墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜，它从下至上依次包括可撕膜（1）、粘接层（2）、基材层（3）、吸波层（4）、吸湿层（5）、抗菌层（6）以及彩绘层（7）。彩绘层（7）上的上表面还设置有保护膜（8）。基材层（3）采用高分子材料制成。本发明墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜保护膜能有效的保护好彩绘层，使彩绘层不易被破坏，且防水透明，即使沾上污渍，也易于清理，易于今后保养，且能够有效吸收室内辐射波将其转变为热能，避免现有的防辐射布将辐射波反射后又由其他裸露在外的皮肤吸收的缺点，更有利于避免辐射。
【专利说明】墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜。
【背景技术】
[0002]随着人们生活水平及审美情趣的提高，人们对室内装修的要求也越来越高，其中在墙体上大面积的彩绘已成为了时下常用的时尚，彩绘不但能增加墙体的丰富性，更能彰显主人家的品味，但是大面积的墙体彩绘耗时多，而且不能出错，花费大，难易保养。且不能够有效吸收室内辐射波。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于克服上述不足，提供一种能够有效吸收室内辐射波、价廉、易保养的墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜。
[0004]本发明的目的是这样实现的:
一种墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜，它从下至上依次包括可撕膜、粘接层、基材层、吸波层、吸湿层、抗菌层以及彩绘层。彩绘层上的上表面还设置有保护膜。基材层采用高分子材料制成。
[0005]与现有技术相比，本发明的有益效果是:
本发明墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜保护膜能有效的保护好彩绘层，使彩绘层不易被破坏，且防水透明，即使沾上污溃，也易于清理，易于今后保养，且能够有效吸收室内辐射波将其转变为热能，避免现有的防辐射布将辐射波反射后又由其他裸露在外的皮肤吸收的缺点，更有利于避免辐射。
【专利附图】
【附图说明】
[0006]图1为本发明的结构示意图。
[0007]其中:
可撕膜1、粘接层2、基材层3、吸波层4、吸湿层5、抗菌层6、彩绘层7、保护膜8。
【具体实施方式】
[0008]参见图1，本发明涉及的一种墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜，它从下至上依次包括可撕膜1、粘接层2、基材层3、吸波层4、吸湿层5、抗菌层6以及彩绘层7。彩绘层7上的上表面还设置有保护膜8。基材层3采用高分子材料制成。
【权利要求】
1.一种墙体大面积彩绘高分子合成装饰膜，其特征在于它从下至上依次包括可撕膜(I)、粘接层(2)、基材层(3)、吸波层(4)、吸湿层(5)、抗菌层(6)以及彩绘层(7)，彩绘层(7 )上的上表面还设置有保护膜(8 )，基材层(3 )采用高分子材料制成。
【文档编号】E04F13/075GK104196187SQ201410388845
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年8月11日 优先权日:2014年8月11日
【发明者】朱广和 申请人:江阴华东装饰材料有限公司