专利名称：镀膜光学元件的制造方法
技术领域：
本发明是关于一种镀膜光学元件的制造方法，特别是关于滤光片的制造方法。
背景技术：
镀膜技术的应用广泛，其可应用于电子(微电子、光电子等)、机械、光学、能源等工业方面。在光学工业中，光学镀膜主要是运用物理或化学的方法在光学元器件表面制作单一或多层光学膜层，利用光学膜层对波长与膜厚相近的入射光所产生的干涉现象，而达到筛选特定频谱的目的。镀膜光学元件的应用已经深入到通信、激光、分析仪器等许多科技领域。
现有技术中，镀膜光学元件的制造方法包括以下步骤提供一玻璃基板100并对其进行清洗，如图1所示；在玻璃基板100上镀光学膜层102，得到镀膜片104，如图2所示；切割及后续加工，得到镀膜光学元件106，如图3所示；清洗镀膜光学元件106。然而，在光学镀膜中，如果玻璃基板100厚度较薄，而光学膜层102厚度较厚时，往往所镀出的镀膜片104存在着较大的应力，镀膜片104的弯曲度也较大。当镀膜片104弯曲度较大时，切割就容易造成镀膜光学元件106崩角或破裂，形成崩角的镀膜光学元件106，如图4所示，从而降低镀膜光学元件106的成品率。
发明内容有鉴于此，有必要提供一种镀膜光学元件的制造方法，该方法可以降低整片镀膜片的弯曲度。
一种镀膜光学元件的制造方法，其包括下列步骤提供一玻璃基板；在玻璃基板上形成浅槽；在玻璃基板具有浅槽的一面上镀光学膜层；沿着浅槽对玻璃基板进行裂片，得到镀膜光学元件。
所述镀膜光学元件的制造方法是先在玻璃基板上形成浅槽，再镀膜。玻璃基板上的浅槽可减少应力，从而降低整片镀膜片的弯曲度。而且，在镀膜后只需要沿着浅槽进行裂片，不必像现有技术中要进行切割，从而可以减少崩角或破裂的情况，进而提高成品率。
图1为现有技术中玻璃基板的侧视图。
图2为现有技术中镀膜片的侧视图。
图3为现有技术中多个镀膜光学元件的侧视图。
图4为现有技术中崩角的单个镀膜光学元件的俯视图。
图5至图9为本发明实施例红外截止滤光片制造方法示意图。
具体实施方式下面将以红外截止滤光片的制造为例，结合附图对本发明作进一步详细说明。
请一起参阅图5至图9，本发明实施例红外截止滤光片的制造方法包括下列步骤步骤一提供一玻璃基板200，如图5所示。
作为可选的步骤，本步骤之后可进一步包括一清洗步骤。常用的清洗方法为紫外线(Ultraviolet，UV)清洗，又称为干式清洗，是利用紫外线将空气中的氧分子转变成为臭氧分子，臭氧分子将玻璃基板上残留的有机物质反应并分解。紫外线清洗大约可以清除厚度为100埃的有机物质。此外，还可以进行湿式清洗，其是加入水、或去离子水等洗剂进行清洗。在此步骤中，还可以将清洗后的玻璃基板200进行烘烤，以便去除玻璃基板200上残留的水份，从而增加玻璃基板200的附着力。
步骤二在玻璃基板200上形成浅槽202。图6及图7分别为具有浅槽202的玻璃基板200的侧视图及俯视图。浅槽202可用切割机(图未示)进行切割形成。浅槽202深度为玻璃基板200厚度的1/10至1/5。浅槽202的方向及间隔依红外截止滤光片208(图9)的形状及尺寸而定。在本实施例中，浅槽202皆与玻璃基板200的一边平行，浅槽202的间隔与红外截止滤光片208的宽度一致。
作为可选的步骤，本步骤之后可进一步包括一湿式清洗步骤，加入水等洗剂进行清洗，除去因切割而产生的碎屑。在此步骤中，还可以将清洗过后的玻璃基板200进行烘烤，以便去除玻璃基板200上残留的水份，从而增加玻璃基板200的附着力。
步骤三在玻璃基板200上镀光学膜层204，如图8所示。
将具有浅槽202的玻璃基板200放入真空镀膜机(图未示)中，镀上光学膜层204，光学膜层204对应于浅槽202的地方形成凹槽205，得到镀膜片206。当然，凹槽205的深度将会随光学膜层204的厚度及镀膜的均匀度而会有所不同。其中，光学膜层204可通过真空蒸镀或真空溅镀的方法获得。玻璃基板200上的浅槽202可减少应力，从而降低整片镀膜片206的弯曲度。
步骤四使用裂片装置(图未示)，沿着浅槽202对玻璃基板200进行裂片，得到多个红外截止滤光片208，如图9所示。
作为可选的步骤，本步骤之后可进一步包括一清洗步骤，加入水等洗剂进行清洗，对红外截止滤光片208进行清洗。在清洗步骤之后，还可以将清洗过后的红外截止滤光片208进行烘烤，以便去除红外截止滤光片208上残留的水份。
本发明是先在玻璃基板上形成浅槽，再镀膜。玻璃基板上的浅槽可减少应力，从而降低整片镀膜片的弯曲度。而且，在镀膜后只需要沿着浅槽对玻璃基板进行裂片，不必像现有技术中要进行切割，从而可以减少崩角或破裂的情况，进而提高成品率。
可以理解地，本发明镀膜光学元件的制造方法不仅限于红外截止滤光片，亦可适用于其它各种镀膜光学元件。
另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围内。
权利要求
1.一种镀膜光学元件的制造方法，其包括下列步骤提供一玻璃基板；在玻璃基板上形成浅槽；在玻璃基板具有浅槽的一面上镀光学膜层；沿着浅槽对玻璃基板进行裂片，得到镀膜光学元件。
2.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述提供玻璃基板步骤之后进一步包括一清洗玻璃基板的步骤。
3.如权利要求2所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述清洗步骤之后进一步包括一烘烤玻璃基板的步骤。
4.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述浅槽的深度为所述玻璃基板厚度的1/10至1/5。
5.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述浅槽是通过切割机切割形成。
6.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述浅槽皆与玻璃基板的一边平行。
7.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述镀膜步骤采用真空蒸镀或真空溅镀的方法。
8.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述裂片步骤通过裂片装置实现。
9.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述裂片步骤之后进一步包括一清洗步骤。
10.如权利要求1所述的镀膜光学元件的制造方法，其中，所述镀膜光学元件为红外截止滤光片或窄带低通滤光片。
全文摘要
一种镀膜光学元件的制造方法，其包括下列步骤提供一玻璃基板；在玻璃基板上形成浅槽；在玻璃基板具有浅槽的一面上镀光学膜层；沿着浅槽对玻璃基板进行裂片，得到镀膜光学元件。
文档编号C03C17/00GK101042444SQ200610060009
公开日2007年9月26日 申请日期2006年3月22日 优先权日2006年3月22日
发明者简士哲 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司