专利名称：磁盘用玻璃基板的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种磁盘用玻璃基板的制造方法。
背景技术：
随着信息化技术的提高，信息记录技术、特别是磁记录技术正在显著进步。在用于磁记录介质之一的HDD(硬盘驱动器)等的磁盘中，正在持续进行快速的小型化、薄板化及记录密度的增加和存取速度的高速化。在HDD中，使具有磁性层的磁盘在圆盘状的基板上高速旋转，使磁头在该磁盘上浮起飞行，与此同时进行记录和再生。伴随存取速度的高速化，磁盘的旋转速度也变快，因而对磁盘来说要求更高的基板强度。另外，伴随记录密度的增加，磁头也从薄膜磁头向磁阻磁头(MR磁头)、巨磁阻磁头 (GMR磁头)发展，磁头从磁盘的浮起量变窄，至多为8nm左右。因此，当磁盘面上具有凹凸形状时，有时会出现磁头碰撞所致的破碎损害、和/或由空气的绝热压缩或接触导致加热而出现读取错误的过热(thermal asperity)损害。为了抑制这种对磁头产生的损害，将磁盘的主表面预先加工成极平滑的表面变得极为重要。因而目前，作为磁盘用的基板，逐渐使用玻璃基板代替以往的铝基板。这是因为， 与由软质材料的金属构成的铝基板相比，由硬质材料的玻璃构成的玻璃基板在基板表面的平坦性、基板强度和刚性方面优异。这些用于磁盘的玻璃基板通过对其主表面实施磨削加工和/或研磨加工等来制造。作为玻璃基板的磨削加工和/或研磨加工，有使用具有行星齿轮机构的双面研磨装置进行加工的方法。在行星齿轮机构中，将玻璃基板夹在贴有研磨衬垫(研磨布)的上下平板之间，在研磨衬垫和玻璃基板之间供给混悬有磨料(浆料)的研磨液，同时将该玻璃基板相对于上下平板进行相对移动，由此将玻璃基板的主表面加工成规定的平滑表面(例如，参见专利文献1)。另外，在使用磨削加工和/或研磨加工等进行了表面平滑化处理的磁盘用玻璃基板上，形成数nm级的薄膜(磁性层)，进行记录和再生磁道的形成等。因此，在磁盘用玻璃基板的制造工序中，在通过磨削加工和/或研磨加工等进行平滑化处理的同时将玻璃基板表面的极微少的污染也除去以保持该基板表面的清洁成为重要的课题。另外，玻璃基板还具有作为脆性材料的侧面。因此，在磁盘用玻璃基板的制造工序中，进行强化处理(玻璃强化工序)将玻璃基板浸渍在经加热的化学强化液中，通过离子交换将玻璃基板表层的锂离子、钠离子分别置换为化学强化液中的钠离子、钾离子，由此在玻璃基板的表层形成压缩应力层，使玻璃基板强化。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2009-214219号公报
发明内容
发明要解决的课题
如专利文献1所示，在磨削装置、研磨装置中有时使用不锈钢制的部件。另外，在化学强化工序中也有时使用不锈钢制的材料。也就是说，在进行使用不锈钢制装置的工序的情况下，有可能从这些装置中产生由不锈钢引起的金属系污染物质(特别是铁系污染物质)，并附着在玻璃基板上。在对玻璃基板造成影响的污染中，特别是附着金属系微粒的污染，在磁性层成膜后的表面产生凹凸，成为使制品的记录和再生等的电特性及成品率下降的原因，因而需要在磁记录盘用玻璃基板的制造工序中将其除去。特别是考虑到磁头从磁盘的浮起量随着记录密度的提高而越发减小，对于装置的材质引起的污染物也需要进行考虑。但是，来源于不锈钢的金属系污染物质难以被腐蚀，用清洗工序中一般使用的酸性水溶液和/或碱性水溶液等清洗液难以除去，为了除去这些金属系污染物质，需要使用具有强力反应性的酸性溶液(例如，王水)等。另一方面，当使用具有强力反应性的酸性溶液作为清洗液时，玻璃基板的表面也受到影响，存在表面粗糙度增大的问题。因此，为了进一步提高玻璃基板表面的平滑性和清洁度，要求进行清洗处理，该清洗处理使用能有效去除牢固地附着在玻璃基板上的金属系污染物质且不会对玻璃基板产生影响的清洗液。另外，近年来，为了进一步提高记录密度，开发出了在磁头上搭载Dra(Dynamic Flying Height，动态飞行高度)技术的HDD。通过该技术，磁头元件部比以往更加接近介质表面，可以减小磁距，但另一方面已知，在使用Dra磁头时，需要使磁盘的主表面比以往更加平滑且洁净，杂质等缺陷少。对于Dra磁头，认为是因为，并不是减少磁头本体的浮起量来接近磁盘表面，而是仅在磁头元件部周边突出而接近介质表面，因此，即使是极小的表面凹凸的混乱和/或与杂质的接触都会导致磁头元件部受到影响。例如，为了使每张2. 5英寸的磁盘实现500GB以上的记录密度，要求将突出的磁头元件部和磁盘之间的间隔设定为 Inm以下。本发明正是鉴于上述问题而完成的，其中一个目的是，在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，有效地除去附着于玻璃基板表面的金属系污染物质。解决课题的手段本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，清洗工序具有使玻璃基板与添加有浓度为0. 05重量％ 2重量％的葡糖酸盐的PH9 11的碱性水溶液相接触的处理。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，葡糖酸盐优选为葡糖酸钠或葡糖酸钾。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，碱性水溶液优选为氢氧化钾或氢氧化钠。在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，通过使碱性水溶液和玻璃基板接触来除去玻璃基板上的铁系金属污染物。发明效果根据本发明的一实施方式，可以在不增大玻璃基板表面的粗糙度的条件下，有效地除去附着在玻璃基板表面的金属系污染物质。
图1是表示葡糖酸根离子与铁系金属形成络合物时的示意图的图。
具体实施例方式以下，使用附图、实施例等说明本发明的实施方式。予以说明，这些附图、实施例等以及说明是本发明的例示，并不限制本发明的范围。当然只要是符合本发明的主旨，其他实施方式也属于本发明的范畴。为了谋求玻璃基板的进一步的平滑化和清洁度的提高，本发明人进行了研究，结果面临的问题是，由磁盘用玻璃基板的制造装置的材质引起的金属系污染物质(例如，铁系污染物质)附着在玻璃基板上，由通常的清洗处理不能将其充分除去。因此，对除去由不锈钢引起的金属系污染物质而不增大玻璃基板的表面粗糙度的方法进行了深入研究，结果发现了这样的方法通过在更低碱性的条件下向碱性溶液中添加具有优异的络合物形成能力的添加剂，可以在不对玻璃基板的表面造成影响的情况下有效地除去金属系污染物质。 具体而言，发现，通过在碱性溶液中添加葡糖酸盐，可以有效地溶解金属系污染物质，同时， 通过生成稳定的络合物可以抑制溶解的金属系污染物质向玻璃基板的再附着。以下，对本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的具体例进行说明。本实施方式所示的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征之一在于，进行清洗处理工序，所述清洗处理工序具有在不增大玻璃基板表面的表面粗糙度的范围内使玻璃基板与制成碱性且添加有葡糖酸盐的水溶液接触的处理。由此，可以生成附着于玻璃基板的金属系污染物质中所含的金属和葡糖酸根离子之间的络合物，除去金属系污染物质。予以说明，表面粗糙度可以用原子力显微镜测定。更具体而言，本实施方式所示的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，进行清洗工序，所述清洗工序具具有使玻璃基板与添加有浓度为0. 05重量％ 2重量％的葡糖酸盐的pH9 11的碱性水溶液相接触的处理。作为葡糖酸盐，可以使用葡糖酸钠、葡糖酸钾等。通过在碱性洗剂或碱性溶液中添加葡糖酸钠，可以提高洗剂或溶液的清洗能力。特别是对于附着在玻璃基板表面的金属污染物，在溶解金属污染物后，可以通过所除去的金属的络合物化抑制金属污染物再附着到玻璃基板。葡糖酸钠在水中按如下方式进行解离，可以将葡糖酸基(葡糖酸根离子)大量稳定地供给到水中。因此，即使向玻璃基板上的微小的污染添加微量的葡糖酸钠，也能期待充分的清洗能力。进而，如果葡糖酸钠的添加量为微量，则也可以抑制玻璃基板的表面的粗糙度变大。[化学式1]
权利要求
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述清洗工序具有使玻璃基板与添加有浓度为0. 05重量％ 2重量％的葡糖酸盐的 pH9 11的碱性水溶液相接触的处理。
2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，所述葡糖酸盐为葡糖酸钠或葡糖酸钾。
3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，所述碱性水溶液为氢氧化钾或氢氧化钠。
4.如权利要求1 3任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，通过使所述碱性水溶液和所述玻璃基板接触来除去所述玻璃基板上的铁系金属污染物。
5.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，在所述清洗工序中，通过在不增大玻璃基板表面的表面粗糙度的范围内使所述玻璃基板与制成碱性且添加有葡糖酸盐的水溶液接触，生成附着于所述玻璃基板的金属系污染物质中所含的金属和葡糖酸根离子的络合物，由此除去所述金属系污染物质。
6.如权利要求1或5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗工序为对化学强化后的玻璃基板进行清洗的工序。
7.如权利要求6所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板通过包含不锈钢制材质的化学强化装置进行化学强化。
全文摘要
本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在具有玻璃基板清洗工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序该清洗工序具有使玻璃基板与浓度为0.05重量％～2重量％的添加有葡糖酸盐的pH9～11的碱性水溶液相接触的清洗处理。
文档编号C03C23/00GK102473423SQ201180002382
公开日2012年5月23日 申请日期2011年3月31日 优先权日2010年3月31日
发明者山口智行, 平川拓洋, 平野康成, 田本宏一 申请人:Hoya株式会社