专利名称：浮抛槽的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，其中承接多个毗连置放的槽底砖，并且其中，在槽底砖的上部构成熔体区。
目前，例如用于建筑物和汽车上的平板玻璃是按照浮法生产。这里，钙氧化钠玻璃在约1100℃下在液态锡槽上浮抛，在其中本身进行成型，并以无尽的玻璃带拉出。在这方面使用的浮抛槽通常具有钢槽，钢槽铺有耐火的槽底砖。在耐火槽底砖上是层厚约40 80mm的液态锡。耐火槽底砖的尺寸例如约300×600×1000mm。因为耐火槽底砖的比重小于液态锡的比重，所以，必须用螺栓将其连接在钢槽底部。
用于钙氧化钠玻璃的通常浮法玻璃的长度约为50 60m，宽度为5 6m。
钢槽必须经常是冷却的。槽底砖的下面必须保持在锡的熔化温度(231.9℃)之下，由此液态锡不会冲蚀底砖并与钢槽接触。
槽底砖在800℃至1050℃的温度下，通过吸收Na2O和霞石(碱爆裂)的形成而受到很强的侵蚀。通过碱爆裂造成剥落和剥落的砖体浮起。浮抛的玻璃不能使用。极端情况下不得不中断生产过程并更换浮抛槽底砖。Na2O来源于熔融玻璃，经过扩散过程通过液态锡而进入耐火槽底砖。液态锡在约1000℃时溶解约3.5ppm的钠和约1.7ppm的氧。
所有含SiO2-的耐火材料，通过在这些材料中含有的硅酸盐玻璃相或熔融相中的扩散，多少都会吸收Na2O。
可以实现轻易改进的是通过槽底砖，它虽然还像以前那样吸收Na2O，但是通过由不渗透的耐火粘土颗粒和“富碱性基质”构成的特殊结构，能够在相当大的程度上补偿因霞石形成引起的体积膨胀。
此外，提出使用铝酸钙砖代替碱敏感的耐火粘土砖。然而它们在工业中不可行。铝酸钙结合的浮抛槽底砖描述于国际玻璃(1194，21-26页；锡槽底砖)中。
下列专利中介绍了槽底砖在浮抛槽底中的使用OS DE 1807732 熔融容器
OS DE 1807731用于制造浇注平板玻璃的槽JP 740 10 132使用熔融金属槽的连续平板玻璃生产......
US 5.007.950 浮法玻璃槽的底部结构FR 2673175 耐火材料砖......
所有公知的陶瓷槽底砖通过在玻璃相上的扩散多少都会吸收Na2O。在含碱玻璃浮抛时“碱爆裂”而因“浮起的小颗粒”对玻璃质量的负影响，在浮抛玻璃下面的刮痕，并中断生产，使更换槽底砖不能避免。
本发明的目的在于，提供一种上述类型的浮抛槽，其中，使槽底砖达到有显著改进的损坏状况。
这一目的由此得以实现，即至少在其靠近熔体区部分槽底砖的面上，至少在部分区域上用非贵金属覆盖。与例如贵重耐火金属(铂，铂合金)不同，非贵金属具有有利的特性，它与锡没有或者只有很小的相互作用，有时还接受溶解在锡中的杂质。因此，非贵金属本身也不会向锡槽中释放杂质。此外，槽底砖这种覆盖，使锡减少侵蚀或者不再出现侵蚀。如果槽底砖上出现可能的剥落，非贵金属层阻止其排放到液态锡中。优选是将钨或者钨合金作为非贵金属使用。这种金属在热和机械上足够稳定，以至于可以在浮法工艺过程中使用。此外，它对温度变化不敏感，并在锡槽的还原环境中(锡中pO210-15-10-30巴)可不使用另外的。
依据本发明一优选的实施方案变体，钨具有≤20ppm的最大O2-含量。特别适用的是，在这方面也有一种材料，其特征是钨由通过氧化钨还原而制造的烧结材料所构成。
为覆盖槽底砖，非贵金属可以在支承层的中间层下面覆盖槽底砖。
浮抛槽的一种可能的实施方案变体的特征在于，在槽底砖上置放一个或多个薄板，它至少是在其朝向熔体区一面具有带非贵金属的涂层，或者这些薄板是由非贵金属构成。这些薄板操作和安装简单。它们可以大面积覆盖槽底砖。此外，它们还可根据材料性质而改变，以便也能覆盖连接在槽底砖上的熔体区的侧壁区域。
优选的方式是，这些薄板具有0.5mm和3mm之间范围内的厚度。规格应在1.5m2和2.5m2之间的范围内。
锡对槽底砖的侵蚀主要是在800℃和1050℃之间的临界温度中出现。因此，本发明特别提出，至少在熔体区中承受800℃和1050℃之间范围内温度的熔体区中的槽底砖用非贵金属覆盖。
为了保护槽底砖之间有危险的冲击区，在毗连置放的槽底砖之间构成的接缝处由非贵金属层覆盖。
下面借助附图中示出的实施例对本发明作详细说明。其中
图1示出浮抛槽的原理图和顶视图，图2示出图1的纵剖面图和图3示出图2一区域的放大详图。
图1示出平板玻璃生产设备的浮抛槽，它以通常方式用于生产钙氧化钠玻璃。浮抛槽具有钢板制成的槽底外壳10。它在熔体入口15和熔体出口16之间构成一熔体区。此外，大量槽底砖11安置在槽底外壳10内。在这方面，槽底砖11是以接合缝11.1毗连紧密放置，如从图3可看到。如从图3还可看到，在槽底砖11的上面置放板12。该板由钨材料制成。这里，板12优选为2平方米大小的正方形。在熔体边缘的区域内，根据需要调整板的尺寸。它这样置放在槽底砖11上，使它覆盖槽底砖11之间的接合缝11.1。
与此相应，板12的接口12.1设置在朝向熔体区的槽底砖11的转向上面的熔体区内。
如从图1可以看出，板12仅设置在部分熔体区内。其中，锡13的温度处于800℃和1050℃(临界温度范围)之间。其他熔体区不必用板12覆盖，因为这里槽底砖11不磨损或仅出现有限的磨损。在图中示出的浮抛槽的情况下，临界温度范围设置在所谓的第二个和第九个槽跨之间。它延伸的长度为“L”。
钨板12防止说明书前言中所描述的“碱爆裂”。因此，防止砖成分从槽底砖11中剥落并通过锡13到达玻璃带14并防止在这里可能造成的损坏。
权利要求
1.一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，外壳内承接多个毗连置放的槽底砖，其中，在槽底砖的上部构成熔体区，其特征在于，至少部分槽底砖(11)在其朝向熔体区的面上，至少在区域内用非贵金属覆盖。
2.按权利要求1所述的浮抛槽，其特征在于，非贵金属由钨或者钨合金构成。
3.按权利要求2所述的浮抛槽，其特征在于，钨具有≤20ppm的最大O2-含量。
4.按权利要求2或3之一所述的浮抛槽，其特征在于，钨由通过氧化钨还原制造的烧结材料所构成。
5.按权利要求1至4之一所述的浮抛槽，其特征在于，非贵金属在支承层的中间层下面覆盖槽底砖(11)。
6.按权利要求1至5之一所述的浮抛槽，其特征在于，在槽底砖(11)上置放一个或多个板，板至少在其朝向熔体区的面上具有非贵金属的涂层，或者这些板由非贵金属组成。
7.按权利要求6所述的浮抛槽，其特征在于，这些板的板厚度在0.5mm与3mm之间。
8.按权利要求5或6所述的浮抛槽，其特征在于，这些板的表面范围在1.5m2和2.5m2之间。
9.按权利要求1至8之一所述的浮抛槽，其特征在于，至少在熔体区中承受800℃和1050℃之间范围内温度的槽底砖(11)用非贵金属覆盖。
10.按权利要求1至9中之一所述的浮抛槽，其特征在于，在毗连置放的槽底砖(11)之间构成的接合缝(11.1)由非贵金属层覆盖。
全文摘要
本发明涉及一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，外壳内承接多个毗连置放的槽底砖，其中，在槽底砖的上部形成熔体区。为了能够使槽底砖形成明显改进的封闭效果，依据本发明，至少部分槽底砖在其朝向熔体区的面上，用非贵金属覆盖。
文档编号C03B18/16GK1446763SQ0312503
公开日2003年10月8日 申请日期2003年3月6日 优先权日2002年3月6日
发明者格哈德·劳滕施拉格, 克劳斯·施耐德, 安德烈亚斯·莫斯坦, 斯蒂芬·梅尔曼 申请人:舱壁玻璃公司