一种球顶直边淋釉器的制作方法

本技术涉及淋釉器，具体涉及一种球顶直边淋釉器。

背景技术：

1、施釉作为陶瓷瓷砖(岩板)生产中必不可少的一道工序，目前常用的施釉方法主要有淋釉和喷釉两种，而国内主流的淋釉工艺主要为钟罩式淋釉，其所对应的设备为钟罩淋釉器，总的来说淋釉设备操作简单，但对釉幕厚度、釉料的比重、黏度都有一定的要求。

2、然而现有的钟罩淋釉器采用圆形弧面结构的钟罩，多年来一直困扰行业，当坯体(砖坯、岩板等)经过钟罩下方的时候，淋到坯体上的釉料会产生钟罩纹，影响施釉品质，进而影响陶瓷产品质量的难题。

技术实现思路

1、为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种球顶直边淋釉器。

2、本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下：一种球顶直边淋釉器，包括釉桶组件、通过供釉管道与釉桶组件连接的漏斗组件、位于漏斗组件下方的淋釉组件以及位于淋釉组件下方的接釉盘，接釉盘通过回釉管道与釉桶组件相连接；

3、淋釉组件包括釉料承接区、弧形过渡区以及斜面直边区，釉料承接区为球顶结构，弧形过渡区与釉料承接区平滑相接，斜面直边区与弧形过渡区平滑相接，斜面直边区向外倾斜，并与弧形过渡区具有倾角，通过釉料承接区和弧形过渡区对釉料进行拉薄和均化，并通过斜面直边区使得釉料形成直线型釉幕。

4、进一步地，釉桶组件包括釉桶、设置在釉桶上方且用于对釉桶内的釉料进行搅拌和供料的搅拌供釉部件以及与供釉管道连接且用于过滤釉料中杂质的的过滤器，供釉管道远离所述漏斗组件的端部与釉桶连接，回釉管道远离所述接釉盘的端部与釉桶相连接。

5、进一步地，搅拌供釉部件包括设置在釉桶上的支撑板、设置在支撑板上的供釉电机和搅拌电机、配合连接在搅拌电机输出端的搅拌轴以及设置在搅拌轴下部且位于所述釉桶内的搅拌叶片，通过搅拌叶片对釉桶内的釉料进行搅拌，防止其沉淀，位于釉桶底部的供釉泵在供釉电机的驱动下，将釉料离心甩出，经过滤器和供釉管道，向漏斗组件输送釉料。

6、进一步地，漏斗组件包括漏斗支架、设置在漏斗支架上的供釉漏斗以及设置在供釉漏斗出口端的出釉管，供釉管道远离所述釉桶的端部与供釉漏斗连通，供釉漏斗的上部与釉桶之间设置有溢流管。

7、进一步地，供釉漏斗的出口端与出釉管之间设置有用于控制釉料流量的球阀。

8、进一步地，还包括用于安装淋釉组件的安装支架，安装支架包括立柱以及设置在立柱上的铁桥，淋釉组件安装在所述铁桥上，铁桥沿立柱上下调节高度。

9、进一步地，斜面直边区包括与所述弧形过渡区相适配的倾斜平面以及与所述倾斜平面平滑相接的直边刀口，直边刀口的后沿面为内斜面。

10、进一步地，釉料承接区上放置有用于对釉料进行缓流的稳流环。

11、进一步地，釉料承接区上放置有用于对两侧及中部的釉料进行分配的配流弧。

12、进一步地，釉料承接区上设置有用于对釉料进行围挡的挡釉条。

13、本实用新型具有以下有益效果：本实用新型所提供的一种球顶直边淋釉器，运用流体力学设计，其结构简洁，性能稳定，通过釉料承接区和弧形过渡区，在液体表面张力作用下，对釉料进行拉薄和均化，彻底消除釉料中细微气泡，并通过斜面直边区使得拉薄和均化后的釉料形成直线型釉幕，釉幕均匀分布，厚薄相当，有效地避免了传统钟罩淋釉器中间薄、两侧厚的施釉圆弧边积分效应问题，同时彻底解决了传统钟罩淋釉器困扰多年的，在其施釉时，会产生钟罩纹的难题。大大提高施釉品质，保证陶瓷产品质量。

14、同时，通过稳流环使得釉料能够进行缓流，消除进料浪涌，并沉淀细微杂质和消除微小气泡，提高淋釉质量。通过配流弧将釉油料进行分配，使得下罩中部和两侧的釉料基本一致，避免两侧釉料过多，中部釉料偏少。

15、此外，釉桶、供釉管道、供釉漏斗、接釉盘、回釉管道形成釉料的循环回路，淋釉操作后的釉料由接釉盘收集并通过回釉管道回流至釉桶内，循环使用，节约釉料，大大降低了成本，并更加环保。

技术特征：

1.一种球顶直边淋釉器，其特征在于，包括釉桶组件(1)、通过供釉管道(10)与所述釉桶组件(1)连接的漏斗组件(2)、位于所述漏斗组件(2)下方的淋釉组件(3)以及位于淋釉组件(3)下方的接釉盘(4)，所述接釉盘(4)通过回釉管道(5)与釉桶组件(1)相连接；

2.根据权利要求1所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述釉桶组件(1)包括釉桶(11)、设置在所述釉桶(11)上方且用于对釉桶(11)内的釉料进行搅拌和供料的搅拌供釉部件(12)以及与供釉管道(10)连接且用于过滤釉料中杂质的过滤器(13)，所述供釉管道(10)远离所述漏斗组件(2)的端部与釉桶(11)连接，所述回釉管道(5)远离所述接釉盘(4)的端部与釉桶(11)相连接。

3.根据权利要求2所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述搅拌供釉部件(12)包括设置在所述釉桶(11)上的支撑板(110)、设置在支撑板(110)上的供釉电机(111)和搅拌电机(114)、配合连接在所述搅拌电机(114)输出端的搅拌轴(112)以及设置在所述搅拌轴(112)下部且位于所述釉桶(11)内的搅拌叶片(113)，通过搅拌叶片(113)对釉桶(11)内的釉料进行搅拌，防止其沉淀，位于釉桶(11)底部的供釉泵在供釉电机(111)的驱动下，将釉料离心甩出，经过滤器(13)和供釉管道(10)，向漏斗组件(2)输送釉料。

4.根据权利要求2所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述漏斗组件(2)包括漏斗支架(20)、设置在所述漏斗支架(20)上的供釉漏斗(21)以及设置在所述供釉漏斗(21)出口端的出釉管(22)，所述供釉管道(10)远离所述釉桶(11)的端部与供釉漏斗(21)连通，所述供釉漏斗(21)的上部与釉桶(11)之间设置有溢流管(25)。

5.根据权利要求4所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述供釉漏斗(21)的出口端与出釉管(22)之间设置有用于控制釉料流量的球阀(23)。

6.根据权利要求1至5任一项所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，还包括用于安装淋釉组件(3)的安装支架(6)，所述安装支架(6)包括立柱(60)以及设置在所述立柱(60)上的铁桥(61)，所述淋釉组件(3)安装在所述铁桥(61)上，所述铁桥(61)沿所述立柱(60)上下调节高度。

7.根据权利要求1所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述斜面直边区(32)包括与所述弧形过渡区(31)相适配的倾斜平面(320)以及与所述倾斜平面(320)平滑相接的直边刀口(321)，所述直边刀口(321)的后沿面为内斜面。

8.根据权利要求1所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述釉料承接区(30)上放置有用于对釉料进行缓流的稳流环(33)。

9.根据权利要求1所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述釉料承接区(30)上放置有用于对两侧及中部的釉料进行分配的配流弧(34)。

10.根据权利要求1所述的球顶直边淋釉器，其特征在于，所述釉料承接区(30)上设置有用于对釉料进行围挡的挡釉条(35)。

技术总结
本技术公开了一种球顶直边淋釉器，包括釉桶组件、通过供釉管道与釉桶组件连接的漏斗组件、位于漏斗组件下方的淋釉组件以及位于淋釉组件下方的接釉盘，接釉盘通过回釉管道与釉桶组件相连接；淋釉组件包括釉料承接区、弧形过渡区以及斜面直边区，通过釉料承接区和弧形过渡区对釉料进行拉薄和均化，并通过斜面直边区使得釉料形成直线型釉幕。该淋釉器结构简洁，性能稳定，使得釉料能够形成均匀的直线型釉幕，有效地避免了传统钟罩淋釉器中间薄、两侧厚的施釉圆弧边积分效应问题，同时彻底解决了传统钟罩淋釉器困扰多年的在施釉时,会产生钟罩纹的难题。并且该淋釉器中具有釉料的循环回路，使得釉料循环使用，节约釉料，大大降低了成本。

技术研发人员：李小成,许安东,周超
受保护的技术使用者：四川汉莫尼机械设备有限公司
技术研发日：20231011
技术公布日：2024/5/29