一种具有自动烘干功能的国画绘制台的制作方法

本技术涉及国画绘制，具体为一种具有自动烘干功能的国画绘制台。

背景技术：

1、国画一词起源于汉代，主要指的是画在绢、宣纸、帛上并加以装裱的卷轴画，目前的绘画台在制作绘画完成后需要等待一段时间墨水干燥后才能进行框裱起来，十分浪费时间，而且目前的绘画台角度均是固定的，不便使用，同时不能满足使用效果。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种具有自动烘干功能的国画绘制台，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：包括调节单元,所述调节单元顶端连接设置有绘画台，所述绘画台顶端开设有凹槽，且凹槽内连接设置有置纸板，所述绘画台底端连接设置有排气架，所述排气架内壁两侧连接设置有风机，所述绘画台顶端一侧铰接设置有烘干机构，所述烘干机构两侧转动设置有伸缩杆，所述伸缩杆一端与所述绘画台转动连接，所述绘画台底端一侧连接设置有控制盒。

3、优选的，所述调节单元包括底座，所述底座顶端连接设置有固定支架，所述固定支架一侧转动设置有调节气缸，所述调节气缸一端转动设置有活动支架，所述活动支架底端转动设置有移动滑座。

4、优选的，所述固定支架和移动滑座顶端均与绘画台转动连接，所述底座顶端开设有滑槽，所述移动滑座底端与滑槽滑动连接。

5、优选的，所述烘干机构包括转动架，所述转动架一侧连接设置有固定罩，所述固定罩内壁两侧连接设置有加热丝和导风板，所述固定罩一侧连接设置有防尘网。

6、优选的，所述转动架一侧连接设置有防滑垫，且防滑垫与绘画台顶端凹槽嵌合，其中凹槽顶端连接设置有支撑栓，并与所述置纸板固定连接。

7、优选的，所述调节单元一侧连接设置有调节快关，其中调节开关与所述控制盒呈电性连接。

8、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

9、1、本实用新型通过将画纸铺设在置纸板顶端进行绘画，其中可以调整调节气缸收缩，带动活动支架转动，活动支架底端通过移动滑座进行移动，从而使绘画台进行测斜，调整角度，便于绘画作业；

10、2、本实用新型同时还通过控制伸缩杆的收缩带动转动架转动，直至转动架完全合并，同时转动架底端的防滑垫会将画纸挤压固定在置纸板顶端，然后开启风机和加热丝，空气通过防尘网过滤后，经加热丝加热，再由导风板导向，吹向画纸，从而热空气经过置纸板，并有排气架排出，有效的减少耗时，提升效率，便于操作。

技术特征：

1.一种具有自动烘干功能的国画绘制台，包括调节单元(1),其特征在于：所述调节单元(1)顶端连接设置有绘画台(2)，所述绘画台(2)顶端开设有凹槽，且凹槽内连接设置有置纸板(3)，所述绘画台(2)底端连接设置有排气架(4)，所述排气架(4)内壁两侧连接设置有风机(5)，所述绘画台(2)顶端一侧铰接设置有烘干机构(6)，所述烘干机构(6)两侧转动设置有伸缩杆(7)，所述伸缩杆(7)一端与所述绘画台(2)转动连接，所述绘画台(2)底端一侧连接设置有控制盒(8)。

2.根据权利要求1所述的一种具有自动烘干功能的国画绘制台，其特征在于：所述调节单元(1)包括底座(11)，所述底座(11)顶端连接设置有固定支架(12)，所述固定支架(12)一侧转动设置有调节气缸(13)，所述调节气缸(13)一端转动设置有活动支架(14)，所述活动支架(14)底端转动设置有移动滑座(15)。

3.根据权利要求2所述的一种具有自动烘干功能的国画绘制台，其特征在于：所述固定支架(12)和移动滑座(15)顶端均与绘画台(2)转动连接，所述底座(11)顶端开设有滑槽，所述移动滑座(15)底端与滑槽滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种具有自动烘干功能的国画绘制台，其特征在于：所述烘干机构(6)包括转动架(61)，所述转动架(61)一侧连接设置有固定罩(62)，所述固定罩(62)内壁两侧连接设置有加热丝(63)和导风板(64)，所述固定罩(62)一侧连接设置有防尘网(65)。

5.根据权利要求4所述的一种具有自动烘干功能的国画绘制台，其特征在于：所述转动架(61)一侧连接设置有防滑垫，且防滑垫与绘画台(2)顶端凹槽嵌合，其中凹槽顶端连接设置有支撑栓，并与所述置纸板(3)固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种具有自动烘干功能的国画绘制台，其特征在于：所述调节单元(1)一侧连接设置有调节快关，其中调节开关与所述控制盒(8)呈电性连接。

技术总结
本技术公开了一种具有自动烘干功能的国画绘制台，包括调节单元，所述调节单元顶端连接设置有绘画台，所述绘画台顶端开设有凹槽，且凹槽内连接设置有置纸板，所述绘画台底端连接设置有排气架，所述排气架内壁两侧连接设置有风机，所述绘画台顶端一侧铰接设置有烘干机构，所述烘干机构两侧转动设置有伸缩杆，所述伸缩杆一端与所述绘画台转动连接，所述绘画台底端一侧连接设置有控制盒。本技术调整角度方便，便于绘画作业，有效的减少耗时，提升效率。

技术研发人员：田丽,李平平
受保护的技术使用者：田丽
技术研发日：20221205
技术公布日：2024/1/12