一种床垫的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种睡眠用的床垫，特别是涉及一种磁悬浮床垫。
【背景技术】
[0002]生活中很多人经常容易失眠，目前所知的睡眠用床的床垫均是由是由已知的各类填充材料或弹簧制成，有时候填充不均匀使得人们睡眠质量不好，传统的床垫由于其中存在硬物，使人睡眠时感到不舒服，更有时由于弹簧损坏程度不一，导致床垫表面坑坑洼洼，更是有害于人体；本发明提供一种利用磁铁同性相斥原理而制造的床垫；该床垫不仅使床垫不需要采取利用填充材料或弹簧制成床垫，而且能够使床垫悬浮；而且该床垫由磁场提供支撑力，能完美贴合人体，使压强减小，血液循环更加流畅，使人们睡得更加舒适。
[0003]在中国专利申请公开的说明书，CN101248935A中公开了一种磁悬浮垫，其结构是在外罩内包有垫体，垫体由纵横排列并相互连接的支撑盒组成，支撑盒包括有底盒和上盖，在上盖中接有下伸的扣接臂，扣接臂端部有扣榫，在底盒中制有可嵌接扣接臂的滑槽，在底盒和上盖内分别装有同极性相对的磁块。但由于该技术使用的磁体产生的磁场是固定的，磁场的大小不可以调节，不能适用不同的人群。
【发明内容】
[0004]鉴于传统床垫存在的问题，本发明提供了一种是睡眠质量得到提升的床垫，特别是一种磁悬浮床垫，并可以调节磁场大小。
[0005]该发明一种能够提高睡眠质量的床垫，该床垫包括上部7与底部4以及其撑开平面的边框I ;上部7用织物为平面；上部7的平面能产生磁场6 ;底部4平面可产生磁场；上下两部分有连接点5，可用连接体8把上下两部分相连接。
[0006]所述的床垫可以由上下两面有中一面全部都是磁体构成，或者上下两面都是由磁体构成。
[0007]作为本发明的进一步改进，上下两面产生的磁场可以由电磁铁产生，从而使得床垫一直是悬浮着的。
[0008]作为本发明的更进一步改进，上述的电磁铁是可以调节磁场的大小的，使得该床垫可以根据不同的人和不同重量调节磁场大小，以适用于不同的人群。
[0009]作为本发明的又进一步改进，在床垫上部上盖有以层消磁体，减少窗体磁场对人体的影响。
[0010]有益效果:该发明相对于现有技术而言，在增加人们的睡眠舒适度以外，又减少了磁场对人体的伤害，并且可以调节磁场的大小，以适用于不同的人群。具有可广泛使用性。
【附图说明】
[0011]图1是该床垫的结构图；
[0012]图2为本发明所述床塾底部的结构不意图；
[0013]图3为所述连接体的结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]床垫的上部7和底部4的可以有一平面构成物全部是磁体，或者两面都是磁体。床垫的上部7和底部4可以有一面发散的磁场为回形电路产生的磁场，也可以两面都是回形电路产生的磁场。床垫的上部7和底部4可以有一面发散的磁场的平面磁场由电磁场和磁体磁场共同组成，也可以两面都是由电磁场和磁体磁场共同组成。床垫的上部7与底部4的连接体8可以伸缩。床垫的连接体8可替换为以上下部边框I为上下底框架的柱形结构。床垫的上部7上盖有消磁体，屏蔽或减少外磁场对人体磁场的干扰。床垫上安装一个调节器可以根据不同的人或者不同的重量调节磁场大小。
【主权项】
1.一种能够提高睡眠质量的磁悬浮床垫，包括上部(7)与底部(4)及其其撑开平面的边框(I);其特征在于:上部(7)用织物为平面；上部(7)和底部(4)的平面都有能够产生磁场的磁体￠);上下两部分有连接点(5)，可用连接体(8)把上下两部分相连接。
2.如权利要求1所述的床垫，其特征在于:上部(7)和底部(4)的可以有一平面构成物全部是磁体，或者两面都是磁体。
3.如权利要求1所述的床垫，其特征在于:上部(7)和底部(4)可以有一面发散的磁场为回形电路产生的磁场，也可以两面都是回形电路产生的磁场。
4.如权利要求1所述的床垫，其特征在于:上部(7)和底部(4)可以有一面发散的磁场的平面磁场由电磁场和磁体磁场共同组成，也可以两面都是由电磁场和磁体磁场共同组成。
5.如权利要求1所述的床垫，其特征在于上部(7)与底部(4)的连接体(8)可以伸缩。
6.如权利要求1所述的床垫，其特征在于连接体(8)可替换为以上下部边框(I)为上下底框架的柱形结构。
7.如权利要求1所述的床垫，其特征在于其上部(7)上盖有消磁体，屏蔽或减少外磁场对人体磁场的干扰。
8.如权利要求7诉说的床垫，其特征在于电磁场可以调节磁场大小。
【专利摘要】本发明涉及一种能够提高睡眠质量的磁悬浮床垫，该床垫包括上部(7)与底部(4)及其撑开平面的边框(1)；上部(7)用织物为平面；上部(7)和底部(4)的平面中镶有磁体(6)产生磁场；上下两部分可用连接体(8)连接支撑。采用这种技术利用磁铁的互斥性增加睡眠的舒适度，达到提高睡眠质量的效果。
【IPC分类】A47C27-00
【公开号】CN104622103
【申请号】CN201410817789
【发明人】熊良龙
【申请人】熊良龙
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2014年12月24日