氧化物光学玻璃的制作方法

文档序号:1883352阅读:761来源:国知局
专利名称:氧化物光学玻璃的制作方法
技术领域
本发明涉及一种氧化物光学玻璃,特别涉及一种折射率(nd)在1. 75^1. 80范围内、阿贝数(ud)在50 55范围内的氧化物光学玻璃。其转变温度(Tg)与析晶上限温度(1^)的比值(Tg/LT)彡2/3,比重低于4. 40g/cm3,在36(T380nm波段范围内的IOmm厚的内透射比达到95%以上,在2(Tl20°C温度区间的膨胀系数(α2(Γ 20)小于63 X 10_7/°C。
背景技术
在光学系统设计中,通常采用高折射率、高阿贝数的玻璃来推动数码相机、手机相机向小型化、超薄化和广角化的实现。这种玻璃一方面具有高折射率的特点,能够减小镜头的体积,另一方面具有高阿贝数的特点,可以减小和校正镜头的色差,提高数码产品的分辨率。这类玻璃应用在图像传感装置中,可以提高灵敏度。
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中国专利申请CN1510002A公开了一种折射率在1. 75 1. 85,阿贝数大于35的氧化物光学玻璃。其组成中含价格昂贵的Ta2O5量15. 5 25wt%,导致氧化物光学玻璃的原材料成本高。中国专利申请CN1660711A公开了一种折射率在1. 73 1. 82,阿贝数在43 53的氧化物光学玻璃。其组成中含有O. 5^5wt%的ZnO。由于ZnO在高温反应中侵蚀Pt,不利于这类玻璃的生产控制。中国专利申请CN1903762A公开了一种折射率大于1. 65,阿贝数在50 60的氧化物光学玻璃,其中含有5 20mol%的Li2O,玻璃的膨胀系数大,导致玻璃的热稳定性差。美国专利US4526874公开了一种折射率大于1. 70,阿贝数大于22的氧化物光学玻璃,其中含有15 35wt%的TiO2,不利于提高玻璃的光谱内透射比。中国专利申请CN101935164A公开了一种折射率在1. 75 1. 95,阿贝数在30 50的氧化物光学玻璃,其中含有l 25wt%的WO3,不利于提高玻璃的光谱内透射比。中国专利申请CN101805120A公开了一种折射率在1. 75 1. 80,阿贝数在45 52的氧化物光学玻璃,其中价格昂贵的稀土元素Gd2O3的含量为15 30wt%,不利于玻璃原材料成本的降低。中国专利申请CN101397189A公开了一种折射率在1. 75 2. 00,阿贝数在35 55的氧化物光学玻璃,其中含有难熔的Zr02+Nb205的量超过13%且不足20%,导致玻璃的熔炼温度高,不利于玻璃熔炼成本的降低。本发明相对于上述这些现有技术的发明点在于配方中价格昂贵的Gd2O3和Ta2O5含量低;不含有影响玻璃透过率的TiO2和WO3 ;难熔物质Zr02+Nb205的含量低;不含有影响Pt坩埚寿命的ZnO ;不含有影响玻璃热学性能的碱金属氧化物如Li20、Na2O和K20。总之,本发明主要在于降低玻璃的制造成本,提高玻璃的产品质量,同时降低玻璃的膨胀系数,提高玻璃的热稳定性,提高玻璃的内透射比
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种折射率(nd)在1.75 L 80、阿贝数(ud)在5(Γ55范围内的氧化物光学玻璃。本发明提供一种氧化物光学玻璃,按阳离子摩尔百分比计包含
权利要求
1.一种氧化物光学玻璃,其特征在于,所述的氧化物光学玻璃按阳离子摩尔百分比计包含
2.根据权利要求1所述的氧化物光学玻璃,其特征在于,所述的氧化物光学玻璃按阳离子摩尔百分比计包含
3.根据据权利要求1或2所述的氧化物光学玻璃,其特征在于,所述氧化物光学玻璃的转变温度Tg与析晶上限温度Lt的比值Tg/LT彡2/3。
4.根据权利要求1或2所述的氧化物光学玻璃,其特征在于,所述氧化物光学玻璃的比重低于4. 40g/cm3,在36(T380nm波段范围内的IOmm厚的内透射比达到95%以上。
5.一种光学兀件,其包括根据权利要求1-4任一项所述的氧化物光学玻璃。
全文摘要
本发明提供一种氧化物光学玻璃。所述的氧化物光学玻璃按阳离子摩尔百分比计包含有B3+,55~70%;Si4+,1~9%;∑(B3++Si4+),58~75%;La3+,15~25%;Y3+,3~15%;Gd3+,0~5%;∑(La3++Y3++Gd3+),20~38%;Ta5+,0~2%;Zr4+,2~10%;Nb5+,0~10%;∑(Zr2++Nb5+)不超过12%;Ba2+,0~5%;Sb3+,0~0.2%,阴离子全部为O2-。折射率(nd)在1.75~1.80范围内、阿贝数(υd)在50~55范围内,比重低于4.40g/cm3,在360~380nm波段范围内的10mm厚的内透射比达到95%以上。且不含钍、铅、砷、镉、汞等有害物质成分及价格昂贵的GeO2和TeO2成分以及Li2O、Na2O和K2O、ZnO、TiO2和WO3、且价格昂贵的Ta5+含量不大于2mol%,具有低的失透倾向和高的透过率,析晶温度低于1060℃,适合于批量生产。主要用于数码产品、摄像机、液晶投影等。
文档编号C03C3/068GK103030273SQ201310016019
公开日2013年4月10日 申请日期2013年1月16日 优先权日2013年1月16日
发明者戎俊华, 梁立新, 王拓, 霍金龙, 姜敬陆 申请人:湖北新华光信息材料有限公司
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