一种缓释功能单元及衣物处理设备的制作方法

文档序号:39819196发布日期:2024-11-01 18:51阅读:13来源:国知局
一种缓释功能单元及衣物处理设备的制作方法

本申请涉及衣物洗护,尤其涉及一种缓释功能单元及衣物处理设备。


背景技术:

1、相关技术中,缓释结构为容器壳内装入功能物质,通过容器壳上的孔来控制功能物质的消耗量,达到缓释效果,该缓释结构使用不方便。

2、公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本申请的总体背景的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请实施例期望提供一种缓释功能单元及衣物处理设备,缓释功能单元使用方便。

2、本申请实施例提供一种缓释功能单元,缓释功能单元包括不溶相以及可溶相,所述可溶相含有功能物质,所述不溶相和所述可溶相彼此相互融合;

3、所述缓释功能单元用于在与溶解介质接触的状态下向溶解介质中缓释所述可溶相;

4、所述缓释功能单元的整体轮廓具有预设形状;和/或,所述缓释功能单元的表面具有图形。

5、示例性地,所述缓释功能单元的整体轮廓的预设形状包括:动物形状、人体形状、植物形状、商标、字符中的至少一种。

6、示例性地,所述缓释功能单元的表面的图形包括线条图、色彩组合中的至少一种。

7、示例性地,所述缓释功能单元为一体式结构。

8、示例性地,所述缓释功能单元呈片状。

9、示例性地,所述缓释功能单元为一体式结构。

10、示例性地,所述不溶相中不含功能物质。

11、示例性地,所述可溶相和所述不溶相呈现出不同的颜色和/或气味。

12、示例性地,所述可溶相包括可溶性基材以及分散在所述可溶性基材中的功能物质,其中,所述可溶性基材用于形成连续相结构,所述功能物质用于对衣物和/或缓释功能单元进行护理。

13、示例性地,所述可溶性基材的材料包括聚乙烯醇、聚乙二醇和聚氧化乙烯中的至少一种;和/或,所述功能物质包括杀菌剂、除垢剂、增香剂、软水剂、酶制剂、固色剂、除味剂中的至少一种;和/或,所述不溶相的材料包括塑料、橡胶和纤维中的至少一种。

14、本申请实施例提供一种衣物处理设备,包括:

15、设备主体;

16、以及本申请任意实施例所述的缓释功能单元。

17、本申请实施例的缓释功能单元,由于不溶相的存在,缓释功能单元能够保持自身的结构形状,因此不需要容器壳,可以直接使用;可溶相不会一次性快速全部溶解于溶解介质,而是会缓慢释放到溶解介质中,当没有溶解介质时,可溶相不会脱离不溶相,因此,缓释功能单元可以较长时间地进行使用,且每次释放的速度、浓度均能保持较好的一致性;无论是预设形状还是图形,都能够起到较好的视觉分辨效果或者呈现一些重要信息。



技术特征:

1.一种缓释功能单元,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的缓释功能单元,其特征在于,所述缓释功能单元的整体轮廓的预设形状包括:动物形状、人体形状、植物形状、商标、字符中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的缓释功能单元,其特征在于,所述缓释功能单元的表面的图形包括线条图、色彩组合中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的缓释功能单元,其特征在于,所述缓释功能单元为一体式结构。

5.根据权利要求1所述的缓释功能单元,其特征在于,所述不溶相中不含功能物质。

6.根据权利要求1所述的缓释功能单元,其特征在于,所述缓释功能单元呈片状。

7.根据权利要求1所述的缓释功能单元,其特征在于,所述可溶相和所述不溶相呈现出不同的颜色和/或气味。

8.根据权利要求1所述的缓释功能单元,其特征在于,所述可溶相包括可溶性基材以及分散在所述可溶性基材中的功能物质,其中,所述可溶性基材用于形成连续相结构,所述功能物质用于对衣物和/或缓释功能单元进行护理。

9.根据权利要求8所述的缓释功能单元,其特征在于,所述可溶性基材的材料包括聚乙烯醇、聚乙二醇和聚氧化乙烯中的至少一种;和/或,所述功能物质包括杀菌剂、除垢剂、增香剂、软水剂、酶制剂、固色剂、除味剂中的至少一种;和/或,所述不溶相的材料包括塑料、橡胶和纤维中的至少一种。

10.一种衣物处理设备,其特征在于,包括:


技术总结
本申请实施例提供一种缓释功能单元及衣物处理设备,缓释功能单元包括不溶相以及可溶相,可溶相含有功能物质,不溶相和可溶相彼此相互融合;缓释功能单元用于在与溶解介质接触的状态下向溶解介质中缓释可溶相;缓释功能单元的整体轮廓具有预设形状;和/或,缓释功能单元的表面具有图形。本申请实施例的缓释功能单元,由于不溶相的存在,可溶相不会一次性快速全部溶解于溶解介质,而是会缓慢释放到溶解介质中,当没有溶解介质时,可溶相不会脱离不溶相,缓释功能单元可以较长时间地进行使用,且每次释放的速度、浓度均能保持较好的一致性;无论是预设形状还是图形,都能够起到较好的视觉分辨效果或者呈现一些重要信息。

技术研发人员:孙照博,张栋葛,尹路,李晓峰,马骏,高弘锡
受保护的技术使用者:无锡小天鹅电器有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/10/31
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1