专利名称：一种光触媒防护服的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种防护服，具体是一种光触媒防护服。
背景技术：
光触媒是指以二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称。这种材料在光的照射下可产生游离电子及空穴，因而具有很强的光氧化还原功能，可氧化分解各种有机化合物和部分无机物，能破坏细菌的细胞膜和固化病毒的蛋白质，具有很强的空气净化功能，由于光触媒只是提供反应场所的，因而本身并不参与化学反应，所以它的作用效果是持久的，近年来光触媒已经广泛应用于空气净化等领域，然而在防护服行业还没有得到应用。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有杀菌、消毒等功能的光触媒防护服。本发明的技术方案是这样实现的一种光触媒防护服，包括基布和喷涂于基布外层的光触媒涂层，所述基布是无纺布，所述光触媒涂层的原料组成，以质量分数计为纳米级二氧化钛粉体20-50%，溶胶40-60%，所述光触媒防护服的加工方法步骤如下
1)用消毒液消毒基布，然后烘干；
2)将光触媒喷涂于基布上形成光触媒涂层，其涂层的厚度为20-35nm，然后烘干，烘干时温度控制在60°C以下；
3)裁减、缝合。所述纳米级二氧化钛粉体的粒径为10-15nm。所述步骤2)的烘干温度为50°C。所述溶胶为硅溶胶。本发明的有益效果是本发明的光触媒防护服可以抗菌消毒，消除异味，净化空气，而光触媒涂料层本身不会消耗，可以长久使用，同时，二氧化钛本身无毒无害。
具体实施例方式实施例1
一种光触媒防护服，包括基布和喷涂于基布外层的光触媒涂层，所述基布是无纺布，所述光触媒涂层的原料组成，以质量分数计为IOnm的二氧化钛粉体20%，硅溶胶60%，其余为溶剂，所述光触媒防护服的加工方法步骤如下
1)用消毒液消毒基布，然后烘干；
2)将光触媒喷涂于基布上形成光触媒涂层，其涂层的厚度为20nm，然后烘干，烘干时温度控制在60°C ；
3)裁减、缝合。实施例2一种光触媒防护服，包括基布和喷涂于基布外层的光触媒涂层，所述基布是无纺布，所述光触媒涂层的原料组成，以质量分数计为15nm的二氧化钛粉体40%，硅溶胶50%，其余为溶剂，所述光触媒防护服的加工方法步骤如下
1)用消毒液消毒基布，然后烘干；
2)将光触媒喷涂于基布上形成光触媒涂层，其涂层的厚度为35nm，然后烘干，烘干时温度控制在50°C ；
3)裁减、缝合。 以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此， 任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明披露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种光触媒防护服，其特征在于，包括基布和喷涂于基布外层的光触媒涂层，所述基布是无纺布，所述光触媒涂层的原料组成，以质量分数计为纳米级二氧化钛粉体 20-50%，溶胶40-60%，其余为溶剂，所述光触媒防护服的加工方法步骤如下1)用消毒液消毒基布，然后烘干；2)将光触媒喷涂于基布上形成光触媒涂层，其涂层的厚度为20-35nm，然后烘干，烘干时温度控制在60°C以下；3)裁减、缝合。
2.根据权利要求1所述的光触媒防护服，其特征在于，所述纳米级二氧化钛粉体的粒径为 10-15nm。
3.根据权利要求1所述的光触媒防护服，其特征在于，所述步骤2)的烘干温度为50°C。
4.根据权利要求1所述的光触媒防护服，其特征在于，所述溶胶为硅溶胶。
全文摘要
本发明公开了一种光触媒防护服，包括基布和喷涂于基布外层的光触媒涂层，所述基布是无纺布，所述光触媒涂层的原料组成，以质量分数计为纳米级二氧化钛粉体20-50%，溶胶40-60%，所述光触媒防护服的加工方法步骤如下1)用消毒液消毒基布，然后烘干；2)将光触媒喷涂于基布上形成光触媒涂层，其涂层的厚度为20-35nm，然后烘干，烘干时温度控制在60℃以下；3)裁减、缝合。本发明的光触媒防护服可以抗菌消毒，消除异味，净化空气，而光触媒涂料层本身不会消耗，可以长久使用，同时，二氧化钛本身无毒无害。
文档编号D06M11/46GK102362705SQ20111017933
公开日2012年2月29日 申请日期2011年6月29日 优先权日2011年6月29日
发明者盖丽, 龚启云 申请人:大连林桥科技有限公司