专利名称：印花面料的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及布料编织领域，尤其是一种印花面料。
背景技术：
随着生活水平的提高人们对服装也提出了更高的要求，现有的普通的涤纶面料由普通涤纶纱线十字编织法编织而成，易在纤维上积聚电荷，产生静电作用，穿在身上会感觉不舒服。
实用新型内容本实用新型针对上述的不足提供了一种印花面料，包括面料，所述面料上印有印花，所述面料由75D/36F的平针线圈和75D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈经过纬编依次串套而成，所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。本实用新型的有益效果是:该面料经过后整理和抗静电整理后，该面料的舒适性增加，同时具有抗静电的性能，增加穿着的舒适性。
图1是本实用新型的结构示意图。如图所示1-平针线圈、2-拉长沉降弧的毛圈线圈。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。如图所示一种印花面料，包括面料，所述面料由75D/36F的平针线圈I和75D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈2经过纬编依次串套而成，将面料进行染色、印花烘干，使面料款式多样，将面料在最后一道定型处理时米用一浸一轧法，浸轧时加入抗静电剂，带液率为80%，将面料在130°C的高温下烘干，在150°C的高温下焙烘2分钟，附着一层抗静电剂。本实用新型并不局限于前述的具体实施方式
。本实用新型扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组
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权利要求1.一种印花面料，包括面料，所述面料上印有印花，其特征在于:面料由7OT/36F的平针线圈(I)和75D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈(2)经过纬编依次串套而成，所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。
专利摘要本实用新型公开了一种印花面料，包括面料，所述面料上印有印花，所述面料由75D/36F的平针线圈和75D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈经过纬编依次串套而成，所述印花面料上附着有一层抗静电药剂。本实用新型解决了布料容易触静电的问题。
文档编号D04B1/04GK203065743SQ201220632408
公开日2013年7月17日 申请日期2012年11月27日 优先权日2012年11月27日
发明者刘桂芬 申请人:江苏申利实业股份有限公司