箔。另外，在形成有金 属制的电路导体的合成树脂制基板主体151上覆盖绝缘性优良的合成树脂材料，在形成有 金属制电路导体的合成树脂制基板主体151上形成绝缘保护膜。另外，该0PU3具有用于将线圈等和吊线80等可通电地可靠地相连接的焊接材料。 该0PU3还具有用于将吊线80等和PWB150等可通电地可靠地相连接的焊锡材料。作为在 焊接各吊线80、各线圈等时使用的焊锡材料，使用环保的、不含铅的焊锡即无铅焊锡。如果 使用无铅焊锡作为焊锡材料，例如在分解废弃0PU3或具有0PU3的光盘装置1等时，可避免 铅对自然环境造成的影响。另外，该0PU3具有用于保护0PU3中各种部件的盖板180。在组装0PU3时，在0PU3 的上侧例如设置用于保护各种部件的盖板180。盖板180例如使用散热性优良的薄壁金属 板冲压成形。在0PU3的上侧也可以设置例如合成树脂制的黑色盖板(180)来取代薄壁金 属板制的盖板180。另外，该0PU3具有配设有各种光学部件、电气部件等的壳体300。壳体(housing) 是指用于收纳例如装置、部件等物品的箱、箱型装置或类似箱的装置。壳体300例如使用散 热性优良的金属材料或滑动特性优良的树脂材料形成。作为配设在壳体300上的光学系部件，例如可列举出激光二极管、1/2波长板 (1/2 λ板)、带开口限制的宽带1/4波长板(1/4λ板)、液晶校正元件、衍射光学元件(DOE: Diffractive Optical Element)、衍射光栅(inline grating)、发散透镜、棱镜、偏振分光 器、二色向性滤光器、准直透镜、光束扩展镜、半透半反镜、反射镜、全反射镜、物镜、前端监 测二极管(front monitor diode)、传感器透镜、变形镜头(anamorphic lens)、中间透镜、 光电检测器等。该0PU3具有上述光学系部件。另外，作为安装在壳体300上的电气系部件，例如可列举出例如印刷基板、记录装 置(ROM :read-only memory)、吊线、线圈、驱动器、柔性印刷电路体、激光驱动器、激光二极 管、液晶校正元件、光束扩展单元、前端监测二极管、光电检测器等。该0PU3具有上述电气 部件。构成0PU3的各种光学系部件、电气系部件等各种部件(未图示)被安装在金属制 或合成树脂制的壳体300上。壳体300包括安装有各种光学系部件、电气系部件等各种部 件的壳体主体301 ；与从壳体主体301突出设置的第一轴构件410 (图5)可移动地相配合 的一对主轴用轴承部311、312(图4、图5)；位于主轴用轴承311、312的相反侧且与从壳体 主体310突出设置的第二轴构件420 (图5)可移动地相配合的副轴用轴承部321 (图4、图 5)。主轴用轴承部311、312和副轴用轴承部321与壳体主体301—体地形成。主轴用轴 承部311、312和副轴用轴承部321及壳体主体301例如使用同一金属材料或同一合成树脂 材料形成为一个装置。构成0PU3的壳体300例如使用含有选自由铝(Al)、镁(Mg)、锌(Zn)构成的组中 的至少一种以上的元素的非铁金属、压铸合金等金属形成。铝、镁、锌是耐腐蚀性优良的、比 铁比重小的非铁金属。例如使用以铝为主要成分的铝合金等非铁金属材料形成壳体300。或者，构成0PU3的壳体300例如使用机械特性、滑动特性、尺寸稳定性、耐热性、注射模塑成形性、绝缘特性等电气特性等优良、且以比钢材等轻量化的聚苯硫醚(PPS :poly phenylene sulfide)树脂等聚芳硫醚(PAS :poly arylene sulfide)系树脂为基材的耐热 性合成树脂组合物形成。树脂材料比铁比重小，是适合轻量化的材料。当0PU3大致沿大致圆杆状的轴构件410、420的长度方向D2移动时，大致圆孔状 的第一轴承部311和大致圆杆状的第一轴构件410滑动接触。另外，当0PU3大致沿大致圆 杆状的轴构件410、420的长度方向D2移动时，大致圆孔状的第二轴承部312和大致圆杆状 的第一轴构件410滑动接触。另外，当0PU3大致沿大致圆杆状的轴构件410、420的长度方 向D2移动时，横倒状的大致U字形滑动轴承结构的第三轴承部321和大致圆杆状的第二轴 构件420滑动接触。轴构件410、420形成为能与0PU3的壳体300的轴承部311、312、321滑动接触的例 如滑动轴410、420。轴构件410、420例如使用“JIS G 4304”规定的“热轧加工不锈钢棒”、 "JIS G4318”规定的“冷轧成形不锈钢棒”等形成。另外，轴承部311、312、321形成为能与 滑动轴410,420滑动接触的滑动部311、312、321。0PU3被壳体300的第一滑动部311、第二滑动部312和第三滑动部321以稳定的大 致三点式结构可移动地支承于一对滑动轴410、420上。由于0PU3被壳体300的第一滑动 部311、第二滑动部312和第三滑动部321这主要的三点可移动地支承于一对滑动轴410、 420上，因此，比四点式支承结构的0PU(未图示)更能减少摩擦。另外，由于第三滑动部321构成为开口的横倒状的大致U字形滑动轴承结构，因此 容易进行将作为副轴的滑动轴420组装到0PU3上的作业。另外，由于第三滑动部321构成 为开口的横倒状的大致U字形滑动轴承结构，因此，作为副轴的第二滑动轴420相对于作为 主轴的第一滑动轴410的平行度等的微小误差能被开口的横倒状的大致U字形滑动轴承结 构的第三滑动部321吸收。图5所示的光盘装置1包括具有上述磁铁50的安装结构的上述0PU3。通过将具有上述磁铁50的安装结构的0PU3安装于光盘装置1上，能构成具有将 磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 I上的0PU3的光盘装置1。另外，光盘装置1包括能安装光盘M且能相对于光盘装置主体Ia进出的托盘(未 图示)；具有转台460和与转台460相对的夹具(未图示)而能夹持光盘M将其固定的夹 持装置；包括转台460、驱动光盘M旋转的驱动装置450 ；用于对光盘M照射激光的0PU3 ；在 使0PU3沿光盘M的一个半径方向D2移动时可移动地支承0PU3的一对滑动轴410、420。使用能相对于构成光盘装置1的大致矩形箱状的金属制外壳400即盖400自由出 入的、未图示的大致板状的合成树脂制托盘，将光盘M收纳在光盘装置1内。另外，在构成 光盘装置1的盖400内收纳有用于使光盘M旋转的驱动装置450。使用具有用于能配设光 盘M的大致圆盘状的合成树脂制转台460的光盘驱动装置450作为驱动装置450。另外，将 用于读取光盘M的数据/信息/信号、在光盘M上记录数据/信息/信号、擦除光盘M的数 据/信息/信号的0PU3配设在构成光盘装置1的盖400内。在配设了各种部件的下侧的 金属制盖400上安装上侧的金属制盖(未图示)，从而组装成光盘装置1。使用具有转盘460和与转盘460相对的夹具的夹持装置，将在中心部Mc形成有圆 孔Mb的光盘M以定位的状态下可靠地夹入转盘460和夹具之间且将其可自由装卸地固定。 另外，设于驱动装置450的主轴电动机(未图示)上的转盘460，兼具光盘M的调芯功能和确保光盘M高速旋转的稳定性这两个功能。上述0PU3及具有上述0PU3的光盘装置1可用于在上述各种光盘M上记录数据/ 信息/信号等或使上述各种光盘M的数据/信息/信号等再现的记录再现装置。具体而言， 上述0PU3及具有上述0PU3的光盘装置1可用于在上述各种光盘M上记录数据/信息/信 号等或使上述各种光盘M的数据/信息/信号等再现或擦除上述各种光盘M的数据/信息 /信号等的记录、再现、删除装置。另外，上述0PU3及具有上述0PU3的光盘装置1也可用于 使上述各种光盘M的数据/信息/信号等再现的再现专用装置。另外，上述0PU3被装设于例如组装在计算机、音响/视频设备、游戏机、车载设备 (均未图示)等中的光盘装置1上。另外，上述0PU3及具有上述0PU3的光盘装置1可装设 于笔记本电脑(PC =Personal Computer)、掌上电脑、台式电脑、车载用电脑等电脑、电脑游 戏机等游戏机、CD播放机/CD录音机/DVD播放机/DVD录音机等音响及/或视频设备(均 未图示)上。另外，上述0PU3可与“⑶”系列光盘、“DVD”系列光盘、“HDDVD”系列光盘、 “CBHD”系列光盘、“Blu-ray Disc”系列光盘等多种盘相对应。上述0PU3也可与具有多层 信号面部的单张光盘相对应。上述0PU3可装设于例如与“CD”、“DVD”、“HDDVD”、“CBHD”、 "Blu-ray Disc”等各种光盘相对应的计算机、音响及/或视频设备、游戏机、车载设备等 (均未图示)上。实施例2图6表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法的第 二实施方式。在图1、图2的(A)及图2的(B)所示的第一实施方式的磁性构件50的安装结构、 磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法中，在构成后磁轭10 I的侧壁IOa I UOb I的 安装面部Ila I Ulb I上设置有具有大致矩形倾斜网格状或大致倾斜窄条形状的多个凹 凸部13a I U3b I的粘接力确保部12a I、12b I，该凹凸部13a I U3b I具有被配设成大 致网格状的多个槽14a、14b、15a、15b等。在图6所示的第二实施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构 件10 II的粘接方法中，在构成后磁轭10 II的侧壁IOa IKlOb II的安装面部Ila II、llb II 上设置有具有大致矩形倾斜网格状或大致倾斜窄条形状的多个凹凸部13a II、13b II的粘 接力确保部12a II、12b II，该凹凸部13a II、13b II形成有配设为大致网格状的多个槽14a、 14b、15a、15b 等。在这一点上，图1、图2的(A)及图2的(B)所示的第一实施方式的磁性构件50的 安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法，与图6所示的第二实施方式的磁性 构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 II的粘接方法相同，但在图6所示的构 成后磁轭10 II的侧壁IOa II的安装面部Ila II上设置有一对粘接构件积存部17a、17a。除了在构成后磁轭10 II的侧壁IOa II的安装面部Ila II上设置有一对粘接构件 积存部17a、17a以外，第二实施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构件 10 II的粘接方法、拾取装置3及盘装置1的后磁轭10 II，与第一实施方式的磁性构件50 的安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法、拾取装置3及盘装置1的后磁轭 10 I的说明内容大致相同。在使用图6说明的第二实施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 II的粘接方法、拾取装置3及盘装置1中，对于与使用图1 图5说明的第一实 施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法、拾取装置 3及盘装置1的说明内容大致相同的装置，标注相同的附图标记并省略其详细说明。在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II中的任一方 或双方上设有用于将粘接剂60引导至粘接力确保部12a II的大致矩形缺口状或大致凹状 的粘接剂积存部17a、17a。通过构成图6所示的磁铁50的安装结构，能将大致矩形平板状磁铁50可靠地粘 接在构成后磁轭10 II的大致矩形平面状安装面部Ila II上。能在利用设置在构成磁铁50 的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II中的任一方或双方上的粘接剂积存部 17a、17a来确保了粘接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50和后磁轭10 II可靠地粘接在 一起。具体而言，能在利用设置在构成后磁轭10 II的安装面部Ila II的粘接剂积存部17a、 17a来确保了粘接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 II上。粘接力确保部12a II形成为具有凹凸部13a II。另外，粘接剂积存部17a、17a形 成为具有上侧左右两方的一对大致矩形凹部17aL、17aR。左右一对粘接剂积存部17a、17a 的大致矩形凹部17aL、17aR配置为，在磁铁50和后磁轭10 II中的任一方或双方上涂敷用 于粘接/接合磁铁50与后磁轭10 II的粘接剂60时，位于粘接力确保部12a II的凹凸部 13a II的大致上侧的位置。另外，本说明书中的“上”、“下”、“左”、“右”的定义是为了方便说 明而定义的。另外，粘接力确保部12a II具有大致V字形槽14a、15a。另外，粘接剂积存部17a、 17a具有上侧左右两方的一对大致矩形凹部17aL、17aR。大致V字形槽14a、15a的深度16d 和大致矩形的凹部17aL、17aR的深度大致相同。如果构成图6所示的磁铁50的安装结构，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 II 上。在将磁铁50安装于后磁轭10 II上之前或将磁铁50安装于后磁轭10 II上之后，涂敷在 构成磁铁50的安装面部51的粘接剂积存部和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II的粘接剂 积存部17a、17a中的任一方或双方上的粘接剂60，能利用设置在磁铁50和后磁轭10 II中 的任一方或双方上的、上侧左右两方的一对粘接剂积存部17a、17a的大致矩形凹部17aL、 17aR和构成粘接力确保部12a II的凹凸部13a II的大致V字形槽14a、15a通过毛细管现 象容易地展开，因此能确保粘接强度，将磁铁50和后磁轭10 II可靠地粘接在一起。例如， 在使磁铁50与后磁轭10 II对合而将其安装于后磁轭10 II上之后，通过在磁铁50和后磁 轭10 II中的任一方或双方的上侧左右两方的一对粘接剂积存部17a、17a上从上侧涂敷粘 接剂60，能基本避免所涂敷的粘接剂60被从磁铁50的边缘部57或后磁轭10 II的边缘部 17c挤出，粘接剂60由于重力和/或毛细管现象而被稳定供给至粘接力确保部12a II的凹 凸部13a II上。因此，容易使粘接剂60遍布于粘接力确保部12a II上。粘接剂积存部17a、17a包括多个深度超过Omm且在约0.2mm以下的凹部17aL、 17aR。凹部17aL、17aR作为能通过冲压加工等高精度地容易成形的凹部17aL、17aR形成至 规定的深度。详细而言，假如侧壁IOa II被切断时，从纵截面来看各凹部17aL、17aR的深度 超过Omm且在0. 2mm以下。由此，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭10 II上。在将磁铁50安装于后磁轭10 II 上之前或将磁铁50安装于后磁轭10 II上之后，涂敷在构成磁铁50的安装面部51的粘接剂积存部和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II的粘接剂积存部17a、17a中的任一方或双 方上的粘接剂60，能利用构成磁铁50的安装面部51的粘接剂积存部的、深度超过Omm且在 约0. 2mm以下的多个凹部或构成后磁轭10 II的安装面部Ila II的粘接剂积存部17a、17a 的、深度超过Omm且在0. 2mm以下的多个凹部17aL、17aR通过毛细管现象容易地展开，因此 能实现可靠的面粘接。在设置在磁铁50的粘接剂积存部和后磁轭10 II的粘接剂积存部17a、17a中的任 一方或双方上的凹部17aL、17aR的深度为Omm的情况下，担心基本不会发生毛细管现象等。 而在设置在磁铁50的粘接剂积存部和后磁轭10 II的粘接剂积存部17a、17a中的任一方或 双方上的凹部17aL、17aR的深度超过0. 2mm的情况下，担心难以发生毛细管现象等。如果在 磁铁50的粘接剂积存部和后磁轭10 II的粘接剂积存部17a、17a中的任一方或双方上构成 深度超过Omm且在约0. 2mm以下的凹部17aL、17aR，则涂敷在粘接剂积存部17a、17a上的粘 接剂60由于毛细管现象等容易以粘接剂积存部17a，17a为起点而在粘接力确保部12a II 的凹凸部13aII上展开。因此，能可靠地确保磁铁50相对于后磁轭10 II的粘接强度。通过在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II中的任 一方或双方上形成深度几μ m 0. 2mm左右、优选约0. Olmm 约0. 15mm的多个凹部17aL、 17aR来作为粘接剂积存部17a、17a，能利用粘接剂60的毛细管现象等可靠地确保磁铁50 相对于后磁轭10 II的粘接强度。在设置在磁铁50的粘接剂积存部和后磁轭10 II的粘接剂积存部17a、17a中的任 一方或双方上的凹部17aL、17aR的深度低于约0. Olmm的情况下，担心难以发生毛细管现 象。而在设置在磁铁50的粘接剂积存部和后磁轭10 II的粘接剂积存部17a、17a中的任一 方或双方上的凹部17aL、17aR的深度超过约0. 15mm的情况下，担心例如难以发生毛细管现 象。如果在磁铁50的粘接剂积存部和后磁轭10 II的粘接剂积存部17a、17a中的任一方或 双方上构成深度在约0. Olmm 约0. 15mm的凹部17aL、17aR，则涂敷在粘接剂积存部17a、 17a上的粘接剂60由于毛细管现象容易地在粘接剂积存部17a、17a上展开。因此，能可靠 地确保磁铁50相对于后磁轭10 II的粘接强度。下面，就磁性构件50和磁连结构件10 II的粘接方法进行说明。具体而言，就磁铁 50与后磁轭10 II的粘接方法进行说明。该磁铁50与后磁轭10 II的粘接方法包括以下工序使用具有多个微细突出部、凹 凸部、多个大致矩形平面突出部的模具(均未图示)，在构成磁铁50的安装面部51和构成 后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II中的任一方或双方上形成确保粘接强度的粘接力确 保部12a II /12b II，该粘接力确保部12a II /12b II具有多个微细V槽14a、15a/14b、15b、 凹凸部13a II /13b II和多个大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a ；使磁铁50的安装面部 51与后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II对合；在使大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、 17a位于上侧的状态下，将配设有磁铁50的后磁轭10 II临时放置于工作台(未图示)等 上；从开口的大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a的上侧向大致矩形缺口状粘接剂积存 部17a、17a上涂敷粘接剂60 ；通过毛细管现象/重力使粘接剂60充分介入于后磁轭10 II 的安装面部Ila II /lib II和磁铁50的安装面部51之间，而将磁铁50粘接于后磁轭10 II 上；对通过粘接剂60配设有磁铁50的后磁轭10 II进行加热或常温放置，使粘接剂60粘接 固化的工序。
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例如，可以在构成后磁轭10 II的安装面部lib II上形成具有多个微细V槽14b、 15b、凹凸部13b II和多个大致矩形缺口状粘接剂积存部的、用于确保粘接强度的粘接力确 保部12b II。另外，还可以在磁铁50的安装面部51上形成具有多个微细V槽、凹凸部和多 个大致矩形缺口状粘接剂积存部的、用于确保粘接强度的粘接力确保部。下面详细说明磁铁50与后磁轭10 II的粘接方法。首先，使用具有多个微细突出 部、凹凸部和多个大致矩形平面突出部的模具，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭 10 II的安装面部Ila II /lib II中的任一方或双方上形成具有多个微细V槽14a、15a/14b、 15b、凹凸部13a II /13b II和多个大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a的、用于确保粘接 强度的粘接力确保部12a II /12b II，接着，使磁铁50的安装面部51与后磁轭II的安装面部 Ila II /lib II对合，接着，在使大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a位于上侧的状态下， 将配设有磁铁50的后磁轭10 II临时放置于工作台等上，接着，从开口的大致矩形缺口状粘 接剂积存部17a、17a的上侧向大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a上涂敷粘接剂60，接 着，利用毛细管现象/重力使粘接剂60充分介入于后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II 和磁铁50的安装面部51之间，而将磁铁50粘接在后磁轭10 II上。之后，对借助粘接剂 60配设有磁铁50的后磁轭10 II进行加热或常温放置，使得粘接剂60粘接固化。通过如此进行磁铁50与后磁轭10 II的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后磁 轭10 II上。使用未图示的具有多个微细突出部、凹凸部及多个大致矩形平面突出部的模 具，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II中的任一 方或双方上形成具有多个微细V槽14a、15a/14b、15b、凹凸部13a II /13b II及多个大致矩 形缺口状粘接剂积存部17a、17a的、用于确保粘接强度的粘接力确保部12a II /12b II，使 磁铁50的安装面部51与后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II上对合，在使大致矩形缺 口状粘接剂积存部17a、17a位于上侧的状态下，将配设有磁铁50的后磁轭10 II临时放置 于工作台等上，从开口的大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a的上侧向大致矩形缺口状 粘接剂积存部17a、17a上涂敷粘接剂60，之后，在利用毛细管现象/重力使粘接剂60充分 介入于后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II和磁铁50的安装面部51之间的状态下，对 配设有磁铁50的后磁轭10 II进行加热或常温放置，使粘接剂60粘接固化，从而在确保了 粘接剂60的粘接强度的状态下，可靠地将磁铁50和后磁轭10 II粘接在一起。下面具体说明图6所示的磁铁50和后磁轭10 II的粘接方法。该磁铁50与后磁 轭10II的粘接方法包括以下工序转印成形工序，在该工序中，使用具有多个微细突出部、 凹凸部及多个大致矩形平面突出部的模具，在构成后磁轭10II的安装面部Ila II /lib II 上形成具有多个微细V槽14a、15a/14b、15b、凹凸部13a II /13b II和多个大致矩形缺口状 粘接剂积存部17a、17a的、用于确保粘接强度的粘接力确保部12a II /12b II ；组装工序，在 该工序中，使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II对合；临时 放置工序，在该工序中，在使大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a位于上侧的状态下，将 配设有磁铁50的后磁轭10 II临时放置于工作台(未图示)等上；粘接构件/粘接剂涂敷 工序，在该工序中，从开口的大致矩形缺口部粘接剂积存部17a、17a的上侧向大致矩形缺 口状粘接剂积存部17a、17a上涂敷粘接剂60 ；粘接保持工序，在该工序中，利用毛细管现象 /重力使粘接剂60充分介入在后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II和磁铁50的安装面 部51之间，而将磁铁50粘接于后磁轭10 II上；加热粘接固定工序，在该工序中，对借助粘接剂60配设有磁铁50的后磁轭10 II进行加热或常温放置，使粘接剂60粘接固化。根据磁体50的安装构造、0PU3的设计/规格、磁铁50与磁轭10 II的粘接方法等， 例如也可以在使磁铁50的安装面部51与后磁轭10 II的安装面部Ila II、llb II对合并将 磁铁50粘接在后磁轭10 II上之后，再在磁铁50的端面部53、54、55和后磁轭10 II之间涂 敷紫外线固化型粘接剂(60)，之后通过紫外线使其固化，将磁铁50和后磁轭10 II更可靠地 粘接固定在一起。通过使用例如利用褶皱加工等形成未图示的凹凸部的模具对对象物进行转印加 工，而在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II中的任 一方或双方上转印形成具有多个微细V槽14a、15a/14b、15b和凹凸部13a II /13b II的粘 接力确保部12a II /12b II。通过如此进行磁铁50与后磁轭10 II的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后磁 轭10 II上。使用通过褶皱加工形成未图示的凹凸部的模具，在构成磁铁50的安装面部51 和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II中的任一方或双方上进行模具转印成形加工 而形成粘接力确保部12a II /12b II，能在利用经由模具转印成形加工形成在构成磁铁50 的安装面部51上的粘接力确保部和经由模具转印成形加工形成在构成后磁轭10 II的安装 面部Ila II /lib II上的粘接力确保部12a II /12b II中的任一方或双方来确保了粘接剂60 的粘接强度的状态下，将磁铁50和后磁轭10 II可靠地粘接在一起。通过使用由雕刻加工形成未图示的突出部、凹凸部及大致矩形平面突出部的模 具对对象物进行转印加工，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面 部Ila II /lib II中的任一方或双方上转印形成具有多个微细V槽14a、15a/14b、15b、 凹凸部13a II /13b II及多个大致矩形缺口状粘接剂积存部17a、17a的粘接力确保部 12a II /12b II。通过如此进行磁铁50与后磁轭10 II的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后磁 轭10 II上。使用通过雕刻加工形成未图示的突出部、凹凸部及大致矩形平面突出部的模 具，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II中的任一 方或双方上进行模具转印成形加工而形成粘接力确保部12a II /12b II，能在利用经由模具 转印成形加工形成在构成磁铁50的安装面部51上的粘接力确保部和经由模具转印成形加 工形成在构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II上的粘接力确保部12a II /12b II中 的任一方或双方来确保了粘接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50和后磁轭10 II可靠地 粘接在一起。通过使用未图示的具有多个微细突出部、凹凸部及多个大致矩形平面突出部的模 具在对对象物进行冲压模具成形加工的同时一并对对象物进行转印加工，在构成磁铁50 的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II中的任一方或双方上转印形 成具有多个微细V槽14a、15a/14b、15b、凹凸部13a II /13b II及多个大致矩形缺口状粘接 剂积存部17a、17a的粘接力确保部12a II /12b II。通过如此进行磁铁50与后磁轭10 II的粘接方法，能将磁铁50可靠地粘接在后磁 轭10 II上。使用未图示的具有多个微细突出部、凹凸部及多个大致矩形平面突出部的模 具，在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II中的任一 方或双方上进行冲压模具成形加工而转印形成粘接力确保部12a II /12b II，能在利用经由冲压模具成形加工转印形成在构成磁铁50的安装面部51上的粘接力确保部和经由冲 压模具成形加工转印形成在构成后磁轭10 II的安装面部Ila II /lib II上的粘接力确保部 12a II /12b II中的任一方或双方来确保了粘接剂60的粘接强度的状态下，将磁铁50和后 磁轭10 II可靠地粘接在一起。另外，通过在构成磁铁50的安装面部51和构成后磁轭10 II的安装面部 Ila II /lib II中的任一方或双方上，使用未图示的具有多个微细突出部、凹凸部及多个 大致矩形平面突出部的模具进行冲压模具成形加工，而在磁铁50的安装面部51和后磁 轭10II的安装面部Ila II /lib II中的任一方或双方上高效率地转印形成粘接力确保部 12a II /12b II。具体而言，通过使用未图示的冲压模具在未图示的金属底板上大致同时进行冲 切、转印、折弯、冲压加工，能高效率地形成后磁轭10 II，且能高效率地在后磁轭10 II的侧 壁IOa II /IOb II上形成具有凹凸部13a II /13b II和多个大致矩形缺口状粘接剂积存部 17a、17a等的粘接力确保部12a II /12b II，该凹凸部13a II /13b II具有多个微细V槽14a、 15a/14b、15b。另外，也可以基于使用图1、图2的㈧及图2的(B)说明的上述实施例1的上述 磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法，进行图6的㈧及图6的⑶所示的磁性构 件(50)与磁连结构件(10 II )的粘接方法。另外，还可以基于使用图1、图2的㈧及图 2的(B)说明的上述实施例1的上述磁性构件50与磁连结构件10的粘接方法，在进行图 6的㈧及图6的⑶所示的磁性构件(50)与磁连结构件(10 II )的粘接方法的同时，一 并进行使用图6的(A)及图6的(B)说明的上述磁性构件50与磁连结构件10 II的粘接方 法。实施例3图7表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法的第 三实施方式。在图1、图2的(A)及图2的(B)所示的第一实施方式的磁性构件50的安装结构、 磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法中，在构成后磁轭10 I的侧壁IOa I UOb I的 安装面部Ila I Ulb I上，设置具有大致矩形倾斜网格状或大致倾斜窄条形状的多个凹凸 部13a I、13b I的粘接力确保部12a I、12b I，该凹凸部13a I U3b I形成有多个被配置 为大致网格状的槽14a、14b、15a、15b等，而在图7所示的第三实施方式的磁性构件50的安 装结构、磁性构件50与磁连结构件20的粘接方法中，在构成后磁轭20的侧壁20a、20b的安 装面部21a、21b上设置具有大致倾斜窄条形状的多个凹凸部23a、23b的粘接力确保部22a、 22b，该凹凸部23a、23b形成有多个大致沿不同方向延伸设置的槽24a、24b、25a、25b等。代替第一实施方式所示的配设为大致网格状的多个槽14a、14b、15a、15b，在第三 实施方式中，形成多个大致沿不同方向延伸设置的槽24a、24b、25a、25b。除了代替配设成大致网格状的多个槽14a、14b、15a、15b而形成多个大致沿不同 方向延伸设置的槽24a、24b、25a、25b之外，第三实施方式的磁性构件50的安装结构、磁性 构件50与磁连结构件20的粘接方法、拾取装置3及光盘装置1中的后磁轭20，与第一实 施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法、拾取装置 3及光盘装置1中的后磁轭10 I的说明内容大致相同。
另外，在图3中，关于V槽14a、14b、15a、15b，对基准面部16、倾斜面部16a、16b、槽 收纳部16c、槽深(深度)16d、里端部16e、截面积(面积)16f、角度16等进行了说明，关于 图7所示的V槽24a、24b、25a、25b的详细说明内容，也与图3中所示的基准面部16、倾斜面 部16a、16b、槽收纳部16c、槽深(深度)16d、里端部16e、截面积(面积)16f、角度16g等 相同。在该情况下，例如基准面部16为凹凸部23a、23b的构成后磁轭20的安装面部21a、 21b的粘接力确保部22a、22b的基准面部16。在使用图7说明的第三实施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连 结构件20的粘接方法、拾取装置3及光盘装置1中，对与使用图1 图5说明的第一实施 方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法、拾取装置3 及光盘装置1的说明内容大致相同的装置，标注相同的附图标记并省略其详细说明。大致二字状的后磁轭20包括形成为大致中空矩形平板状的基壁28和沿相对于 基壁28大致正交的方向延伸设置的一对侧壁20a、20b。在作为构成后磁轭20的第一侧壁 20a的粘接面侧的大致矩形的安装面部21a上设有用于确保粘接剂60的粘接强度的粘接 力确保部22a。另外，在大致矩形的安装面部21a的大致中央部26a上设有作为涂敷粘接 剂60时的目标的粘接剂涂敷目标部27a，例如设有大致圆孔状凹部27a。另外，在作为构成 后磁轭20的第二侧壁20b的粘接面侧的大致矩形的安装面部21b上设有用于确保粘接剂 60的粘接强度的粘接力确保部22b。另外，在大致矩形的安装面部21b的大致中央部21b 上设有作为涂敷粘接剂60时的目标部的粘接剂涂敷目标部27b，例如设有大致圆孔状凹部 27b。另外，构成后磁轭20的大致矩形板状基壁28上设有供激光通过的大致矩形孔状的通 孔29。粘接力确保部22a、22b形成为包括大致倾斜窄条形状的多个凹凸部23a、23b。如果如此形成粘接力确保部22a、22b，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭20上。在 将磁铁50安装于后磁轭20上之前或将磁铁50安装于后磁轭20上之后，涂敷在构成磁铁 50的安装面部51的粘接力确保部和构成后磁轭20的安装面部21a、21b的粘接力确保部 22a、22b中的任一方或双方上的粘接剂60，利用毛细管现象容易地在构成磁铁50的安装面 部51的粘接力确保部的例如大致倾斜窄条形状的多个凹凸部或构成后磁轭20的安装面部 21a、21b的粘接力确保部22a、22b的例如大致倾斜窄条形状的多个凹凸部23a、23b上展开， 因此能实现可靠的面粘接。因此，可靠地确保了磁铁50相对于后磁轭20的粘接强度。粘接力确保部22a、22b具有大致沿例如朝向左下方的第一方向延伸设置的多个 第一方向V槽24a、24b和大致沿与第一方向不同的例如朝向右下方的第二方向延伸设置的 第二方向V槽25a、25b。另外，多个第一方向V槽24a、24b和多个第二方向V槽25a、25b的 一部分交叉。如果像这样形成粘接力确保部22a、22b，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭20上。 被设置在磁铁50和后磁轭20中的任一方或双方上的粘接力确保部22a、22b具有大致沿例 如朝向左下方的第一方向延伸设置的多个第一方向V槽24a、24b和大致沿与第一方向不同 的例如朝向右下方的第二方向延伸设置的多个第二方向V槽25a、25b。通过使多个第一 方向V槽24a、24b和多个第二方向V槽25a、25b的一部分交叉，使得粘接剂60通过各V槽 24a、24b、25a、25b遍布在粘接力确保部22a、22b上，结果，粘接剂60容易地在粘接力确保部 22a、22b上展开。因此，能确保粘接强度，能可靠地将磁铁50和后磁轭20粘接在一起。
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侧壁20a、20b的各V槽24a、24b、25a、25b相对于划分后磁轭20的基壁28和侧壁 20a、20b的基准线20x倾斜约45°角地延伸设置，且各V槽24a、24b与各V槽25a、25b的 一部分交叉。另外，一部分各V槽24a、24b、25a、25b大致正交，一部分各V槽24a、24b、25a、 25b的交叉角约为90°。实施例4图8表示本发明的磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法的第 四实施方式。在图1、图2的(A)及图2的(B)所示的第一实施方式的磁性构件50的安装结构、 磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方法中，在构成后磁轭10 I的侧壁IOa I UOb I 的安装面部Ila I Ulb I上设置有具有大致矩形倾斜网格状或大致倾斜窄条形状的多个 凹凸部13a I U3b I的粘接力确保部12a I、12b I，该凹凸部13a I、13b I形成有配置 为大致网格状的多个槽14a、14b、15a、15b等，而在图8所示的第四实施方式的磁性构件50 的安装结构、磁性构件50与磁连结构件30的粘接方法中，在构成后磁轭30的侧壁30a、30b 的安装面部31a、31b上，设有具有大致放射状的多个凹凸部33a、33b的粘接力确保部32a、 32b，该凹凸部33a、33b形成有大致沿不同各方向以大致放射状延伸设置的多个槽34a、 34b、35a、35b 等。代替第一实施方式所示的配置为大致网格状的多个槽14a、14b、15a、15b，在第四 实施方式中，形成大致沿不同各方向以大致放射状延伸设置的多个槽34a、34b、35a、35b。除了代替配置为大致网格状的多个槽14a、14b、15a、15b而形成大致沿不同各方 向以大致放射状延伸设置的多个槽34a、34b、35a、35b之外，第四实施方式的磁性构件50的 安装结构、磁性构件50与磁连结构件30的粘接方法、拾取装置3及光盘装置1中的后磁轭 30，与第一实施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连结构件10 I的粘接方 法、拾取装置3及光盘装置1中的后磁轭10 I的说明内容大致相同。另外，在图3中，关于V槽14a、14b、15a、15b，对基准面部16、倾斜面部16a、16b、槽 收纳部16c、槽深(深度)16d，里端部16e、截面积(面积)16f、角度16g等进行了说明，关 于图8中所示的V槽34a、34b、35a、35b的详细说明内容，也与图3中所示的基准面部16、倾 斜面部16a、16b、槽收纳部16c、槽深(深度)16d、里端部16e、截面积(面积)16f、角度16g 等相同。在该情况下，基准面部16为凹凸部33a、33b的构成后磁轭30的安装面部3la、3Ib 的粘接力确保部32a、32b的基准面部16。在使用图8说明的第四实施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连 结构件30的粘接方法、拾取装置3及光盘装置1中，对于与使用图1 图5说明的第一实 施方式的磁性构件50的安装结构、磁性构件50与磁连接10 I的粘接方法、拾取装置3及 光盘装置1的说明内容大致相同的装置，标注相同的附图标记并省略其详细说明。大致二字状的后磁轭30包括形成为大致中空矩形平板状的基壁38和大致沿与基 壁38大致正交的方向延伸设置的一对侧壁30a、30b。在作为构成后磁轭30的第一侧壁30a 的粘接面侧的大致矩形的安装面部31a上设有用于确保粘接剂60的粘接强度的粘接力确 保部32a。另外，在大致矩形的安装面部31a的大致中央部36a上设有作为涂敷粘接剂60 时的目标的粘接剂涂敷目标部37a，例如设有大致圆孔状的凹部37a等。另外，在作为构成 后磁轭30的第二侧壁30b的粘接面侧的大致矩形的安装面部31上设有用于确保粘接剂60的粘接强度的粘接力确保部32b。另外，在大致矩形的安装面部31b的大致中央部36b上 设有作为涂敷粘接剂60时的目标的粘接剂涂敷目标部37b，例如设有大致圆孔状凹部37b。 另外，在构成后磁轭30的大致矩形板状的基壁38上设有供激光通过的大致矩形孔状的通 孔39。粘接力确保部32a、32b包括例如大致放射状的多个凹凸部33a、33b。如果像这样形成粘接力确保部32a、32b，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭30上。 在将磁铁50安装于后磁轭30上之前或将磁铁50安装于后磁轭30上之后，涂敷在构成磁 铁50的安装面部51的粘接力确保部和构成后磁轭30的安装面部31a、31b的粘接力确保 部32a、32b中的任一方或双方上的粘接剂60，利用毛细管现象容易地在构成磁铁50的安装 面部51的粘接力确保部的例如大致放射状的多个凹凸部或构成后磁轭30的安装面部31a、 31b的粘接力确保部32a、32b的例如大致放射状的多个凹凸部33a、33b上展开，因此能实现 可靠的面粘接。因此，能可靠地确保磁铁50相对于后磁轭30的粘接强度。粘接力确保部32a、32b具有从磁铁50或后磁轭30的安装面部31a、31b的大致中 央部36a、36b朝向安装面部31a、31b的大致周边部36c、36d以例如大致放射状延伸设置的 多个 V 槽 34a、34b、35a、35b。如果像这样形成粘接力确保部32a、32b，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭30上。 通过使设置在磁铁50和后磁轭30中的任一方或双方上的粘接力确保部32a、32b通过具 有从磁铁50或后磁轭30的安装面部31a、31b的大致中央部36a、36b朝向安装面部31a、 31b的大致周边部36c、36d以例如大致放射状延伸设置的多个V槽34a、34b、35a、35b，能确 保粘接强度，能将磁铁50和后磁轭30可靠地粘接在一起。粘接力确保部32a、32b具有大致沿例如完全朝向左侧方向的第一方向延伸设置 的多个第一方向V槽34a、34b和大致沿与第一方向不同的、例如完全朝向右侧方向的第二 方向延伸设置的多个第二方向V槽35a、35b。如果像这样形成粘接力确保部32a、32b，能将磁铁50可靠地粘接在后磁轭30上。 通过使设置在磁铁50和后磁轭30中的任一方或双方上的粘接力确保部32a、32b具有大致 沿例如完全朝向左侧方向的第一方向延伸设置的多个第一方向V槽34a、34b和大致沿与第 一方向不同的、例如完全朝向右侧方向的第二方向延伸设置的多个第二方向V槽35a、35b， 能确保粘接强度，能将磁铁50和后磁轭30可靠地粘接在一起。以上，说明了本发明的实施方式，但是，上述实施方式是为了易于理解本发明，而 不是为了限定本发明而进行的解释。例如，也可以在磁铁(50)或后磁轭(30)的安装面部 (31a/31b)的左右两处设置粘接剂涂敷目标部(37a、37a/37b、37b)，从磁铁(50)或后磁轭 (30)的安装面部(31a/31b)的左右两处的V槽起点中心部朝向安装面部(31a/31b)的大致 周边部(36c/36d)以例如大致放射状延伸设置多个V槽(34a、34b/35a、35b)，且使一部分V 槽相交叉。本发明能不脱离其主旨的范围内进行变更/改进，并且其类似装置也包括在本 发明范围内。工业实用性例如，可以适用于能使“CD，，、“DVD，，、“HDDVD，，、“CBHD，，、“Blu_ray Disc，，等各种光
盘等的各种介质上记录的数据、信息、信号等再现，或向可写入或改写的各种光盘等的各种 介质上记录数据、信息，信号等，或擦除记录在能写入或能改写的各种光盘等的各种介质上的数据、信息、信号等的拾取装置、盘装置、设置在这些装置中的磁性构件的安装结构及设 置在这些装置中的磁性构件与磁连结构件的粘接方法。
权利要求
一种磁性构件的安装结构，其特征在于，该磁性构件的安装结构至少包括磁性构件和磁连结构件，该磁连结构件上设有用于确保粘接所述磁性构件时的粘接强度的粘接力确保部。
2.一种磁性构件的安装结构，其特征在于，该磁性构件的安装结构至少包括磁性构件、能配设所述磁性构件的磁连结构件和用于 将所述磁性构件粘接在所述磁连结构件上的粘接构件，在所述磁性构件和所述磁连结构件中的任一方或双方上设有用于确保粘接强度的粘 接力确保部。
3.根据权利要求2所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部被形成为包括凹凸部。
4.根据权利要求2或3所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部包括大致网格状的凹凸部。
5.根据权利要求2 4中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部包括大致窄条形状的凹凸部。
6.根据权利要求2 5中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部包括大致放射状的凹凸部。
7.根据权利要求2 6中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部被形成为包括深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹凸部。
8.根据权利要求2 7中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有槽。
9.根据权利要求2 8中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有V槽。
10.根据权利要求2 9中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有被配置为大致网格状的槽。
11.根据权利要求2 10中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有大致沿第一方向延伸设置的第一方向槽和大致沿第二方向延伸设置的第二方向槽。
12.根据权利要求2 11中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有以大致放射状延伸设置的槽。
13.根据权利要求2 12中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有深度超过0mm且在约0. 2mm以下的槽。
14.根据权利要求2 13中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有截面积超过0mm2且在约0. 05mm2以下的槽。
15.根据权利要求2 14中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 在所述磁性构件和所述磁连结构件中的任一方或双方上设有用于将粘接构件引导至所述粘接力确保部的粘接构件积存部。
16.根据权利要求15所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部被形成为包括凹凸部，所述粘接构件积存部被形成为包括凹部，在所述磁性构件和所述磁连结构件中的任一方或两方上涂敷用于接合二者的所述粘 接构件时，所述凹部位于所述凹凸部的大致上侧的位置。
17.根据权利要求15或16所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接力确保部具有槽，所述粘接构件积存部具有凹部， 所述槽的深度和所述凹部的深度大致相同。
18.根据权利要求15 17中任一项所述的磁性构件的安装结构，其特征在于， 所述粘接构件积存部具有深度超过0mm且在约0. 2mm以下的凹部。
19.一种拾取装置，其特征在于，该拾取装置具有权利要求2 18中任一项所述的磁性构件的安装结构。
20.一种磁性构件与磁连结构件的粘接方法，其特征在于，在磁性构件和磁连结构件中的任一方或双方上形成用于确保粘接强度的粘接力确保 部，从而将所述磁性构件粘接在所述磁连结构件上。
21.根据权利要求20所述的磁性构件与磁连结构件的粘接方法，其特征在于， 使用模具形成所述粘接力确保部。
22.根据权利要求20或21所述的磁性构件与磁连结构件的粘接方法，其特征在于， 该方法通过进行冲压加工而形成所述粘接力确保部。
23.根据权利要求20 22中任一项所述的磁性构件与磁连结构件的粘接方法，其特征 在于，该方法通过进行转印加工而形成所述粘接力确保部。
24.一种拾取装置，其特征在于，该拾取装置通过实行权利要求20 23中任一项所述的磁性构件与磁连结构件的粘接 方法而构成。
25.一种盘装置，其特征在于，该盘装置具有权利要求19或24所述的拾取装置。
全文摘要
本发明提供磁性构件的安装结构、磁性构件与磁连结构件的粘接方法、拾取装置及盘装置，能确保粘接强度，将磁性构件和磁连结构件可靠地粘接在一起。磁性构件50的安装结构至少包括磁性构件50、能配设磁性构件50的磁连结构件10Ⅰ、用于将磁性构件50粘接在磁连结构件10Ⅰ上的粘接构件60。通过在磁性构件50和磁连结构件10Ⅰ中的任一方或双方上设置用于确保粘接强度的粘接力确保部12aⅠ、12bⅠ，能将磁性构件50可靠地粘接在磁连结构件10Ⅰ上。本发明构成具有所述磁性构件50的安装结构的拾取装置，构成具有所述拾取装置的盘装置。
文档编号G11B7/12GK101923869SQ20101022402
公开日2010年12月22日 申请日期2010年4月21日 优先权日2009年6月11日
发明者今井谦一, 森本俊一 申请人:三洋电机株式会社