一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置的制作方法

本技术涉及施釉装置，具体为一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置。

背景技术：

1、施釉是陶瓷生产过程中的重要工序，陶瓷表面的釉质决定了陶瓷的品质与档次，在陶瓷坯体上施上釉层能够起到保护和装饰的作用，传统的上施方式为浸釉法，通过使用陶瓷上釉装置将陶瓷坯体浸入到釉池中进行上釉，经过一定的时间后，将陶瓷吊出即可。

2、现有的上釉装置主要包括供釉桶、釉池和固定装置，在上釉时，由供釉桶将釉料供入釉池内，通过固定装置将陶瓷坯体夹持固定，并将陶瓷坯体移动至釉池内，来完成陶瓷坯体的上釉加工。

3、使用上述的上釉装置对陶瓷坯体进行上釉时，釉池内的釉料容易发生沉淀，且陶瓷坯体与釉料接触不够均匀，导致对陶瓷坯体的上釉均匀性不佳。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，通过带动陶瓷坯体在釉池内转动，一方面对釉池内的釉料进行搅拌，另一方面使陶瓷坯体表面与釉料充分接触，提升对陶瓷坯体上釉的均匀性，有效解决了上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案。

3、一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，包括：

4、转动柱，转动柱转动安装在工作台架的上表面，转动柱竖直布置，工作台架上方设有驱动机构，驱动机构用于驱动转动柱转动；

5、电推杆，电推杆竖直地固定在转动柱的顶部，电推杆的伸缩端端部固定有固定架，固定架的端部固定有安装架；

6、连接柱，连接柱间隔固定在安装架的下表面，连接柱的下端部分别安装有第二驱动电机，第二驱动电机的输出轴上安装有双向同步电动伸缩杆，双向同步电动伸缩杆的两伸缩杆体端部分别安装有弧形块；

7、上釉池，上釉池安装在工作台架的一侧，上釉池的上端口对准连接柱；

8、供料桶，供料桶设在上釉池的下方，供料桶底端处连接有导料管，导料管的末端和上釉池内相连通，导料管上安装有压力泵，导料管上靠近上釉池处安装有第二控制阀，供料桶内底壁固定有竖直布置的套筒，供料桶上靠近其顶部处连接有进料管，进料管延伸至供料桶内并与套筒顶部处连通；

9、第一搅拌机构，第一搅拌机构设在套筒内，第一搅拌机构用于对套筒内的釉料进行正向搅拌；

10、第二搅拌机构，第二搅拌机构设在供料桶内底部处，第二搅拌机构用于对供料桶内底部的釉料进行反向搅拌。

11、由此可见，通过进料管将釉料供入供料桶内，通过压力泵工作，将供料桶内的釉料泵入上釉池内，通过第一搅拌机构对套筒内的釉料进行正向搅拌，通过第二搅拌机构对供料桶内底部的釉料进行反向搅拌，在供料桶内形成两股方向相反的釉料旋流，并相互对冲，将供料桶内的釉料充分搅拌，保证供料质量，同时边搅拌边上料，对釉料进行不停机搅拌，防止釉料沉淀，提高上釉质量，通过电推杆收缩工作带动连接柱插入陶瓷坯体内，随后双向同步电动伸缩杆伸长工作，两伸缩杆体推动弧形块抵触陶瓷坯体内壁，将陶瓷坯体牢固卡持，随后电推杆伸长工作，带动陶瓷坯体上移，通过驱动机构工作带动转动柱和电推杆转动，将陶瓷坯体移动至上釉池上方处，随后电推杆收缩工作，带动陶瓷坯体下移并进入上釉池内，从而完成陶瓷坯体的上料，通过伸缩杆体伸长不同的量，可推动弧形块卡持不同口径的陶瓷坯体，实用性高，通过第二驱动电机工作带动双向同步电动伸缩杆转动，从而带动陶瓷坯体转动，实现陶瓷坯体的转动上釉效果。本施釉装置对供料桶内上下部分的釉料进行正、反向搅拌，形成对冲的两股旋流，使釉料受到充分搅拌，提高了供料桶内釉料的均匀性，通过第二驱动电机带动陶瓷坯体转动，陶瓷坯体带动周围的釉料发生流动，起到搅拌效果，避免釉料沉入池底而影响釉料的均匀性，同时使陶瓷坯体表面与釉料充分接触，提升对陶瓷皮料上釉的均匀性，保证了对陶瓷坯体上料加工的质量。

12、进一步的，第一搅拌机构包括第三驱动电机、第一转轴和第一搅拌杆；第三驱动电机固定在供料桶内顶壁，第一转轴竖直地固定在第三驱动电机的输出轴上，第一搅拌杆均布在第一转轴外部。

13、通过第三驱动电机工作，其输出端带动第一转轴转动，转动的第一转轴能够带动第一搅拌杆对套筒内的釉料进行正向搅拌。

14、进一步的，第二搅拌机构包括第四驱动电机、第二转轴和第二搅拌杆；第四驱动电机固定在供料桶内底壁上，第二转轴竖直地固定在第四驱动电机的输出轴上，第二搅拌杆均布在第二转轴外部。

15、通过第四驱动电机工作，其输出端带动第二转轴转动，转动的第二转轴能够带动第二搅拌杆对供料桶内底部的釉料进行反向搅拌。

16、进一步的，驱动机构包括齿环、第一驱动电机和齿轮；齿环固定套接在转动柱上，第一驱动电机通过安装座固定在工作台架上表面，齿轮固定在第一驱动电机的输出轴上；齿轮对应和齿环啮合。

17、通过第一驱动电机工作，其输出轴带动齿轮转动，转动的齿轮啮合驱动齿环并带动转动柱转动，从而便于装置进行转动，方便了陶瓷坯体的上下料。

18、进一步的，上釉池的一侧还连通有排污管，排污管上安装有第一控制阀。

19、通过将第一控制阀拧开，便于将上釉池内的废料排出，避免废料过度堆积对上釉加工造成影响。

20、进一步的，上釉池的上端围绕其端口安装有围板。

21、通过在上釉池上端设置围板，增加了上釉池上端的高度，起到很好的防护效果，可防止上釉池内的釉料飞溅至外部。

22、与现有技术相比，本申请的有益效果如下。

23、1.本装置通过第二驱动电机工作带动双向同步电动伸缩杆转动，从而带动陶瓷坯体转动，转动的陶瓷坯体会带动周围的釉料发生流动，起到搅拌效果，避免釉料沉入池底而影响釉料的均匀性，同时使陶瓷坯体表面与釉料充分接触，提升对陶瓷皮料上釉的均匀性，保证了对陶瓷坯体上料加工的质量。

24、2.本装置通过第一搅拌机构对套筒内的釉料进行正向搅拌，通过第二搅拌机构对供料桶内底部的釉料进行反向搅拌，在供料桶内形成两股方向相反的釉料旋流，并相互对冲，将供料桶内的釉料充分搅拌，保证供料质量，同时边搅拌边上料，对釉料进行不停机搅拌，防止釉料沉淀，提高上釉质量。

25、3.本装置通过伸缩杆体伸长不同的量，可推动弧形块卡持不同口径的陶瓷坯体，实用性高。

技术特征：

1.一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，其特征在于：

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，其特征在于：

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，其特征在于：

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，其特征在于：

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，其特征在于：

技术总结
本技术涉及涉及一种陶瓷坯体瓷釉不停机搅拌均匀施釉装置，包括：转动柱，转动柱转动安装在工作台架的上表面，转动柱竖直布置，工作台架上方设有驱动机构，驱动机构用于驱动转动柱转动；电推杆，电推杆竖直地固定在转动柱的顶部，电推杆的伸缩端端部固定有固定架，固定架的端部固定有安装架；连接柱，连接柱间隔固定在安装架的下表面，连接柱的下端部分别安装有第二驱动电机。本施釉装置通过第二驱动电机带动陶瓷坯体转动，陶瓷坯体带动周围的釉料发生流动，起到搅拌效果，避免釉料沉入池底而影响釉料的均匀性，同时使陶瓷坯体表面与釉料充分接触，提升对陶瓷皮料上釉的均匀性，保证了对陶瓷坯体上料加工的质量。

技术研发人员：秦曼丽
受保护的技术使用者：潮州市潮安区蓝海陶瓷实业有限公司
技术研发日：20230327
技术公布日：2024/1/13