用于检查井的水流缓冲装置的制作方法

文档序号:34437890发布日期:2023-06-10 02:53阅读:40来源:国知局
用于检查井的水流缓冲装置的制作方法

本技术属于排水管道,具体涉及一种用于检查井的水流缓冲装置。


背景技术:

1、检查井是为城市地下基础设施的供电、给排水、排污、通讯、煤气管道等的维修安装方便而设置的井状构筑物。检查井通常设在地下管道交汇处、转弯处、管径或坡度改变处等。按照不同材料的标准进行划分,检查井包括塑料检查井、砖砌检查井等。

2、普遍的,检查井1包括开口向上的井筒101,井筒101的上端开口处设置有沿井筒101周向布置的环状井座102,环状井座102上安装有可开闭的井盖103。井筒101的侧壁上开设有进水孔104与出水孔105,进水孔104与出水孔105沿井筒的周向间隔布置。进水孔104与出水孔105处均连接有与井筒101内腔相连通的接头104,接头104位于井筒101之外、且用于连接地下管道。施工人员打开井盖103进入到井筒101中,便于定期检查、清洁、疏通地下管道。

3、当地下管道用于给排水且地下管道倾斜布置时,地下管道中的水流从高处流向低处,水的势能较大。当水流经地下管道径直冲向检查井的井筒内壁时,容易对井筒内壁造成冲击,缩短检查井的使用寿命。


技术实现思路

1、本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于检查井的水流缓冲装置,有利于减小地下管道中的水流对井筒内壁的冲击。

2、本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:用于检查井的水流缓冲装置,包括开口向上的井筒,所述井筒的侧壁上开设有进水孔与出水孔;所述进水孔和出水孔沿所述井筒的周向间隔布置;还包括置于所述井筒底壁上的挡块,所述挡块通过支座安装于所述井筒的内腔中;所述挡块的外周面与所述井筒的内侧壁之间具有间距,且形成环状的腔体结构;所述挡块与所述井筒侧壁上的进水孔相对应布置。

3、进一步的,所述支座包括支杆,所述支杆至少设置有一根;所述支杆穿过所述挡块的侧壁并延伸至所述挡块之外;所述支杆的两端均与所述井筒的内侧壁相抵接。

4、进一步的,所述支杆设置有两根,两根所述支杆相交且形成十字形结构。

5、进一步的,所述支杆为钢筋。

6、进一步的,所述挡块为圆柱体结构。

7、进一步的,所述进水孔为圆形孔,所述挡块的顶端高于所述进水孔的顶端,圆柱体结构的所述挡块的横截面直径与所述进水孔的直径相等。

8、进一步的,所述挡块位于所述井筒的中心处。

9、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型提供一种用于检查井的水流缓冲装置,有利于减小地下管道中的水流对井筒内壁的冲击。具有结构简单、施工快捷、节约成本以及延长检查井的使用寿命的优势。



技术特征:

1.用于检查井的水流缓冲装置,包括开口向上的井筒(101),所述井筒(101)的侧壁上开设有进水孔(104)与出水孔(105);所述进水孔(104)和出水孔(105)沿所述井筒(101)的周向间隔布置;其特征在于:还包括置于所述井筒(101)底壁上的挡块(2),所述挡块(2)通过支座安装于所述井筒(101)的内腔中;所述挡块(2)的外周面与所述井筒(101)的内侧壁之间具有间距,且形成环状的腔体结构(5);所述挡块(2)与所述井筒(101)侧壁上的进水孔(104)相对应布置。

2.如权利要求1所述的用于检查井的水流缓冲装置,其特征在于:所述支座包括支杆(3),所述支杆(3)至少设置有一根;所述支杆(3)穿过所述挡块(2)的侧壁并延伸至所述挡块(2)之外;所述支杆(3)的两端均与所述井筒(101)的内侧壁相抵接。

3.如权利要求2所述的用于检查井的水流缓冲装置,其特征在于:所述支杆(3)设置有两根,两根所述支杆(3)相交且形成十字形结构。

4.如权利要求3所述的用于检查井的水流缓冲装置,其特征在于:所述支杆(3)为钢筋。

5.如权利要求1所述的用于检查井的水流缓冲装置,其特征在于:所述挡块(2)为圆柱体结构。

6.如权利要求5所述的用于检查井的水流缓冲装置,其特征在于:所述进水孔(104)为圆形孔,所述挡块(2)的顶端高于所述进水孔(104)的顶端,圆柱体结构的所述挡块(2)的横截面直径与所述进水孔(104)的直径相等。

7.如权利要求1所述的用于检查井的水流缓冲装置,其特征在于:所述挡块(2)位于所述井筒(101)的中心处。


技术总结
本技术提供一种用于检查井的水流缓冲装置,包括开口向上的井筒,井筒的侧壁上开设有进水孔与出水孔;进水孔和出水孔沿井筒的周向间隔布置;还包括置于井筒底壁上的挡块,挡块通过支座安装于井筒的内腔中;挡块的外周面与井筒的内侧壁之间具有间距,且形成环状的腔体结构;挡块与井筒侧壁上的进水孔相对应布置。有利于减小地下管道中的水流对井筒内壁的冲击。具有结构简单、施工快捷、节约成本以及延长检查井的使用寿命的优势。

技术研发人员:何贻勇,廖伟,张伟
受保护的技术使用者:中国十九冶集团有限公司
技术研发日:20230221
技术公布日:2024/1/12
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