专利名称：扩散膜及其制造方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种扩散膜及其制造方法。
背景技术：
扩散膜是液晶显示器中不可缺少的光学元件，在传统的扩散膜制作工艺中，通常 用散射的颗粒状物混合于粘接剂中，在透明基膜上涂布混合的粘接剂而形成扩散膜。通常 此类制作工艺需要庞大的涂布设备，制作工艺复杂不易掌控，成品良率低且成本高昂。
发明内容
本发明的目的是提供一种扩散膜的制造方法，旨在解决传统的制造方法工艺复杂 且成本高的问题。同时也提供一种采用该制造方法制造的扩散膜。本发明的技术方案如下一种扩散膜的制造方法，包括选取一适当的滚轮本体；采用微雕切割技术制得所需规格的微米治具；利用微雕切割技术制得的微米治具在CNC技术操作下对滚轮本体的轮面进行微 雕处理，制得具有光学微结构的凹半球型粒径的轮面；将滚轮本体装入UV涂布机上；在透明膜层的表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层；在透明膜层的另一表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层。所述的扩散膜的制造方法，其中，所述在透明膜层的表面上形成具有凸半球型粒 径的珠体的扩散层包括在透明膜层的表面上均勻涂上一层液态高折射率的光学级丙烯酸酯；复制轮面的凹半球型粒径形状而形成凸半球型粒径的珠体；进行紫外线干燥。所述的扩散膜的制造方法，其中，所述在透明膜层的另一表面上形成具有凸半球 型粒径的珠体的抗静电层包括在透明膜层的另一表面上均勻涂上一层带有抗静电剂的液态高折射率的光学树 脂；复制轮面的凹半球型粒径形状而形成凸半球型粒径的珠体；进行紫外线干燥。所述的扩散膜的制造方法，其中，在对滚轮本体的轮面进行微雕处理之前，还包 括采用CNC技术对滚轮本体作一次粗研磨及二次精研磨。所述的扩散膜的制造方法，其中，在形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层时，轮面上凹半球型粒径的直径是3至15微米，表面粗糙度Ra值是0. M至0.8微米。所述的扩散膜的制造方法，其中，在形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层时， 轮面上凹半球型粒径的直径是3至15微米，表面粗糙度Ra值是0. M至0. 8微米或表面是 150至400网目点。一种采用上述的扩散膜的制造方法制造的扩散膜，包括透明膜层、扩散层、抗静电 层，所述扩散层和抗静电层与透明膜层是一体设置的，并且扩散层和抗静电层是相对设置 的。所述的扩散膜，其中，所述扩散层包括多个连续排列的凸半球型粒径的珠体。所述的扩散膜，其中，所述抗静电层包括多个稀散排列的凸半球型粒径的珠体。所述的扩散膜，其中，所述扩散层表面粗糙度Ra值是0. M至0. 8微米或表面是 150至300网目点。本发明的有益效果本发明的扩散膜制造方法与传统的扩散膜的制造方法相比，具有不需要庞大的设 备，制作工艺更易掌控，成品良率高的特点。所制作出的扩散膜具有优良的雾化扩散及高穿 透效果，品质非常稳定，大幅降低了制作成本及节约资源。
图1是本发明扩散膜的制造方法中所使用的滚轮本体的示意图。图2是本发明扩散膜的示意图。
具体实施例方式请参阅图1和图2，本发明扩散膜的制造方法包括以下步骤(1)、选取一适当的滚轮本体5。(2)、采用微雕切割技术制得所需规格的微米治具。(3)、采用CNC技术(数控机床技术)对滚轮本体5作一次粗研磨及二次精研磨。(4)、利用微雕切割技术制得的微米治具在CNC技术操作下对滚轮本体5的轮面进 行微雕处理，制得具有光学微结构的凹半球型粒径的轮面51。凹半球型粒径的直径是3至 15微米，表面粗糙度Ra值是0. M至0. 8微米。(5)、将滚轮本体5装入UV涂布机上。(6)、在透明膜层6 (材料为聚对苯二甲酸)的表面上均勻涂上一层液态高折射率 的光学级丙烯酸酯。(7)、复制轮面51的凹半球型粒径形状而形成凸半球型粒径的珠体。(8)、进行紫外线干燥，即可在透明膜层6的表面上形成具有凸半球型粒径的珠体 的扩散层62。(9)、采用同样的制作方法在透明膜层6的另一表面(与扩散层相对的表面)上形 成具有防静电效果的抗静电层61。在形成抗静电层61时，具有光学微结构的微米凹半球型粒径的直径是3至15微 米，表面粗糙度Ra值是0. M至0. 8微米或表面是150至400网目点。在透明膜层6的另 一表面上均勻涂上一层带有抗静电剂的液态高折射率的光学树脂。
采用上述扩散膜的制造方法即可形成一面具有雾化效果且高穿透的扩散层，以此 增加光线的折射次数，形成更佳的光线扩散效果，另一面具有高穿透抗静电层的扩散膜产 品。请参阅图2，采用本发明的扩散膜的制造方法制造出的扩散膜包括透明膜层6、扩 散层62、抗静电层61，所述扩散层62和抗静电层61与透明膜层6是一体设置的，并且扩散 层62和抗静电层61是相对设置的。扩散层62包括多个连续排列的凸半球型粒径的珠体，抗静电层61包括多个稀散 排列的凸半球型粒径的珠体，扩散层62表面粗糙度Ra值是0. M至0. 8微米或表面是150 至300网目点。本发明的扩散膜制造方法与传统的扩散膜的制造方法相比，具有不需要庞大的设 备，制作工艺更易掌控，成品良率高的特点。所制作出的扩散膜具有优良的雾化扩散及高穿 透效果，品质非常稳定，大幅降低了制作成本及节约资源。应当理解的是，上述针对较佳实施例的描述较为详细，并不能因此而认为是对本 发明专利保护范围的限制，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明权 利要求所保护的范围情况下，还可以做出替换、简单组合等多种变形，这些均落入本发明的 保护范围之内，本发明的请求保护范围应以所附权利要求为准。
权利要求
1.一种扩散膜的制造方法，其特征在于，包括 选取一适当的滚轮本体；采用微雕切割技术制得所需规格的微米治具；利用微雕切割技术制得的微米治具在CNC技术操作下对滚轮本体的轮面进行微雕处 理，制得具有光学微结构的凹半球型粒径的轮面； 将滚轮本体装入UV涂布机上；在透明膜层的表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层； 在透明膜层的另一表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层。
2.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法，其特征在于，所述在透明膜层的表面上 形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层包括在透明膜层的表面上均勻涂上一层液态高折射率的光学级丙烯酸酯； 复制轮面的凹半球型粒径形状而形成凸半球型粒径的珠体； 进行紫外线干燥。
3.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法，其特征在于，所述在透明膜层的另一表 面上形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层包括在透明膜层的另一表面上均勻涂上一层带有抗静电剂的液态高折射率的光学树脂； 复制轮面的凹半球型粒径形状而形成凸半球型粒径的珠体； 进行紫外线干燥。
4.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法，其特征在于，在对滚轮本体的轮面进行 微雕处理之前，还包括采用CNC技术对滚轮本体作一次粗研磨及二次精研磨。
5.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法，其特征在于，在形成具有凸半球型粒径 的珠体的扩散层时，轮面上凹半球型粒径的直径是3至15微米，表面粗糙度Ra值是0. 24 至0.8微米。
6.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法，其特征在于，在形成具有凸半球型粒径 的珠体的抗静电层时，轮面上凹半球型粒径的直径是3至15微米，表面粗糙度Ra值是0. 24 至0. 8微米或表面是150至400网目点。
7.一种采用权利要求1所述的扩散膜的制造方法制造的扩散膜，其特征在于，包括透 明膜层、扩散层、抗静电层，所述扩散层和抗静电层与透明膜层是一体设置的，并且扩散层 和抗静电层是相对设置的。
8.根据权利要求7所述的扩散膜，其特征在于，所述扩散层包括多个连续排列的凸半 球型粒径的珠体。
9.根据权利要求7所述的扩散膜，其特征在于，所述抗静电层包括多个稀散排列的凸 半球型粒径的珠体。
10.根据权利要求7所述的扩散膜，其特征在于，所述扩散层表面粗糙度Ra值是0.24 至0. 8微米或表面是150至300网目点。
全文摘要
本发明公开了一种扩散膜及其制造方法，所述扩散膜的制造方法包括选取一适当的滚轮本体；采用微雕切割技术制得所需规格的微米治具；利用微雕切割技术制得的微米治具在CNC技术操作下对滚轮本体的轮面进行微雕处理，制得具有光学微结构的凹半球型粒径的轮面；将滚轮本体装入UV涂布机上；在透明膜层的表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层；在透明膜层的另一表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层。本发明的扩散膜制造方法与传统的扩散膜的制造方法相比，具有不需要庞大的设备，制作工艺更易掌控，成品良率高的特点。所制作出的扩散膜具有优良的雾化扩散及高穿透效果，品质非常稳定，大幅降低了制作成本及节约资源。
文档编号B32B27/08GK102062884SQ2010105324
公开日2011年5月18日 申请日期2010年11月1日 优先权日2010年11月1日
发明者李明伟 申请人:李明伟