清洁设备的清洁方法及装置、存储介质及电子装置与流程

【】本发明涉及智能清洁领域，具体而言，涉及一种清洁设备的清洁方法及装置、存储介质及电子装置。

背景技术

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背景技术：

1、清洁设备的底部后侧可设置有抹布组件，清洁设备在对清洁区域进行沿边清洁时，抹布组件可能无法触碰到墙边附近的区域，导致漏拖，在长期多次拖地后，可能会留下很明显的痕迹。

技术实现思路

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技术实现要素：

1、本发明实施例提供了一种清洁设备的清洁方法及装置、存储介质及电子装置，以至少解决现有技术中，由于清洁设备的抹布组件无法触碰到最外边缘，因此会出现待清洁区域的边缘漏拖等问题。

2、根据本发明实施例的一个实施例，提供了一种清洁设备的清洁方法，包括：在清洁设备对待清洁区域执行清洁过程中，确定所述清洁设备是否执行沿边清洁；在确定所述清洁设备执行沿边清洁的情况下，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，以使所述清洁设备的抹布组件所形成的清洁范围更靠近所述沿边清洁对应的边缘；控制所述清洁设备完成对所述待清洁区域的清洁。

3、在一个示例性实施例中，所述在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：在沿边过程中，每隔预设距离控制所述清洁设备旋转至少一圈；或，在沿边过程中，每隔预设时长控制所述清洁设备旋转至少一圈；或，在沿边过程中，随机控制所述清洁设备旋转至少一圈。

4、在一个示例性实施例中，所述方法还包括：在控制所述清洁设备旋转至少一圈的过程中，控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域。

5、在一个示例性实施例中，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域后，控制所述清洁设备旋转至少一圈。

6、在一个示例性实施例中，所述抹布组件包括两个并排的旋转抹布，所述控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域，包括：控制其一所述旋转抹布伸出所述清洁设备所覆盖的区域；或，控制两个所述旋转抹布沿不同方向伸出所述清洁设备所覆盖的区域。

7、在一个示例性实施例中，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：在所述清洁设备停止运动后，控制所述清洁设备绕所述清洁设备的轴线原地旋转至少一圈。

8、在一个示例性实施例中，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：在所述清洁设备保持向前移动的基础上，控制所述清洁设备绕所述清洁设备的轴线旋转至少一圈。

9、在一个示例性实施例中，所述抹布组件包括两个并排位于所述清洁设备的后侧底部的旋转抹布。

10、根据本发明实施例的另一方面，还提供了一种清洁设备的清洁方法，包括：控制清洁设备对待清洁区域按弓字形进行清洁；在所述清洁设备向前移动碰到所述待清洁区域边缘的情况下，控制所述清洁设备旋转至少一圈，以使所述清洁设备的抹布组件所形成的清洁范围更靠近所述边缘；在控制所述清洁设备旋转至少一圈后，控制所述清洁设备继续对所述待清洁区域进行清洁。

11、在一个示例性实施例中，所述控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域后，控制所述清洁设备旋转至少一圈。

12、在一个示例性实施例中，所述控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：在控制所述清洁设备旋转至少一圈的过程中，控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域。

13、在一个示例性实施例中，所述抹布组件包括两个并排的旋转抹布，所述控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域，包括：控制其一所述旋转抹布伸出所述清洁设备所覆盖的区域；或，控制两个所述旋转抹布沿不同方向伸出所述清洁设备所覆盖的区域。

14、在一个示例性实施例中，所述抹布组件包括两个并排位于所述清洁设备的后侧底部的旋转抹布。

15、根据本发明实施例的另一方面，还提供了一种清洁设备的清洁装置，包括：确定模块，用于在清洁设备对待清洁区域执行清洁过程中，确定所述清洁设备是否执行沿边清洁；第一控制模块，用于在确定所述清洁设备执行沿边清洁的情况下，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，以使所述清洁设备的抹布组件所形成的清洁范围更靠近沿边清洁对应的边缘；第二控制模块，用于控制所述清洁设备完成对所述待清洁区域的清洁。

16、根据本发明实施例的另一方面，还提供了一种清洁设备的清洁装置，包括：第三控制模块，用于控制清洁设备对待清洁区域按弓字形进行清洁；第四控制模块，用于在所述清洁设备向前移动碰到所述待清洁区域边缘的情况下，控制所述清洁设备旋转至少一圈，以使所述清洁设备的抹布组件所形成的清洁范围更靠近所述边缘；第五控制模块，用于在控制所述清洁设备旋转至少一圈后，控制所述清洁设备继续对所述待清洁区域进行清洁。

17、根据本发明实施例的又一方面，还提供了一种计算机可读的存储介质，所述存储介质中存储有计算机程序，其中，上述处理器通过计算机程序执行上述任一项中所述的清洁设备的清洁方法。

18、根据本发明实施例的又一方面，还提供了一种电子装置，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其中，上述处理器通过计算机程序执行上述任一项中所述的清洁设备的清洁方法。

19、通过本发明，在确定所述清洁设备执行沿边清洁的情况下，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，以使所述清洁设备的抹布组件所形成的清洁范围更靠近所述沿边清洁对应的边缘；即本发明中通过清洁设备的抹布组件清洁待清洁区域的边缘，采用上述技术方案，解决了现有技术中，由于清洁设备的抹布组件无法触碰到最外边缘，因此会出现待清洁区域的边缘漏拖等问题，进而达到了智能清洁待清洁区域的边缘和提高用户体验感的效果。

技术特征：

1.一种清洁设备的清洁方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

4.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：

5.如权利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述抹布组件包括两个并排的旋转抹布，所述控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域，包括：

6.如权利要求1至5任一项中所述的方法，其特征在于，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：

7.如权利要求1至5任一项中所述的方法，其特征在于，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：

8.如权利要求1至7任一项中所述的方法，其特征在于，所述抹布组件包括两个并排位于所述清洁设备的后侧底部的旋转抹布。

9.一种清洁设备的清洁方法，其特征在于，包括：

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备旋转至少一圈，包括：

12.如权利要求10或11所述的方法，其特征在于，所述抹布组件包括两个并排的旋转抹布，所述控制所述抹布组件伸出所述清洁设备所覆盖的区域，包括：

13.如权利要求10或11所述的方法，其特征在于，所述抹布组件包括两个并排位于所述清洁设备的后侧底部的旋转抹布。

14.一种清洁设备的清洁装置，其特征在于，包括：

15.一种清洁设备的清洁装置，其特征在于，包括：

16.一种计算机可读的存储介质，其特征在于，所述存储介质中存储有计算机程序，其中，所述计算机程序被设置为运行时执行所述权利要求1至8任一项中所述的方法，或者权利要求9至13任一项中所述的方法。

17.一种电子装置，包括存储器和处理器，其特征在于，所述存储器中存储有计算机程序，所述处理器被设置为运行所述计算机程序以执行所述权利要求1至8任一项中所述的方法，或者权利要求9至13任一项中所述的方法。

技术总结
本发明公开了一种清洁设备的清洁方法及装置、存储介质及电子装置，该清洁设备的清洁方法包括：在清洁设备对待清洁区域执行清洁过程中，确定所述清洁设备是否执行沿边清洁；在确定所述清洁设备执行沿边清洁的情况下，在沿边过程中至少一次控制所述清洁设备旋转至少一圈，以使所述清洁设备的抹布组件所形成的清洁范围更靠近所述沿边清洁对应的边缘；控制所述清洁设备完成对所述待清洁区域的清洁，通过上述实施例，解决了相关技术中由于清洁设备的抹布组件无法触碰到最外边缘，因此会出现待清洁区域的边缘漏拖等问题。

技术研发人员：杨咚浩,耿文峰,高翔翔
受保护的技术使用者：追觅创新科技（苏州）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/12/30