专利名称：用于使物质无沾染地熔化的装置和方法
技术领域：
本发明涉及一种一般地用于使物质无沾染(低沾染)地熔化、特别地用于使特别高纯度的、侵蚀性的和/或高熔点的玻璃或玻璃陶瓷熔化的装置和方法。
背景技术：
在传统的熔化方法中，玻璃在一白金坩埚内或耐火熔池内连续地熔化。这里缺点是，白金会带给熔液一定的成分，而耐火熔池只有短的使用寿命。在这里无法达到追求的高纯度的玻璃质量。
还知道这样一种方法，在用这种方法时玻璃在熔池内连续地熔化并取出。这里为了得到高质量的玻璃，在某些情况下在熔池上连接一净化槽和一均化装置或均化池。
在上述两种方法中，熔化坩埚或熔池断续地或连续地例如用一燃烧器从外部加热，并将热量继续传导给位于内部的熔体。这里在熔体和坩埚或熔池之间存在直接接触。这具有一系列缺点。
首先，最大熔化温度受到坩埚或熔池材料的限制。因此熔化坩埚或熔池以及在某些情况下净化槽和均化池由白金组成，它具有比较高的熔化温度和比较好的耐腐蚀性。
其次，白金熔化坩埚或白金熔池、还有净化槽和均化池受玻璃熔液的侵蚀和腐蚀。
而白金有害地引起玻璃的沾染或污染，它们使光学性能，特别是透射性恶化，因此这种传导加热法对于高纯度玻璃最多只能有限制地应用。这种类型的污染导致在光导纤维传输系统中透射(传输)性损失200至500dB/km。
这特别是对于侵蚀性玻璃例如硅酸锌玻璃或镧玻璃(Lanthanboratglas)的熔化证明问题最大，因为它们对坩埚或熔池简直就是“吃”。
除了上述传导加热法之外还知道一些这样的方法，其中玻璃在一种所谓的渣壳坩埚(Skulltiegel)中感应加热和熔化。
渣壳坩埚通常由相互隔开一定距离的、曲回形设置的水冷金属管组成。位于渣壳坩埚内部的熔体经由一围绕坩埚设置的线圈装置通过输入高频能量加热成熔液。
通过坩埚的冷却，在渣壳坩埚和熔液之间形成一基本上固态的、由同一类型的材料，亦即特别是玻璃，组成的层或结晶壳。因此大大减小由坩埚材料对熔液造成的污染。
例如由PETROV YU.B.等人的“连续浇铸的在冷坩埚感应炉中熔化的玻璃”，1989年第XV届国际玻璃会议，会议公报，第3a卷，第72至77页，已知一种渣壳坩埚。
然而，由于与所述的传导加热的熔化装置相比具有复杂的结构，特别是由于感应加热的渣壳熔化装置的高频技术要求，产生了全新的要求和问题。在此，首先是由于高的熔化温度和单位坩埚容积非常高的流量，传导加热装置的许多解决方案不可能毫无问题地转移到渣壳熔化装置上。
原则上用渣壳熔化装置可以实现高的熔化率，从而实现高的产量。这虽然是人们希望的，但是另一方面由此可能例如由于热还原损害熔液质量，从而损害成品质量。这还导致玻璃透射(传输)性能的恶化。
此外高频射线的输入率取决于熔液不同的参数。因此熔化效率不仅受由线圈装置发射高频能量的限制，而且也受熔液参数和坩埚几何形状的限制。
因此已知渣壳熔化装置特别是在熔液的质量和均匀性方面，还有在熔化功率和产量方面有待进一步改进。
由WO OO/32525已知一种使有机废物，特别是放射性废物玻璃化的方法和装置，在用这种方法/装置时用来使有机物质氧化的氧气的输入既从熔化坩埚的顶面又从底面进行。氧气的输入基本上这样进行，使它具有限制在局部的影响。但是由此熔液的氧化还原状态只在局部改变，不发生整个熔液的均匀化。
发明内容
因此本发明的目是，提供一种用于熔化物质特别是玻璃或玻璃陶瓷的装置和方法，特别是渣壳熔化装置或方法，从而可以得到更好的均匀性、更高的熔化效率、更高的产量和/或高的物质或玻璃质量。
本发明的另一个目的是，进一步发展已知渣壳熔化装置或熔化方法，并避免或至少是减少已知装置和方法的缺点。
本发明的目的以意想不到地简单的方式通过权利要求1和20的内容便得以实现。
按本发明的用于熔化或熔融物质或化合物，特别是用于熔化高纯度的、侵蚀性的和/或高熔点的玻璃或玻璃陶瓷的装置，特别是渣壳熔化装置，包括一最好是可冷却的例如水冷的坩埚或渣壳坩埚，和一电磁射线的发射装置，特别是绕坩埚设置的线圈装置。发射装置或线圈装置发射特别是高频的电磁射线，它输入位于坩埚内的熔体中，使熔体借助于吸收的高频能量加热。此外设有一混合或均化装置，以混合熔体或使之均匀化，其中混合或均化装置附设于坩埚，例如设置在它上面和/或里面，使得可以在坩埚或熔化坩埚内进行混合或均化。
最好从上方大致中心处将待熔化配料连续地放入熔体、并从坩埚中连续地取出液态熔体。
发明人发现，通过熔体的混合和/或均化在熔化坩埚或渣壳坩埚内便已经可以实现意想不到的诸多用处。首先，例如从上方以固态形式落入熔体内的未熔化物质通过剧烈混合与熔体的液态成分迅速熔合。意想不到地，发明人发现，熔体和加入的物质之间的有效接触面急剧加大，从而提高熔化效率。第二，熔体的温度分布均匀化。第三，可能具有例如不同熔化温度和/或高频耦合系数的不同的玻璃组成部分达到均匀的分布或混和。第四，可以调整玻璃的氧化还原状态。
所发现的作用机理特别是与优先采用的感应高频加热相关，同时电磁射线的耦合或输入还与设备状态、温度和熔体内当时玻璃的组成成分有关。特别是与未熔化的物质组成部分的耦合非常小。
本发明的装置和方法还特别适用于高熔点玻璃，这种玻璃熔化温度至少达到1500℃或1600℃。此外还可良好地熔化侵蚀性玻璃，例如硅酸锌玻璃或镧玻璃。
混合或均化最好无沾染或至少少沾染地进行，这特别是对于高纯度玻璃有很大的优点。
为了混合或均化，最好使熔体按要求或以规定方法产生内部运动，或激起、支持和/或保持内部运动。特别是在熔体内激起预先规定的流动，例如以规定的流动速度和/或流动方向。它例如可以通过按要求产生温度差在熔体内引起对流，或者激起、支持或加强已经存在的对流。
混合或均化可以在熔体内加入或不加入物质感应或产生。
加入物质的混合的一种优选形式包括加入做成这样的配料，使得仅仅通过加入这种配料便已经在熔体内激起例如流动。为此采用例如制成球团的和/或裹衣的配料，在它里面特别是包含气泡和/或它在熔化时释放气泡。不带这种气泡，配料也可以制成球团、裹衣和/或用其他方式小型化地输入。这里，在本发明的意义上制成球团是指例如借助于压力机结构成牢固的固体。裹衣是指配备例如玻璃状覆盖层的固体结构。由此以特别有利的方法既避免由于输入颗粒和细颗粒状物质而沾染灰尘，又大大改善装灌效率，因为在流量相同的情况下可以向熔体加入多得多的物质。此外，配料组成部分可能被细粒度的物质置换，而不造成更多的灰尘沾染，这时，通过细粒度物质借助于缩短的扩散路程达到最佳的熔化速度。
选择地或附加地最好放入一种例如做成杆状的配料，它特别是通过旋转地沉入熔体内促进混合或均化，例如螺旋桨形的杆就特别是一种自熔解的搅拌器。
选择地或附加地可以设置一外部的搅拌装置，特别是由涂覆的金属制成的搅拌装置，以进行机械搅拌，或者设一插入熔液内的通过熔化自溶解的由熔化物质组成的搅拌器。
本发明一种特别优选的实施形式包括一用来引入气体或气泡的装置，例如借助于一个或多个气体喷嘴喷入熔体内。气体喷嘴最好得到冷却，特别是液体冷却，例如水冷，并且最好设置在坩埚底面上。气体喷嘴的冷却可以和坩埚的冷却连通或分开。
按照一种特别优选的实施形式，气体喷嘴至少局部穿过坩埚底面，并伸入坩埚内部。特别是气体喷嘴的尖端一直延伸到熔体上或内，使得从气体喷嘴或尖端中喷出的气体以气泡形式上升到熔体内。这种“气泡”以特别简单的方法促使熔化坩埚内熔液的混合和均化。
最好采用含氧气体，这特别是对于硅酸铅玻璃证明是非常有利的。在这种玻璃中，在用于高的熔化功率的高的熔化温度时铅被热还原。这又像白金沾染一样造成玻璃透射性恶化，这可能导致强烈的染色，这使得熔化的玻璃完全无法使用。通过在熔体内引入氧气防止铅还原，从而通过引入氧气达到有效地控制玻璃的氧化还原状态。由此例如对于硅酸铅玻璃甚至可以达到约500kg/天、800kg/天、1000kg/天或更高的熔化效率，并避免或至少减小透射性的明显恶化。
喷嘴伸入熔液内的那一段，也就是例如尖端，最好由无沾染材料，例如轻金属、特别是铝、镁或铍制成，或者至少用这种材料涂覆。也可以用聚四氟乙烯(Teflon)涂覆。
为了在气体喷嘴“冻结”亦即在气体喷嘴上形成固体物质层或玻璃层之后打开它或使它重新露出，气体喷嘴最好包括一用来刺破固体物质层或渣壳层的装置。这种刺破装置特别是做成由例如耐高温材料，如钨等等金属制成的针。针最好设置在气体喷嘴中心，尤其是可纵向移动。
附图的简要说明下面借助于优选的实施例并参照附图对本发明作较详细的说明，其中相同的图形标记表示相同或相似的元件。
图1按本发明的带一气体喷嘴的装置的第一种实施形式的示意剖视图，
图2向上方向按本发明第一种实施形式的坩埚底部的局部示意俯视图，图3沿图2中A-A剖分线的坩埚底部局部示意剖视图，图4按本发明第一种实施形式的气体喷嘴上段的示意剖视图，图5按本发明第一种实施形式的气体喷嘴的纵剖视，图6沿图5中B-B剖分线的气体喷嘴横截面，图7本发明第二种实施形式的示意剖视图，图8本发明第三种实施形式的示意剖视图，图9本发明第四种实施形式的示意剖视图，图10按本发明第五种实施形式的自溶解搅拌器的示意透视图，图11本发明的带一净化槽和一均化池的第一种实施形式的示意剖视图。
具体实施例方式
图1表示一按本发明的带一得到冷却的，例如水冷的坩埚或熔化坩埚10的用于熔化玻璃的装置1的第一种实施形式。在坩埚10周围设有一线圈装置30形式的电磁辐射发射装置。借助于线圈装置向例如由硅酸铅玻璃组成的熔体输入高频能量，从而使熔体40被加热。在发射功率为约200kW至300kW或更高的情况下以约250kHz至400kHz的高频工作。熔液温度在1200℃至2000℃的范围内。
坩埚10包括一水冷却的环形壁段12和一水冷却的底面14。壁段12和底面14一起构成坩埚10的受冷却的壁，并包含各自曲回形设置的相互离开一定距离的金属管16，如由图2和3可以清楚地看到的那样。金属管16具有约2cm的横截面，在管16之间有5mm的空隙，使得坩埚壁在坩埚10未装料之前先由液体流过。
通过壁段12和底面14，也就是坩埚壁的冷却在熔体40和坩埚壁的接触区域内形成一由原有类型的材料，亦即在本实施形式中由玻璃组成的封闭固态渣壳层42，由此由坩埚10和固态渣壳层42组成的结构变得液体密封。图1在坩埚的示意图中未画出各根管子16和渣壳层42。
继续参照图1，熔化装置连续运行，定时将配料通过坩埚10顶盖18上基本上位于中心的孔20放入熔体。此外通过坩埚10的输出孔22连续地取出熔液。
一得到冷却的桥板24在输出孔22附近插入熔体40内至少约3cm至5cm深，以便使未熔化或未溶解的组成部分远离输出孔22。
此外，装置1还包括两个燃烧器26、28，它们通过顶盖18上的孔将火焰27、29对准坩埚内的配料或熔体40的表面41。这里燃烧器26用来在装置1起动时，例如在更换坩埚以后，使坩埚内的物质起始熔化，燃烧器28用于在输出口22内对熔体40连续地后续加热。
在坩埚10的底面14上设一气体喷嘴形式的混合或均化装置。气体喷嘴50部分伸入坩埚内，并将气体引入熔体40。
此外气体喷嘴50偏心设置，在本实施例中大致设置在圆形坩埚10的中心和边缘之间的中部、输出口22的相对一侧。这个位置证明是非常有利的，因为它支持由于熔体内的温差总归存在的在高温的芯部43中心处上升的并在边缘处下降的对流54，同时在中心通过孔20放入的配料借助于气泡52远离冷的坩埚壁12。环形对流54有利地促进熔液有效的混合和均化，从而使得熔液内温度平衡和物料均匀分布。
在本实施例中气泡包含氧气，以便同时使硅酸铅玻璃熔体40中的铅氧化。
图2表示一从上方对带有气体喷嘴50的坩埚底面14的示意视图，气体喷嘴设置在坩埚底面14上曲回形分布的金属管16之间的孔15或缺口内。
此外如图3中所示，渣壳层42不仅在坩埚得到冷却的底面14上、而且也在得到冷却的气体喷嘴50上形成。而逸出的气泡52用来使气体喷嘴的孔始终保持畅通。
尽管如此，也可以例如由于气体输入的中断，造成在气体喷嘴50的出口56上结成固体的渣壳层42，而使得不可能再有气体从喷嘴50中喷出。在图4中画出了这种状态。为了重新打通孔56，气体喷嘴包括一针58，它沿箭头59方向可纵向移动地设置在气体喷嘴中心一通道60内。因此用针58的尖端62可以刺穿位于气体出口56上的渣壳层42的部分42a，从而使气体出口56重新畅通。
发明人发现，伸入坩埚10内并至少局部与渣壳层42直接接触的气体喷嘴50的上段51最好由不沾染的或至少少沾染的材料制成。在本发明的意义上基本上不损害或很少损害玻璃质量的材料被认为是少沾染的。这特别是轻金属，例如铝。铝虽然进入熔液内，但是铝离子或铝化合物基本上不对或很少对玻璃的光学特性，特别是透射性产生不利影响。另一方面气体喷嘴50的冷却使气体喷嘴50能经受坩埚10内的高温。
此外，采用具有高熔点例如高于2000℃的金属，特别是钼、铱、钨或钨化合物制造针58证明是有利的。
图5以一纵剖视表示气体喷嘴50。该气体喷嘴包括气体出口56和气体通道60，针58在该气体通道内延伸和移动。针58可借助于一移动装置64平行于通道60在气体喷嘴50被移动。此外气体喷嘴50包括一气体入口66和一用于针58的密封件68。气体喷嘴50的上段51包括铝或含铝的合金，这里气体喷嘴的下段53由黄铜制成。上段和下段51、53通过密封件70相互流体密封。在下段53内有一冷却水入口72和一冷却水出口74，使气体喷嘴可借助于水的流通有效地冷却。
现参看表示喷嘴横截面的图6，图6示出，下段53平行于气体喷嘴50的纵轴L分成两半53a、53b，它们相互电绝缘。
图7表示一按本发明的带一可选择的用来混合和均化熔体40的装置101的第二种实施形式。通过一输送带154将做成球团、裹衣的小丸和/或球156的玻璃原料通过孔20放入熔体40内。玻璃球156包括一外面的边缘区158和一内部的芯部区160。边缘区158主要包括熔体40组成部分的玻璃。芯部区160包括一种在边缘区158熔化时在熔体内释放出气体或气泡的物质。在芯部区160内的物质可以是气体、液体例如水、或固体物质例如盐，它们与高温熔体40共同作用而释放出气泡152。
通过玻璃球156在熔液左部40a的下降和气泡152在熔体40右部40b内的上升，在熔体40内产生或感应一基本上环形的流动。但是也可以如图1中所示，支持一总归存在的对流。
图8表示本发明装置201的第三种实施形式，其中借助于一混合和均化装置250将压成杆状的配料体256放入熔体40内。杆状体256例如是螺旋桨形，并在杆状体256熔化的同时在熔体40内下沉时旋转，这时在熔体40内产生流动过程。
图9表示按本发明的带一搅拌器350的装置301的第四种实施形式，搅拌器通过旋转运动机动地使熔化坩埚10内的熔体40流动。
图10表示一种窄长的搅拌器350’的优选实施形式。搅拌器350’主要由玻璃制成，例如压制，熔体40也由这种玻璃构成。搅拌器350’沿其纵轴352，例如类似于图9中的搅拌器350从上方插入熔体40，并绕其轴线352旋转。搅拌器350’包括三个从其中心伸出的搅拌臂，并通过熔化自行溶解在熔体中。为了保证连续的玻璃输入和搅拌，搅拌器350’相应地从上方连续地输入。
图11表示一按本发明的带一连接在上面的净化槽80和一附加的外接均化装置90的装置1的第一种实施形式。液态玻璃从坩埚10沿箭头82连续地流入净化槽80，并从那里沿箭头84继续引入外接的均化装置90内。外接均化装置90包括一玻璃出口92，以便浇注在例如模具内，和/或将玻璃继续或最终加工成玻璃制品或玻璃陶瓷制品。
通过玻璃在净化槽80内的净化和在外接均化装置90中均化而使玻璃质量进一步改善。但用本发明装置可以达到的玻璃质量已经很高了，净化槽80和/或均化装置不是必需的，因此玻璃熔体40可以直接提供给出口22，以继续或最终加工。
本领域技术人员可以理解，本发明并不仅仅局限于上述实施例，而是可以以多种方式变化，而不脱离本发明的精神。
权利要求
1.用于熔化物质，特别是用于熔化高纯度、侵蚀性的和/或高熔点的玻璃或玻璃陶瓷的装置(1、101、201、301)，包括一坩埚(10)，一用于电磁辐射的发射装置(30)，其中借助于这种辐射可以将能量输入到可装在坩埚(10)内的熔体(40)中，和一混合装置或均化装置(50、150、250、350、350’)，此装置附设于坩埚(10)。
2.按权利要求1的装置(1、101、201、301)，其特征为混合装置或均化装置(50、150、250、350、350’)做成这样，即，进行无沾染或至少是少沾染的混合或均化。
3.按权利要求1或2的装置(1、101、201、301)，其特征为借助于混合装置或均化装置(50、150、250、350、350’)可使熔体(40)按要求进行内部运动。
4.按上述权利要求之任一项的装置(1、101、201、301)，其特征为借助于混合装置或均化装置(50、150、250、350、350’)可在熔体(40)内激起一种规定的流动。
5.按上述权利要求之任一项的装置(1、101、201、301)，其特征为借助于混合装置或均化装置(50、150、250、350’)可将一第一物质(152、156、256)加入熔体(40)内，其中借助于该第一物质(52、156、256)可在熔体(40)内激起一种基本上按规定的运动。
6.按上述权利要求之任一项的装置(1、101、201、301)，其特征为坩埚(10)包括一熔体(40)出口(22)和一特别是得到冷却的桥板(24)，此桥板插入熔体(40)内，其中借助于所述桥板(24)使未熔化的配料成分远离出口(22)。
7.按上述权利要求之任一项的装置(101、201)，其特征为包含一种配料(156、256)，其成分或形状做成这样，即，通过将这种物料(156、256)加入熔体(40)可促使熔体(40)混合或均化。
8.按上述权利要求之任一项的装置(101、201)，其特征为包含一种可加入熔体(40)内的、结成球团和/或裹衣的配料(156、256)。
9.按上述权利要求之任一项的装置(101)，其特征为包含一种可加入熔体(40)内的配料(156)，它在熔化时释放气体或气泡(152)。
10.按上述权利要求之任一项的装置(301)，其特征为此装置包括一搅拌装置(350、350’)，它附设于坩埚(10)。
11.按上述权利要求之任一项的装置(301)，其特征为包括一搅拌器(350’)，它可溶解或熔化在熔体(40)中。
12.按上述权利要求之任一项的装置(1)，其特征为包括一用来将气体或气泡(52)引入熔体(40)内的装置(50)。
13.按上述权利要求之任一项的装置(1)，其特征为包含一个和/或几个气体喷嘴(50)。
14.按权利要求13的装置(1)，其特征为气体喷嘴(50)得到冷却，特别是液体冷却。
15.按权利要求13或14的装置(1)，其特征为气体喷嘴(50)设置在坩埚(10)底面(14)上。
16.按权利要求13、14或15的装置(1)，其特征为气体喷嘴(50)的至少一第一段(51)伸入坩埚(10)内部和/或此第一段(51)包含少沾染材料，特别是轻金属，例如铝。
17.按上述权利要求之任一项的装置(1)，其特征为包括一用来刺破位于坩埚壁(12、14)特别是坩埚底面(14)上的固态渣壳层(42、42a)的装置(58)。
18.按上述权利要求之任一项的装置(1)，其特征为包括一用来刺破位于坩埚壁(12、14)特别是坩埚底面(14)上的固态渣壳层(42、42a)的针(58)，其中所述针(58)包含耐高温材料，特别是钨、钼和/或铱。
19.按权利要求18的装置(1)，其特征为针(58)基本上设置在气体喷嘴(50)的中心。
20.用于熔化物质，特别是用于熔化高纯度的、侵蚀性的和/或高熔点的玻璃或玻璃陶瓷的方法，特别是用于运行按上述权利要求之任一项的装置(1、101、201、301)的方法，此方法包括备好一坩埚(10)，备好一用于电磁辐射的发射装置(30)，特别是冷却坩埚(10)，借助于由发射装置(30)发射的电磁辐射来加热位于坩埚中的熔体，混合或均化坩埚(10)中的熔体(40)。
21.按权利要求20的方法，其特征为熔体(40)的混合或均化无沾染或至少是少沾染地进行。
22.按权利要求20或21的方法，其特征为为了混合或均化，使熔体(40)按要求作内部运动。
23.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为为了混合或均化，以规定方式激发一种在熔体(40)内的流动。
24.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为为了混合或均化，在熔体内加入一第一物质(52、156、256)，其中，此第一物质在熔体(40)内引起或至少激发一种基本上按规定的流动。
25.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为备好一种带一熔体(40)出口(22)和一特别是得到冷却的桥板(24)的坩埚(10)，此桥板插入熔体(40)内，其中借助于所述桥板(24)使未熔化的配料成分远离出口(22)。
26.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为向熔体(40)内加入一种配料(156、256)，其中此配料(156、256)的成分或配料组成部分的形式设计成这样，即，使得配料(156、256)往熔体(40)中的加入促使熔体(40)混合或均化。
27.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为向熔体(40)内加入制成球团的和/或裹衣的配料(156、256)。
28.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为向熔体(40)内加入在熔化时释放出气体或气泡(152)的配料(156)。
29.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为搅拌熔体(40)，使其混合或均化。
30.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为向熔体(40)内加入自溶解的搅拌器(350’)。
31.按上述权利要求之任一项的方法，其特征为为了混合或均化，向熔体内引入气体或气泡(52)。
32.玻璃制品或玻璃陶瓷制品，其借助于或可借助于按上述装置权利要求之任一项的装置(1、101、201、301)或按上述方法权利要求之任一项的方法制造。
全文摘要
本发明涉及一种用于无沾染地熔化高纯度的、侵蚀性的和/或高熔点的玻璃或玻璃陶瓷的装置和方法。为此按照本发明熔体在一坩埚或熔融渣壳坩埚内借助于高频辐射加热，并在熔化坩埚内混合或均化。最好在坩埚底面上设一气体喷嘴，从喷嘴中向熔体内逸出气泡，例如氧气气泡(所谓的氧气气泡)。由此可以在熔融渣壳坩埚内达到意想不到的多重用处。首先，例如从上方以固态形式落入熔体内的未熔化物质通过与熔体的液态成分的剧烈混和迅速熔化；其次，均衡熔体的温度分布；第三，达到不同玻璃成分的均匀分布或充分混和；第四，可以调整玻璃的氧化还原状态。
文档编号C03C3/097GK1555345SQ02818183
公开日2004年12月15日 申请日期2002年9月12日 优先权日2001年10月2日
发明者迈克尔·莱斯特, 迈克尔 莱斯特, 厄恩斯特－沃尔特·舍费尔, 特-沃尔特 舍费尔, 利奥波德·艾西伯格, 德 艾西伯格, 尔 奥姆斯特德, 福尔克尔·奥姆斯特德 申请人:肖特·格拉斯公司, 肖特 格拉斯公司