专利名称：无机薄膜及其制备方法
技术领域：
本发明涉及薄膜及其制备方法。
技术背景无机薄膜，因其具有耐高温、化学稳定、耐腐蚀、力学强度高、结构稳定 和易于清洗再生的特点，广泛的应用在食品、饮料、医药卫生、石油化工、生 物技术、环境工程以及新型能源方面，制备无机薄膜的方法很多，最为成功的 方法之一是溶胶-凝胶法制膜，但是现有的溶胶-凝胶法制膜对因在反应过程中 对前驱体浓度、环境湿度和温度、升温制度和保温时间都有严格要求，工艺也 相当的复杂，并且对设备要求很高以及高的成本，严重限制了溶胶-凝胶法的 实际应用。发明内容本发明目的是为了解决现有无机薄膜的制备工艺复杂、设备要求高、成膜 条件苛刻、成本高的问题，而提供无机薄膜及其制备方法。无机薄膜由1摩尔有机化合物单体、1 6摩尔水、0.01 0.1摩尔催化剂、 3 6摩尔溶剂A、为有机化合物单体质量50% 300%的溶剂B和为有机化合 物单体质量5% 200%的有机硅高分子制成；其中溶剂A为甲醇、乙醇、异 丙醇、正丁醇、丙酮中的一种或几种，溶剂B为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁 醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮中的一种或几种。无机薄膜按以下步骤制备 一、按摩尔比将1摩尔的有机化合物单体、l 6摩尔的水、3 10摩尔的溶剂A与0.01 0.1摩尔的催化剂混合，然后在20 60'C的条件下预水解1 6h，再加入为有机化合物单体质量5% 200%的有机 硅高分子和为有机化合物单体质量50% 300%的溶剂B，得有机-无机混杂薄 膜的前驱体溶液；二、采用浸涂的方式，将有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液 均匀涂于玻璃、不锈钢或耐热钢物体表面，然后在温度为500 1200。C的条件 下热处理1 化，即得到有机-无机混杂薄膜；其中步骤一中溶剂A为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、丙酮中的一种或几种；步骤一中溶剂B为甲醇、乙 醇、异丙醇、正丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮中的一种或几种。本发明中所选用的有机硅高分子为工业产品，价格低廉，有效的降低了 薄膜的制备成本。本发明制备薄膜的工艺要求简单，在成膜过程中不要求严格控制温度、湿 度和升温速率。本发明中的有机硅高分子具有一定二维或三维结构可有效的分散成膜过 程中的应力，同时有机硅高分子的活性基团能够与有机化合物单体进行键和， 有利于提高薄膜的强度；此外，有机硅高分子本身聚合度较高，这很大的縮短 了成膜过程中整体上聚合的时间。本发明制备的无机薄膜质地均匀、无裂纹。
具体实施方式
本发明技术方案不局限于以下所列举具体实施方式
，还包括各具体实施方 式间的任意组合。
具体实施方式
一本实施方式无机薄膜由1摩尔有机化合物单体、1 6摩尔水、0.01 0.1摩尔催化剂、3 6摩尔溶剂八、为有机化合物单体质量50% 300%的溶剂B和为有机化合物单体质量5% 200%的有机硅高分子制成；其 中溶剂A为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、丙酮中的一种或几种，溶剂B为 甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮中的一种或几种。本实施方式中溶剂A由一种或一种以上的物质组成，各组分间可以为任 意比例关系。本实施方式中溶剂B由一种或一种以上的物质组成，各组分间 可以为任意比例关系。
具体实施方式
二本实施方式与具体实施方式
一的不同点是有机化合物 单体为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、甲基三甲氧基硅垸、甲基三氯硅烷、二甲基 二氯硅垸、三甲基氯硅烷、甲基三乙氧基硅垸、钛酸四丁酯、钛酸四异丙酯、 异丙醇铝、乙基己酸亚锡、二丁基氧化锡、六正丁基二锡、三丁基氢化锡中的 一种或几种。其它与具体实施方式
一相同。本实施方式中有机化合物单体由一种或一种以上的物质组成，各组分间可 以为任意比例关系。
具体实施方式
三本实施方式与具体实施方式
一的不同点是有机硅高分 子为甲基垸氧基硅油、羟基硅油、甲基硅树脂、苯基硅树脂或甲基-苯基硅树 脂。其它与具体实施方式
一相同。
具体实施方式
四本实施方式与具体实施方式
一的不同点是催化剂为甲 酸、乙酸、丙酸、硫酸、硝酸、盐酸或甲磺酸。其它与具体实施方式
一相同。
具体实施方式
五本实施方式与具体实施方式
一的不同点是无机薄膜由 l摩尔有机化合物单体、2 5摩尔水、0.03 0.08摩尔催化剂、4 5摩尔溶剂 A、为有机化合物单体质量70% 150%的溶剂B和为有机化合物单体质量 20% 120%的有机硅高分子制成。其它与具体实施方式
一相同。
具体实施方式
六本实施方式与具体实施方式
一的不同点是无机薄膜由 1摩尔有机化合物单体、3摩尔水、0.04摩尔催化剂、4.7摩尔溶剂A、为有机 化合物单体质量210°/。的溶剂B和为有机化合物单体质量140%的有机硅高分 子制成。其它与具体实施方式
一相同。
具体实施方式
七本实施方式与具体实施方式
一的不同点是无机薄膜由l摩尔有机化合物单体、4摩尔水、0.05摩尔催化剂、4.5摩尔溶剂A、为有机 化合物单体质量100°/。的溶剂B和为有机化合物单体质量40%的有机硅高分子 制成。其它与具体实施方式
一相同。
具体实施方式
八本实施方式无机薄膜按以下步骤制备 一、按摩尔比将1摩尔的有机化合物单体、1 6摩尔的水、3 10摩尔的溶剂A与0.01 0.1 摩尔的催化剂混合，然后在20 60'C的条件下预水解1 6h，再加入为有机化 合物单体质量5% 200%的有机硅高分子和为有机化合物单体质量；0% 300。/。的溶剂B，得有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液；二、采用浸涂的方式， 将有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液均匀涂于玻璃、不锈钢或耐热钢物体表面， 然后在温度为500 120(TC的条件下热处理1 5h，即得到有机-无机混杂薄膜； 其中步骤一中溶剂A为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、丙酮中的一种或几种； 步骤一中溶剂B为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙 酮中的一种或几种。本实施方式步骤一中加入催化剂的作用是加速水解的速度。 本实施方式中溶剂A由一种或一种以上的物质组成，各组分间可以为任意比例关系。本实施方式中溶剂B由一种或一种以上的物质组成，各组分间 可以为任意比例关系。
具体实施方式
九本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤一中有 机化合物单体为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、甲基三甲氧基硅烷、甲基三氯硅烷、 二甲基二氯硅垸、三甲基氯硅垸、甲基三乙氧基硅烷、钛酸四丁酯、钛酸四异 丙酯、异丙醇铝、四甲氧基硅垸、乙基己酸亚锡、二丁基氧化锡、六正丁基二 锡、三丁基氢化锡中的一种或几种。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。本实施方式中有机化合物单体由一种或一种以上的物质组成，各组分间可 以为任意比例关系。
具体实施方式
十本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤一中有 机硅高分子为甲基烷氧基硅油、羟基硅油、甲基硅树脂、苯基硅树脂或甲基-苯基硅树脂。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
十一本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤一中 按摩尔比将l摩尔的有机化合物单体、2 5摩尔的水、4 5摩尔的溶剂A与 0.03 0.08摩尔的催化剂混合。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
十二本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤一中 按摩尔比将1摩尔的有机化合物单体、7摩尔的水、4.5摩尔的溶剂A与0.05 摩尔的催化剂混合。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
十三本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤一中在30 50。C的条件下预水解2 5h。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
十四本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤一中在4(TC的条件下预水解4h。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
十五本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤二中在温度为600 100(TC的条件下热处理2 4h。其它步骤及参数与具体实施方 式八相同。
具体实施方式
十六本实施方式与具体实施方式
八的不同点是步骤二中在温度为800。C的条件下热处理3h。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
十七本实施方式制备无机薄膜的方法按以下步骤实现 一、按摩尔比将l摩尔的正硅酸乙酯、5摩尔的水、4摩尔的乙醇与0.01摩尔的甲酸混合后在6(TC的条件下预水解lh，然后加入为正硅酸乙酯质量20%的 甲基-苯基硅树脂和为有机化合物单体质量50%的正丁醇，得有机-无机混杂薄 膜的前驱体溶液；二、采用浸涂方式在提拉速度4mm/s的条件下，将有机-无 机混杂薄膜的前驱体溶液均匀涂于玻璃或不锈钢物体表面，然后在温度为 60(TC的条件下热处理lh，即得到无机薄膜。经观测，所得到的无机薄膜质地均匀、无裂纹。
具体实施方式
十八本实施方式制备无机薄膜的方法按以下步骤实现一、 按摩尔比将l摩尔的正硅酸乙酯、4摩尔的水、4摩尔的乙醇与0.01摩尔的甲 酸混合后在60'C的条件下预水解lh，然后加入为正硅酸乙酯质量10%的甲基-苯基硅树脂和为有机化合物单体质量50%的正丁醇，得有机-无机混杂薄膜的 前驱体溶液；二、采用浸涂方式在提拉速度4mm/s的条件下，将有机-无机混 杂薄膜的前驱体溶液均匀涂于耐热钢物体表面，然后在温度为60(TC的条件下 热处理lh，即得到无机薄膜。经观测，所得到的无机薄膜质地均匀、无裂纹。
具体实施方式
十九本实施方式与具体实施方式
八的不同点是溶剂A 由等摩尔的异丙醇和正丁醇组成。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
二十本实施方式与具体实施方式
八的不同点是溶剂A按体积份数比由1份的丙酮和4份的正丁醇组成。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
二十一本实施方式与具体实施方式
八的不同点是溶剂B 由等体积的甲醇和乙酸丁酯组成。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
具体实施方式
二十二本实施方式与具体实施方式
八的不同点是溶剂B按重量份数比由5份的甲醇、2份的正丁醇和3份的乙酸丁酯组成。其它步骤及参数与具体实施方式
八相同。
权利要求
1、无机薄膜，其特征在于无机薄膜由1摩尔有机化合物单体、1～6摩尔水、0.01～0.1摩尔催化剂、3～10摩尔溶剂A、为有机化合物单体质量50％～300％的溶剂B和为有机化合物单体质量5％～200％的有机硅高分子制成；其中溶剂A为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、丙酮中的一种或几种，溶剂B为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮中的一种或几种。
2、 根据权利要求1所述的无机薄膜，其特征在于有机化合物单体为正硅 酸乙酯、正硅酸甲酯、甲基三甲氧基硅烷、甲基三氯硅垸、二甲基二氯硅烷、 三甲基氯硅烷、甲基三乙氧基硅垸、钛酸四丁酯、钛酸四异丙酯、异丙醇铝、 乙基己酸亚锡、二丁基氧化锡、六正丁基二锡、三丁基氢化锡中的一种或几种。
3、 根据权利要求1所述的无机薄膜，其特征在于有机硅高分子为甲基垸 氧基硅油、羟基硅油、甲基硅树脂、苯基硅树脂或甲基-苯基硅树脂。
4、 根据权利要求1所述的无机薄膜，其特征在于催化剂为甲酸、乙酸、 丙酸、硫酸、硝酸、盐酸或甲磺酸。
5、 制备权利要求1所述无机薄膜的方法，其特征在于无机薄膜按以下步 骤制备 一、按摩尔比将1摩尔的有机化合物单体、1 6摩尔的水、3 10 摩尔的溶剂A与0.01 0.1摩尔的催化剂混合，然后在20 6(TC的条件下预水 解1 6h，再加入为有机化合物单体质量5% 200%的有机硅高分子和为有机 化合物单体质量50% 300%的溶剂B，得有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液； 二、采用浸涂的方式，将有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液均匀涂于玻璃、不 锈钢或耐热钢物体表面，然后在温度为500 120(TC的条件下热处理1 5h， 即得到有机-无机混杂薄膜；其中步骤一屮溶剂A为甲醇、乙醇、异丙醇、正 丁醇、丙酮中的一种或几种；步骤一中溶剂B为甲醇、乙醇、异丙醇、正丁 醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮中的一种或几种。
6、 根据权利要求5所述的制备无机薄膜的方法，其特征在于步骤一中有 机化合物单体为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、甲基三甲氧基硅烷、甲基三氯硅烷、 二甲基二氯硅垸、三甲基氯硅垸、甲基三乙氧基硅烷、钛酸四丁酯、钛酸四异 丙酯、异丙醇铝、乙基己酸亚锡、二丁基氧化锡、六正丁基二锡、三丁基氢化 锡中的一种或几种。
7、 根据权利要求5所述的制备无机薄膜的方法，其特征在于步骤一中有 机硅高分子为甲基烷氧基硅油、羟基硅油、甲基硅树脂、苯基硅树脂或甲基-苯基硅树月旨。
8、 根据权利要求5所述的制备有机-无机混杂薄膜的方法，其特征在于步 骤一中催化剂为甲酸、乙酸、丙酸、硫酸、硝酸、盐酸或甲磺酸。
全文摘要
无机薄膜及其制备方法，它涉及薄膜及其制备方法。它解决了现有无机薄膜的制备工艺复杂、设备要求高、成膜条件苛刻、成本高、产品易开裂、易脱落的问题。无机薄膜由有机化合物单体、水、催化剂、溶剂A、溶剂B和有机硅高分子制成。制备方法制备有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液，采用喷涂、浸涂或刷涂的方式将该溶液涂于物体表面，经热处理即得到无机薄膜。本发明得到的薄膜制备方法简单易行、成膜条件容易、对设备要求简单、成本低廉，可广泛的应用于金属表面的抗氧化薄膜，负载催化剂的多孔膜，具有发光特性的发光薄膜，抗磨擦膜、多孔过滤膜、传感器结构膜的使用。
文档编号C03C17/22GK101333076SQ20081013685
公开日2008年12月31日 申请日期2008年7月31日 优先权日2008年7月31日
发明者王黎东, 赫晓东, 骁 赵 申请人:哈尔滨工业大学