一种剥开釉镀金大理石的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及大理石领域，具体为一种剥开釉镀金大理石。
【背景技术】
[0002]现有剥开釉大理石大部分采用丝网印和喷墨随机打印刷技术，其技术虽然成熟易操作，但丝网只能固定一个位置印刷，而且丝网印刷技术纹理效果粗糙，大大降低了大理石产品的逼真度，并且现有的大理石产品发色单一，影响大理石产品的质量。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种剥开釉镀金大理石，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:一种剥开釉镀金大理石，包括大理石基板，所述大理石基板的上侧设有印花层，所述印花层的上侧设有拨开釉层，所述拨开釉层的上侧设有镀金层，所述大理石基板的下侧固定连接有下基板，所述下基板的下侧设有凹槽，所述凹槽的内部镶嵌有契合体。
[0005]优选的，所述拨开釉层和镀金层的边缘均为圆角结构。
[0006]优选的，所述拨开釉层的厚度为0.5-1毫米。
[0007]优选的，所述凹槽为半球状，且契合体为对应的球状结构。
[0008]优选的，所述大理石基板的厚度为5-10毫米。
[0009]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:此剥开釉镀金大理石结构简单，通过加入拨开釉层，能够有效的解决大理石产品发色单一的问题，能够高度的保持大理石的纹理清晰度，使大理石产品能够更加的接近天然大理石的肌理，通过加入镀金层，能够使本实用新型更加的美观，并且高端大气，总的来说，本实用新型结构简单，能够有效的解决大理石发色单一的问题，适合推广使用。
【附图说明】
[00?0]图1为本实用新型结构不意图。
[0011 ]图中:I大理石基板、2印花层、3拨开釉层、4镀金层、5下基板、6凹槽、7契合体。
【具体实施方式】
[0012]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0013]请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案:一种剥开釉镀金大理石，包括大理石基板I，大理石基板I的厚度为5-10毫米，大理石基板I的上侧设有印花层2，印花层2的上侧设有拨开釉层3，拨开釉层3的厚度为0.5-1毫米，拨开釉层3能够解决发色单一的问题，拨开釉层3的上侧设有镀金层4，拨开釉层3和镀金层4的边缘均为圆角结构，圆角结构能够保障用户的使用安全，在用户的皮肤接触到大理石的边缘时，也不会因为尖锐的棱角而划伤，并且圆角相对美观，大理石基板I的下侧固定连接有下基板4，下基板4的下侧设有凹槽6，凹槽6的内部镶嵌有契合体7，凹槽6为半球状，且契合体7为对应的球状结构，通过加入凹槽6和契合体7结构，能够使本实用新型在安装的时候更加的贴合待安装大理石的地面，从而使整体更加平整。
[0014]尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
【主权项】
1.一种剥开釉镀金大理石，包括大理石基板(I)，所述大理石基板(I)的上侧设有印花层(2)，其特征在于:所述印花层(2)的上侧设有拨开釉层(3)，所述拨开釉层(3)的上侧设有镀金层(4)，所述大理石基板(I)的下侧固定连接有下基板(4)，所述下基板(4)的下侧设有凹槽(6)，所述凹槽(6)的内部镶嵌有契合体(7)。2.根据权利要求1所述的一种剥开釉镀金大理石，其特征在于:所述拨开釉层(3)和镀金层(4)的边缘均为圆角结构。3.根据权利要求1所述的一种剥开釉镀金大理石，其特征在于:所述拨开釉层(3)的厚度为0.5-1毫米。4.根据权利要求1所述的一种剥开釉镀金大理石，其特征在于:所述凹槽(6)为半球状，且契合体(7)为对应的球状结构。5.根据权利要求1所述的一种剥开釉镀金大理石，其特征在于:所述大理石基板(I)的厚度为5-10毫米。
【专利摘要】本实用新型公开了一种剥开釉镀金大理石，包括大理石基板，所述大理石基板的上侧设有印花层，所述印花层的上侧设有拨开釉层，所述拨开釉层的上侧设有镀金层，所述大理石基板的下侧固定连接有下基板，所述下基板的下侧设有凹槽，所述凹槽的内部镶嵌有契合体，本实用新型结构简单，能够有效的解决大理石发色单一的问题，适合推广使用。
【IPC分类】E04F15/02, B32B17/06, B32B3/30, B32B3/08, B32B3/02, B32B9/04
【公开号】CN205348667
【申请号】CN201521123804
【发明人】胡毅恒
【申请人】江西太阳陶瓷有限公司
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2015年12月31日