专利名称：光学玻璃、光学元件和预成型坯的制作方法
技术领域：
本发明涉及光学玻璃、光学元件和预成型坯。
背景技术：
光学仪器的透镜体系通常是将具有不同光学性质的多个玻璃透镜组合而设计。近年来光学仪器的透镜体系所要求的特性多样化，而为了进一步拓展其设计的自由度，正在开发具备以往未受到瞩目的光学特性的光学玻璃。其中，反常色散性(△ 9g，F)为特征的光学玻璃作为对色差的色调补偿具有显著效果的光学玻璃而受到瞩目。例如专利文献1 3中，提出了除了以往所必须的高折射率和低色散性以及加工性优异的性质以外，作为反常色散性高的光学玻璃，例如阳离子成分含有P5+、Al3+、碱土金属离子等、阴离子成分含有F—和02_的光学玻璃。现有技术文献专利文献1 日本特开2007-55883号公报专利文献2 日本特开2008-137877号公报专利文献3 国际公开第2008/111439号小册子
发明内容
发明要解决的问题然而，专利文献1 3所记载的那样的以往的光学玻璃反常色散性程度不充分，期望开发具备更高的反常色散性的光学玻璃。本发明的目的是解决这样的课题。即本发明的目的在于，提供一种通过反常色散性更高，从而可高精度地补偿玻璃透镜的色差，进而具备高折射率、低色散性(高阿贝数)，而且与以往的光学玻璃比具有同等以上的磨耗度低、易进行研磨加工的光学玻璃、光学元件和预成型坯。用于解决问题的方案本发明人等为解决上述课题进行了进行研究，并完成了本发明。本发明为以下的⑴ (10)。(1) 一种光学玻璃，其中，作为阳离子成分含有P、A1、碱土金属、Zn、以及选自由Y、 La、Gd、Yb和Lu组成的组中的至少一种，作为阴离子成分含有F和0，部分色散比(θ g，F) 为0. 535以上，折射率(nd)为1. 44以上。(2)根据上述⑴所述的光学玻璃，其中，Y3+、La3+、Gd3+、％3+和Lu3+的总含有率以阳离子％表示，超过1. 且不足13. 1%。(3)根据上述(1)或(2)所述的光学玻璃，其中，折射率(nd)为1. 55以上，阿贝数 (vd)为55以上。(4)根据上述⑴ (3)任一项所述的光学玻璃，其中，磨耗度为500以下。(5)根据上述(1) ⑷任一项所述的光学玻璃，其中，以阳离子％表示，P5+的含有率为25. 0 50. 0%、和/或、Al3+的含有率为5. 0 15. 0%、和/或、碱土金属的含有率为30. 0 70. 0%、和/或、Si2+的含有率超过0%且为7. 0%以下。(6)根据上述⑴ (5)任一项所述的光学玻璃，其中，F—的含有率以阴离子％表示为 15. 0 40. 0%。(7) 一种光学元件，其由上述(1) (6)任一项所述的光学玻璃构成。(8) 一种研磨加工用和/或精密压制成形用预成型坯，其由上述(1) (6)任一项所述的光学玻璃构成。(9) 一种光学元件，其为将上述(8)所述的预成型坯研磨而成。(10) 一种光学元件，其为将上述(8)所述的预成型坯精密压制而成。发明的效果根据本发明，可提供一种通过反常色散性更高而可高精度地补偿玻璃透镜的色差，进而具备高折射率、低色散性(高阿贝数)，而且，与以往的光学玻璃比具有同等以上的磨耗度低、易进行研磨加工的光学玻璃、光学元件和预成型坯。
图1是表示部分色散比(θ g，F)为纵轴、阿贝数(ν d)为横轴的垂直坐标所示的基准线的图。
具体实施例方式对本发明进行说明。本发明的光学玻璃，其为作为阳离子成分含有P、Al、碱土金属、Zn、以及选自由Y、 La、Gd、Yb和Lu组成的组中的至少一种，作为阴离子成分含有F和0，部分色散比(θ g，F) 为0. 535以上，折射率(nd)为1. 44以上。将这种光学玻璃以下称为“本发明的光学玻璃”。 本发明的光学玻璃含有Si (优选特定量)是其特征之一。本发明人发现，通过在含有P、A1、碱土金属、以及选自由Y、La、Gd、％和Lu组成的组中的至少一种、F和ο那样的特定元素(优选特定量)的体系内，使其进一步含有ai(优选特定量)，并且使部分色散比和折射率为特定值以上，与以往的光学玻璃比较反常色散性 (Δ 0g,F)高且可高精度地补偿玻璃透镜的色差，进而可得到具备高折射率、低色散性(高阿贝数)，而且与以往的光学玻璃比具有同等以上的磨耗度低、易进行研磨加工的光学玻璃，并完成了本发明。<玻璃成分>对构成本发明的光学玻璃的各成分进行说明。在本说明书中，各成分的含有率没有特别限制时，全部以基于摩尔比的阳离子％ 或阴离子％表示。此处，“阳离子％”和“阴离子％”是指将本发明的光学玻璃的玻璃构成成分分离为阳离子成分和阴离子成分，且各自以总比例作为100摩尔％，表记玻璃中所含的各成分的组成。[关于阳离子成分]<P5+>
本发明的光学玻璃含有P5+。P5+是玻璃形成成分，具有抑制玻璃的失透、提高折射率、抑制阿贝数降低的性质。由于这样的性质增强，所以P5+的含有率优选为25. 0 50. 0%。另外，更优选为沈.0%以上，进一步优选为观.0%以上。另外，更优选48. 0%以下，进一步优选47. 0%以下。P5+ 可以使用例如 Al (PO3) 3、Ca (PO3) 2、Ba (PO3)2^Zn (PO3) 2、BPO4、H3PO4 等作为原料包含在玻璃内。<Α13+>本发明的光学玻璃含有Al3+。Al3+具有提高玻璃的耐失透性、折射率和阿贝数、降低磨耗度、进而提高加工性的性质。由于这样的性质的增强，所以Al3+的含有率优选为5. 0 15. 0%。另外，更优选为 6.0%以上，进一步优选为7.0%以上。另外，更优选13.0%以下，进一步优选12.0%以下。Al3+可以使用例如Al (PO3) 3、A1F3、Al2O3等作为原料包含在玻璃内。<碱土金属>本发明的光学玻璃含有碱土金属中的至少一种。碱土金属是指Mg2+、Ca2+、Sr2+和 Ba2+。碱土金属的含有率是指这4种离子的总含有率。碱土金属的含有率优选为30.0 70.0%。因为为这样的范围的含有率时，可得到稳定的玻璃。碱土金属的含有率更优选为35.0%以上，进一步优选为38.0%以上。另外，更优选为65.0%以下，进一步优选60.0%以下。<Mg2+>本发明的光学玻璃具有含有作为碱土金属之一的Mg2+的情形。Mg2+具有提高玻璃的耐失透性、降低磨耗度的性质。由于这样的性质增强，Mg2+的含有率优选为1.0 20.0%。另外，更优选3.0%以上，进一步优选为5.0%以上。另外，更优选为17.0%以下，进一步优选为15.0%以下。Mg2+可以使用例如MgO、MgF2等作为原料包含在玻璃内。<Ca2+>本发明的光学玻璃具有含有作为碱土金属之一的Ca2+的情形。Ca2+具有提高玻璃的耐失透性、抑制折射率降低、降低磨耗度的性质。由于这样的性质增强，所以Ca2+的含有率优选为0% 20. 0%。另外，更优选为 2.0%以上，进一步优选为3.0%以上。另外，更优选为19.0%以下，进一步优选为18.0%以下。Ca2+可以使用例如Ca (PO3) 2、CaCO3> CaF2等作为原料包含在玻璃内。<Sr2+>本发明的光学玻璃具有含有作为碱土金属之一的Sr2+的情形。Sr2+具有提高玻璃的耐失透性、抑制折射率降低的性质。由于这样的性质增强，所以Sr2+的含有率优选为0% 20. 0%。另外，更优选为 10.0%以下，进一步优选为5.0%以下。Sr2+可以使用例如Sr (NO3) 2、SrF2等作为原料包含在玻璃内。
<Ba2+>本发明的光学玻璃具有含有作为碱土金属之一的Ba2+的情形。Ba2+具有含有规定量时提高玻璃的耐失透性的性质。另外，具有维持低色散性、提高折射率的性质。由于这样的性质增强，所以Ba2+的含有率优选为15. 0 % 40. 0 %。另外，更优选为 16. 0%以上，进一步优选为17. 0%以上。另外，更优选为38. 0%以下，进一步优选为37. 0% 以下。Ba2+可以使用例如Ba (PO3) 2、BaCO3、Ba (NO3) 2、BaF2等作为原料包含在玻璃内。<Zn2+>本发明的光学玻璃含有Si2+。Zn2+具有抑制磨耗度、提高折射率的性质。由于这样的性质增强，所以Zn2+的含有率优选为超过0%且为7. 0%以下。另外， 优选为0. 5%以上，更优选为1. 0%以上，进一步优选为2. 0%以上。另外，优选为6. 5%以下，更优选为6.0%以下，进一步优选为5. 5%以下。Zn2+可以使用例如Si (PO3) 2、SiO、SiF2等作为原料包含在玻璃内。〈Y3+、La3+、Gd3+、Yb3+ 和 Lu3+〉本发明的光学玻璃含有选自由Y3+、La3+、Gd3+、Yb3+和Lu3+组成的组中的至少一种。 这些成分具有提高玻璃的折射率、赋予低色散的性质。由于这样的性质增强、Y3+、La3+、Gd3+、和Lu3+的总含有率优选为超过1. 且不足13. 1%。另外，该总含有率更优选为1.5%以上，进一步优选为2.0%以上。另外，优选为9. 0%以下，更优选为8. 0%以下，进一步优选为7. 0%以下。<Y3+>本发明的光学玻璃具有含有Y3+的情形。Y3+具有不仅提高玻璃的折射率，而且难以降低玻璃的反常色散性、抑制玻璃化转变点(Tg)的升高、且提高耐失透性的性质。由于这样的性质增强，所以Y3+的含有率更优选为1. 5%以上，进一步优选为2. 0% 以上。另外，优选为9. 0%以下，更优选为8. 0%以下，进一步优选为7. 0%以下。Y3+可以使用例如&03、YF3等作为原料包含在玻璃内。<La3+>本发明的光学玻璃具有含有La3+的情形。La3+具有不仅提高玻璃的折射率，而且难以降低反常色散性的性质。由于这样的性质增强，所以La3+的含有率更优选为1.5%以上，进一步优选为 2. 0%以上。另外，优选为9. 0%以下，更优选为8. 0%以下，进一步优选为7. 0%以下。La3+可以使用例如L 03、LaF3等作为原料含有在玻璃内。<Gd3+>本发明的光学玻璃具有含有Gd3+的情形。Gd3+具有不仅提高玻璃的折射率、而且难以降低反常色散性，进而提高耐失透性的性质。由于这样的性质增强，所以Gd3+的含有率更优选1. 5%以上，进一步优选为2. 0% 以上。另外，优选为9.0%以下，更优选为8.0%以下，进一步优选为7.0%以下。Gd3+可以使用例如Gd203、GdF3等作为原料含有在玻璃内。<Yb3+>本发明的光学玻璃具有含有的情形。具有不仅提高玻璃折射率、而且难以降低反常色散性、进而提高耐失透性的性质。由于这样的性质增强，所以的含有率更优选为1.5%以上，进一步优选为 2. 0%以上。另外，优选为9. 0%以下，更优选为8. 0%以下，进一步优选为7. 0%以下。可以使用例如Yb2O3等作为原料包含在玻璃内。<Lu3+>本发明的光学玻璃具有含有Lu3+的情形。Lu3+具有不仅提高玻璃折射率、而且难以降低反常色散性、进而提高耐失透性的性质。由于这样的性质增强，所以Lu3+的含有率更优选为1.5%以上，进一步优选为 2. 0%以上。另外，优选为9. 0%以下，更优选为8. 0%以下，进一步优选为7. 0%以下。Lu3+使用例如Lu2O3等作为原料包含在玻璃内。<Si4+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Si4+。Si4+在含有规定量时具有提高玻璃的耐失透性、提高折射率，而且降低磨耗度且提高加工性的性质。由于这样的性质增强，所以Si4+的含有率优选为10. 0%以下、更优选8. 0%以下， 进一步优选5.0%以下。Si4+可以使用例如Si02、K2SiF6、Na2SiF6等作为原料包含在玻璃内。<B3+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的B3+。B3+在含有规定量时具有提高玻璃的耐失透性、提高玻璃的折射率、而且降低玻璃的磨耗度且提高加工性、进而难以恶化玻璃的化学耐久性、降低玻璃波筋的形成的性质。由于这样的性质增强，所以B3+的含有率优选为10.0%以下，更优选8.0%以下，进一步优选5.0%以下。B3+可以使用例如H3B03、Na2B4O7, BPO4等作为原料包含在玻璃内。<Li+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Li+。Li+具有维持玻璃形成时的耐失透性，而且降低玻璃化转变点(Tg)的性质。由于这样的性质增强，所以Li+的含有率优选为20. 0%以下、更优选为15. 0%以下，进一步优选为10.0%以下。Li+可以使用例如Li2C03、LiN03、LiF等作为原料包含在玻璃内。<Na+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Na+。Na+具有维持玻璃形成时的耐失透性、而且降低玻璃化转变点(Tg)的性质。由于这样的性质增强，所以Na+的含有率优选为10.0%以下，更优选为8.0%以下，进一步优选为5.0%以下。Na+可以使用例如Na2C03、NaNO3> NaF, Na2SiF6等作为原料包含在玻璃内。<K+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的K+。K+具有维持玻璃形成时的耐失透性、而且降低玻璃化转变点(Tg)的性质。由于这样的性质增强，所以K+的含有率优选为10. 0%以下，更优选为8. 0%以下，进一步优选5.0%以下。K+可以使用例如K2C03、KNO3> KF、KHF2, K2SiF6等作为原料包含在玻璃内。<Rn+>本发明的光学玻璃中，选自Li+、Na+和K+组成的组中的至少一种)的总含有率优选为20.0%以下，更优选为15.0%以下，进一步优选为10.0%，。<Nb5+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Nb5+。Nb5+具有提高玻璃的折射率、 提高化学耐久性、进而抑制阿贝数降低、抑制熔融温度升高的性质。由于这样的性质增强，所以Nb5+的含有率优选为10. 0%以下，更优选8. 0%以下， 进一步优选5.0%以下。Nb5+可以使用例如Nb2O5等作为原料包含在玻璃内。<Ti4+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Ti4+。Ti4+具有提高玻璃的折射率、 降低着色的性质。由于这样的性质增强，所以Ti4+的含有率优选为10.0%以下、更优选8.0%以下， 进一步优选5.0%以下。Ti4+可以使用例如TiA等作为原料包含在玻璃内。<Zr4+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的&4+。&4+具有提高玻璃的折射率、 提高玻璃的机械强度的性质。由于这样的性质增强，所以W的含有率优选为10. 0%以下，更优选为8. 0%以下，进一步优选为5.0%以下。可以使用例如&02、ZrF4等作为原料包含在玻璃内。<Ta5+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Ta5+。Ta5+具有提高玻璃的折射率的性质。由于这样的性质增强，所以Ta5+的含有率优选为10. 0%以下、更优选为8. 0%以下，进一步优选为5.0%以下。Ta5+可以使用例如Tii2O5等作为原料包含在玻璃内。<ff6+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的W6+。W6+具有提高玻璃的折射率、进而抑制阿贝数的降低的性质。由于这样的性质增强，所以W6+的含有率优选为10.0%以下，更优选8.0%以下，进一步优选5.0%以下。W6+可以使用例如WO3等作为原料包含在玻璃内。<Ge4+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Ge4+。Ge4+具有提高玻璃的折射率、 提高玻璃的耐失透性的性质。由于这样的性质变得明显，所以Ge4+的含有率优选为10.0%以下，更优选为8.0%以下，进一步优选为5.0%以下。Ge4+可以使用例如GeA等作为原料包含在玻璃内。<Bi3+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Bi3+。Bi3+具有提高玻璃的折射率、 降低玻璃化转变点的性质。由于这样的性质增强。所以Bi3+的含有率优选为10.0%以下，更优选8.0%以下， 进一步优选为5.0%以下。Bi3+可以使用例如Bi2O3等作为原料包含在玻璃内。<Te4+>本发明的光学玻璃还可以含有作为任意成分的Te4+。Te4+具有可提高玻璃的折射率、难以失透、抑制着色的性质。由于这样的性质增强，所以Te4+的含有率优选为15.0%以下、更优选为10.0%以下、更优选为8.0%以下、进一步优选为5.0%以下。Te4+可以使用例如TeA等作为原料包含在玻璃内。[关于阴离子成分]〈F)本发明的光学玻璃含有F—。F—具有提高玻璃的反常色散性和阿贝数、进而难以使玻璃失透的性质。由于这样的性质增强，所以F_的含有率以阴离子％表示优选为15.0 40.0%。另外，更优选为18.0%以上，进一步优选为20.0%以上。另外，更优选为35.0%以下，进一步优选为33.0%以下。F—可以使用例如AlF3、MgF2、BaF2等各种阳离子成分的氟化物作为原料包含在玻璃内。<02)本发明的光学玻璃含有02_。02_是对于具有抑制玻璃的磨耗度上升的性质、以及形成网状结构所必需的成分。02_的含有率与F—的含有率的总和以阴离子％表示优选为98. 0%以上，更优选为 99.0%以上，进一步优选为100%。是可以得到稳定的玻璃的原因。02_可以使用例如A1203、MgO、BaO等各种阳离子成分的氧化物、Al (PO) 3、Mg (PO) 2、 Ba(PO)2等各种阳离子成分的磷酸盐等作为原料包含在玻璃内。[关于不应该含有的成分]下面对本发明的光学玻璃中不应该含有的成分、和不优选含有的成分进行说明。本发明的光学玻璃中，在不损害本申请发明的玻璃的特性的范围内可根据需要添加其他的成分。另外，除了 Ti、Zr、Nb、W、La、Gd、Y、％、Lu以外，即使单独或复合少量分别含有V、 Cr、Mn、Fe、C0、Ni、Cu、Ag和Mo等过渡金属阳离子时，由于具有玻璃着色、可见区域特定的波长产生吸收的性质，所以特别是在使用可见区域的波长的光学玻璃中优选基本上不含有。进而，Pb、Th、Cd、Tl、Os、Be和％阳离子有近年来作为有害化学物质控制使用的倾向，不仅在玻璃制造工序，以至在加工工序、和产品化后的处理中需要采取环境对策上的措施。因此，在重视环境上的影响时，除了不可避免的混入，优选基本上不含有它们。由此， 光学玻璃中不含有污染环境的物质。因此，即便不采取特别的环境对策上的措施，也可以制造、加工、废弃该光学玻璃。[制造方法]本发明的光学玻璃的制造方法没有特别限定。例如，可通过将上述原料按照各成分在规定的含有率的范围内进行均勻混合，将制备的混合物投入到石英坩埚或氧化铝坩埚或钼坩埚中进行粗熔融后，放入到钼坩埚、钼合金坩埚或铱坩埚中，在900 1200°C温度范围熔融2 10小时，搅拌均勻化，进行消泡后，降低到850°C以下的温度，然后进行精加工搅拌除去波筋，浇注到模具中缓慢冷却从而制造。[物性]本发明的光学玻璃以部分色散比(θ g，F)为特征。因此，容易得到可高精度补偿色差的光学玻璃。部分色散比(θ g，F)为0. 535以上，优选为0. 538以上，更优选0. 540以上，进一步优选0. 542以上。予以说明，部分色散比(θ g，F)是指根据日本光学硝子工业会标准J0GIS01-2003 测定得到的值。另外，本发明所说的部分色散比是指短波长区域中的部分色散比。本发明的光学玻璃的反常色散性(Δ θ g，F)高。因此，容易得到可高精度补偿色差的透镜。反常色散性(Δ 0g，F)优选0.006以上，更优选0.008以上，更优选0.010以上、 更优选0.011以上，更优选0.012以上，进一步优选0.013以上。这里，对部分色散比(0g，F)和反常色散性(Δ 0g,F)进行说明，然后，更详细说明本发明的光学玻璃的物性中的特征。首先，对部分色散比(θ g，F)进行说明。部分色散比(θ g，F)是在折射率的波长依赖性中，表示某2个波长区域的折射率之差的比例、以下式(1)表示。θ g，F = (ng-nF) / (nF-nc)......式(1)这里，ng是g射线(435. 83nm)的折射率、nF是F射线(486. 13nm)的折射率、ne是 C射线(656. 27nm)的折射率。并且，该部分色散比(9g，F)与阿贝数(vd)的关系在XY图表上作图时，通常的光学玻璃的情况是几乎在被称为基准线的直线上作图。基准线是指采用部分色散比(9g， F)为纵轴，阿贝数(ν d)为横轴的XY图表上(垂直坐标上)，连接将NSL7与PBM2的部分色散比和阿贝数作图的2点且向右上升的直线(参照图1)。作为基准线的基准的标准玻璃根据每个光学玻璃制造商的不同而不同，但各公司都是以几乎相等的斜率和截距进行定义的(NSL7与PBM2是株式会社小原制的光学玻璃，NSL7的阿贝数(ν d)为60. 5、部分色散比 (θ g，F)为 0. 5436、PBM2 的阿贝数(Vd)为 36. 3，部分色散比(θ g，F)为 0. 5828)。对于这样的部分色散比(θ g，F)，反常色散性(Δ 0g,F)是表示部分色散比(0g， F)与阿贝数(vd)作图在距离基准线的纵轴方向偏离怎样的程度。由反常色散性(△ 9g， F)大的玻璃构成的光学元件在蓝色附近的波长范围，具有可以补偿由其他的透镜所产生的色差的性质。另外，在中低色散区域(阿贝数为55左右以上的区域)，以往有阿贝数(vd)越大，反常色散性(Δ θ g，F)越大的倾向。进而，有磨耗度为500以下，且难以将反常色散性维持在高位的倾向。本发明人精心进行研究，成功地开发出了相对于阿贝数(vd)的反常色散性 (Δ 0g,F)的值与以往的光学玻璃比较更高的光学玻璃。例如，为后面实施例所示的更优选方式的光学玻璃时，可以得到阿贝数(vd)为 65 73左右时，部分色散比(θ g，F)为0. 545以上(进一步优选方式时为0. 550以上)， 反常色散性(Δ 0g，F)也为0.010以上(进一步优选方式时为0.015以上)的光学玻璃。 这样的部分色散比(9g，F)和反常色散性(Δ 0g,F)的值与具有同程度的阿贝数(vd)的以往的光学玻璃比较，为明显的高值。本发明的光学玻璃不仅具有高的折射率(nd)，而且具有低的色散(高阿贝数)。折射率(nd)为1. 44以上，优选为1. 55以上，更优选为1. 58以上，进一步优选为 1. 59以上。阿贝数(vd)优选为55以上，更优选为60以上，更优选为63以上，进一步优选为 66以上。本发明的光学玻璃由于具备这样的折射率(nd)和阿贝数(vd)，所以光学设计自由度大，进而即便谋求元件的薄型化也可以得到大的光学折射量。予以说明，折射率(nd)和阿贝数(vd)是指根据日本光学硝子工业会标准 J0GIS01-2003测定得到的值。本发明的光学玻璃磨耗度低。因此，可降低光学玻璃需要以上的磨耗或受损，容易进行对光学玻璃的研磨加工中的处理，容易进行研磨加工。磨耗度优选为500以下，更优选为490以下，更优选为480以下，更优选为470以下，更优选为460以下，进一步优选为450以下。另一方面，磨耗度过低时反而有研磨加工变困难的倾向。因此，磨耗度优选为80 以上，更优选为100以上，进一步优选为120以上。予以说明，磨耗度是指基于“J0GIS10-1994光学玻璃的磨耗度的测定方法”测定得到的值。[预成型坯和光学元件]本发明的光学玻璃在各种光学元件和光学设计上是有用的，其中，尤其优选由本发明的光学玻璃形成预成型坯，并对该预成型坯采用研磨加工或精密压制成形等手段，制作透镜、棱镜、镜子等光学元件。由此，在用于照相机、投影仪等那样的使可见光透过光学元件的光学仪器时，可实现高精细且高精度的成像特性，而且可谋求这些光学仪器中的光学体系的小型化。这里，制造预成型坯材的方法没有特别限定，可采用例如由日本特开平 8-319124所述的玻璃料滴的成形方法、日本特开平8-732 所述的光学玻璃的制造方法和制造装置那样的由熔融玻璃制造直接预成型坯材的方法，另外，也可以采用对由光学玻璃形成的带材进行研削研磨等冷加工来制造的方法。
实施例
本发明的实施例(No. 1 No. 16)的玻璃组成、折射率(nd)、阿贝数(ν d)、部分色散比(θ g，F)、反常色散性(Δ θ g，F)、和磨耗度示于表1中。本发明的实施例(No. 1 No. 16)的光学玻璃，均选择各自相当的氧化物、碳酸盐、 硝酸盐、氟化物、偏磷酸化合物等通常的氟磷酸盐玻璃所使用的高纯度原料作为各成分的原料，按照表1示出的各实施例的组成的比例进行称量，均勻混合后，投入到钼坩埚中，根据玻璃组成的熔融难易度用电炉在900 1200°C的温度范围内溶解2 10小时，搅拌均勻，进行消泡等后，使温度下降到850°C以下再浇注到模具中，缓慢冷却后制作玻璃。此处，对实施例(No. 1 No. 16)的光学玻璃的折射率(nd)、阿贝数(ν d)和部分色散比(9g，F)，基于日本光学硝子工业会标准J0GIS01-2003进行测定。予以说明，作为本测定试用的玻璃，使用退火条件为缓慢冷却下降速度为_25°C /hr，用缓慢冷却炉进行处理的玻璃。而且，由测定的阿贝数(vd)中的、位于图1的基准线上的部分色散比(9g，F) 的值与测定的部分色散比(θ g，F)的值之差，求出反常色散性(Δ θ g，F)。另外，磨耗度基于“J0GIS10-1994光学玻璃的磨耗度的测定方法”进行测定。艮口， 将30X30X IOmm大小的玻璃角板试料水平放在距离每分钟旋转60次的铸铁制平面皿 (250mm ψ )的中心80mm的固定位置，边垂直施加9. 8N(lkgf)的荷重，边在5分钟的时间内同样供给向水20mL中添加了 10g#800 (平均粒径20 μ m)研磨材料(氧化铝质A砥粒)的研磨液，并进行摩擦，测定研磨前后的试料质量，求出磨耗质量。同样操作，求出日本光学硝子工业会指定的标准试料的磨耗质量，由磨耗度={(试料的磨耗质量/比重)/ (标准试料的磨耗质量/比重)} X 100 来算出。表
权利要求
1.一种光学玻璃，其中，作为阳离子成分含有P、Al、碱土金属、Zn、以及选自由Y、La、Gd、Yb和Lu组成的组中的至少一种，作为阴离子含有F和0，部分色散比(θ g，F)为0. 535以上，折射率(nd)为1. 44以上。
2.根据权利要求1所述的光学玻璃，其中，Y3+、La3+、Gd3+、和Lu3+的总含有率以阳离子％表示为超过1. 且不足13. 1%。
3.根据权利要求1或2所述的光学玻璃，其中，折射率(nd)为1.55以上，阿贝数(ν d) 为55以上。
4.根据权利要求1 3任一项所述的光学玻璃，其中，磨耗度为500以下。
5.根据权利要求1 4任一项所述的光学玻璃，其中， 以阳离子％表示，P5+的含有率为25. 0 50. 0%、和/或 Al3+的含有率为5. 0 15. 0%、和/或碱土金属的含有率为30. 0 70. 0%、和/或 Si2+的含有率超过0%且为7.0%以下。
6.根据权利要求1 5任一项所述的光学玻璃，其中，F—的含有率以阴离子％表示为 15. 0 40. 0%。
7.一种光学元件，其由权利要求1 6任一项所述的光学玻璃构成。
8.一种研磨加工用和/或精密压制成形用的预成型坯，其由权利要求1 6任一项所述的光学玻璃构成。
9.一种光学元件，其为将权利要求8所述的预成型坯进行研磨而成。
10.一种光学元件，其为将权利要求8所述的预成型坯精密压制而成。
全文摘要
本发明的目的在于，提供一种通过反常色散性更高，从而可高精度地补偿玻璃透镜的色差，进而具备高折射率、低色散性(高阿贝数)，而且与以往的光学玻璃比具有同等以上的磨耗度低、易进行研磨加工的光学玻璃、光学元件和预成型坯。一种光学玻璃，其中，作为阳离子成分含有P、Al、碱土金属、Zn、以及选自由Y、La、Gd、Yb和Lu组成的组中的至少一种，作为阴离子成分含有F和O，部分色散比(θg，F)为0.535以上，折射率(nd)为1.44以上。
文档编号C03C3/247GK102557438SQ20101060933
公开日2012年7月11日 申请日期2010年12月20日 优先权日2010年12月20日
发明者吉川健 申请人:株式会社小原