一种窗膜及其制备方法

一种窗膜及其制备方法
【专利摘要】本发明提供了一种窗膜，包括：柔性透明基材；设置在所述柔性透明基材表面的第一金属靶材膜；设置在所述第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜；设置在所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜；设置在所述第一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜；设置在所述第一含银金属膜表面的第二金属靶材膜；设置在所述第二金属靶材膜表面的第二高折射率化合物膜。本发明提供的这种窗膜具有较好的附着性，不易脱落。此外，本发明提供的这种窗膜还具有较好的抗氧化性，不易氧化。另外，本发明提供的这种窗膜还具有较好的光学效果和隔热效果。
【专利说明】一种窗膜及其制备方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及功能膜【技术领域】，尤其涉及一种窗膜及其制备方法。

【背景技术】
[0002] 窗膜常用于建筑的窗户或汽车车窗上，较早的窗膜是采用涂布工艺制备的，称为 太阳纸或茶纸，这种窗膜的主要作用是遮挡强烈的太阳光，基本不具备隔热的效果。
[0003] 经过人们的研究，采用以深层染色的手法加注吸热剂的工艺来制备窗膜，这种窗 膜能够吸收太阳光中的红外线从而达到隔热的效果，但是这种窗膜在吸收红外线的同时也 吸收了可见光，从而导致可见光的穿透率不够，清晰度较差；另外，这类窗膜的隔热功能衰 减较快，而且很容易褪色。
[0004] 为了改善上述窗膜的隔热性，人们采用真空热蒸发的工艺来制备窗膜，这种真空 热蒸发的工艺是将铝层蒸发于基材上，以达到隔热效果，这种方法制备的窗膜具备较持久 的隔热性，但是这种窗膜的清晰度还是较低，影响视野的舒适性，而且反光较高。
[0005] 为了提高窗膜的清晰度和降低反应性，目前采用金属磁控溅射工艺来制备窗膜， 磁控溅射工艺是将镍、银、钛、金等材料采用多腔高速旋转设备，利用电场与磁场的相互作 用，高速度高力量地将金属粒子均匀地溅射于高张力的PET基材上。磁控溅射工艺制备的 窗膜除了具备较好的金属质感、稳定的隔热性能外，还具备较高的清晰度以及低反光特性。
[0006] 申请号为201110403335.4的中国专利公开了一种低辐射镀膜玻璃及其制造方 法，所述镀膜包括多层电介质组合层和设置在相邻的所述电介质组合层之间的AZ0介质单 元层，所述AZ0介质单元层包括功能层和AZ0介质阻隔层，所述AZ0介质阻隔层敷设在所述 功能层的两侧。现有技术提供的这种低辐射镀膜具有可见光高透射、低反射，红外光低透 射、高反射的优点，但是这种低辐射镀膜的附着性较差，汽车车窗为具有一定曲面的玻璃， 无法在这种具有曲面的玻璃上直接镀膜，只能在柔性基材表面先镀上镀膜，然后将柔性基 材粘贴在汽车车窗玻璃上，由于这种低辐射镀膜的附着性差，容易在柔性基材上脱落，限制 了这种低辐射镀膜在窗膜领域的应用。


【发明内容】

[0007] 有鉴于此，本发明的目的在于提供一种窗膜，本发明提供的窗膜具有较好的附着 性。
[0008] 本发明提供了一种窗膜，包括：
[0009] 柔性透明基材，所述柔性透明基材作为衬底；
[0010] 设置在所述柔性透明基材表面的第一金属靶材膜；
[0011] 设置在所述第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜，所述第一高折射率化 合物膜的折射率选自2. 0?2. 5 ;
[0012] 设置在所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜，所述第一金属氧化 物膜的材质选自过渡族金属氧化物或锡的氧化物；
[0013] 设置在所述第一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜；
[0014] 设置在所述第一含银金属膜表面的第二金属靶材膜；
[0015] 设置在所述第二金属靶材膜表面的第二高折射率化合物膜，所述第二高折射率化 合物膜的折射率选自2. 0?2. 5。
[0016] 优选的，所述窗膜还包括：
[0017] 设置在所述第二高折射率化合物膜表面的第二金属氧化物膜，所述第二金属氧化 物膜的材质选自过渡族金属氧化物或锡的氧化物；
[0018] 设置在所述第二金属氧化物膜表面的第二含银金属膜；设置在所述第二含银金属 膜表面的第三金属靶材膜；
[0019] 设置在所述第三金属靶材膜表面的第三高折射率化合物膜，所述第三高折射率化 合物膜的折射率选自2. 0?2. 5。
[0020] 优选的，所述柔性透明基材的厚度选自20微米?30微米。
[0021] 优选的，所述第一金属靶材膜的材质、第二金属靶材膜的材质和第三金属靶材膜 的材质独立地选自Zn、Ti、Cu、Ni、NiCr或Cr。
[0022] 优选的，所述第一金属靶材膜、第二金属靶材膜和第三金属靶材膜的厚度独立地 选自 0? 2nm?0? 8nm。
[0023] 优选的，所述第一高折射率化合物膜、第二高折射率化合物膜和第三高折射率化 合物膜的折射率独立地选自2. 2?2. 3。
[0024] 优选的，所述第一高折射率化合物膜、第二高折射率化合物膜和第三高折射率化 合物膜的材质独立地选自Nb205、ITO、Si3N4、Sn02、Ti02或Ta02。
[0025] 优选的，所述第一高折射率化合物膜的厚度选自22nm?30nm。
[0026] 优选的，所述第一金属氧化物膜和第二金属氧化物膜的材质独立地选自氧化锌、 铝掺杂的氧化锌或氧化锡。
[0027] 优选的，所述第一金属氧化物膜和第二金属氧化物膜的厚度独立地选自lnm? 5nm〇
[0028] 优选的，所述第一含银金属膜和第二含银金属膜的材质独立地选自银合金。
[0029] 优选的，所述第一含银金属膜和第二含银金属膜的厚度独立地选自5nm?10nm。
[0030] 优选的，所述第二高折射率化合物膜的厚度选自22nm?28nm。
[0031] 优选的，所述第三高折射率化合物膜的厚度选自20nm?30nm。
[0032] 优选的，所述窗膜在380nm?780nm的可见光范围的透光率> 72% ;
[0033] 在780nm?2500nm的红外光范围的透光率< 10%。
[0034] 本发明提供的这种窗膜具有较好的附着性，能够较好的附着在柔性透明基材上， 不易脱落。实验结果表明，本发明提供的窗膜100/100不脱膜。
[0035] 此外，本发明提供的这种窗膜还具有较好的抗氧化性，不易氧化。实验结果表明， 本发明提供的窗膜在老化试验机（QUV)中进行2000小时的测试，色差值AE< 1 ;另外，本 发明提供的这种窗膜还具有较好的光学效果，尤其适于作为汽车的前挡窗膜。实验结果表 明，本发明提供的窗膜在380nm?780nm的可见光范围的透光率> 72 %;在780nm?2500nm 的红外光范围的透光率< 10% ;而且本发明提供的窗膜还具有较好的隔热效果，实验结果 表明，本发明提供的窗膜经过1500秒的红外灯照射，温度上升2°C?3°C。
[0036] 本发明提供了一种窗膜的制备方法，包括以下步骤：
[0037] 1)、将第一金属靶材磁控溅射在柔性透明基材表面，得到设置在所述柔性透明基 材表面的第一金属祀材膜；
[0038] 2)、在所述第一金属靶材膜的表面磁控溅射第一高折射率化合物，得到设置在所 述第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜，所述第一高折射率化合物的折射率选自 2. 0 ?2. 5 ;
[0039]3)、在所述第一高折射率化合物膜的表面磁控溅射第一金属氧化物，得到设置在 所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜，所述第一金属氧化物选自过渡族金 属氧化物或锡的氧化物；
[0040] 4)、在所述第一金属氧化物膜的表面磁控溅射第一含银金属，得到设置在所述第 一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜；
[0041] 5)、在所述第一含银金属膜的表面磁控溅射第二金属靶材，得到设置在所述第一 含银金属膜表面的第二金属靶材膜；
[0042] 6)、在所述第二金属靶材膜的表面磁控溅射第二高折射率化合物，得到窗膜，所述 第二高折射率化合物的折射率选自2. 0?2. 5。
[0043] 本发明提供的这种方法制备得到的窗膜具有较好的附着性，能够较好的附着在柔 性透明基材上，不易脱落。此外，本发明提供的这种方法制备得到的窗膜还具有较好的抗氧 化性、光学效果和隔热效果；另外，本发明提供的窗膜的制备方法工艺简单、操作简便，易于 实现量化生产。

【专利附图】

【附图说明】
[0044] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据 提供的附图获得其他的附图。
[0045] 图1为本发明实施例提供的窗膜的结构示意图；
[0046] 图2为本发明实施例1提供的窗膜的透光率图；
[0047] 图3为本发明实施例2提供的窗膜的透光率图；
[0048] 图4为本发明实施例3提供的窗膜的透光率图；
[0049] 图5为本发明实施例1提供的窗膜的隔热效果测试结果图；
[0050] 图6为本发明实施例4提供的窗膜的透光率图。

【具体实施方式】
[0051] 下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例 仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通 技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范 围。
[0052] 本发明提供了一种窗膜，包括：
[0053] 柔性透明基材，所述柔性透明基材作为衬底；
[0054] 设置在所述透明基材表面的第一金属靶材膜；
[0055] 设置在所述第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜，所述第一高折射率化 合物膜的折射率选自2. 0?2. 5 ;
[0056] 设置在所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜，所述第一金属氧化 物膜的材质选自过渡族金属氧化物或锡的氧化物；
[0057] 设置在所述第一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜；
[0058] 设置在所述第一含银金属膜表面的第二金属靶材膜；
[0059] 设置在所述第二金属靶材膜表面的第二高折射率化合物膜，所述第二高折射率化 合物膜的折射率选自2. 0?2. 5。
[0060] 本发明提供的窗膜包括柔性透明基材。本发明对所述柔性透明基材的种类和来源 没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的可用于制备窗膜的衬底材料即可，可由市场 购买获得。在本发明的实施例中，所述柔性透明基材可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET); 在其他的实施例中，所述柔性透明基材也可以为真空紫外线（UV)截止的PET。在本发明的 实施例中，所述UV截止的PET的截止波长可以为300nm?380nm。在本发明的实施例中，所 述UV截止的PET的透光率T< 2 %。在本发明的实施例中，所述UV截止的PET可以通过在 普通的PET中添加UV吸附剂制备得到。在本发明的实施例中，所述柔性透明基材的厚度可 以为20微米?30微米；在其他的实施例中，所述柔性透明基材的厚度可以为22微米?26 微米。
[0061] 本发明提供的窗膜包括设置在所述柔性透明基材表面的第一金属靶材膜。在本发 明中，所述第一金属靶材膜的材质为金属靶材。本发明对所述金属靶材的种类和来源没有 特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的金属靶材即可，可由市场购买获得。在本发明的 优选实施例中，所述第一金属祀材膜的材质可以为Zn、Ti、Cu、Ni、NiCr或Cr;在其他的优 选实施例中，所述第一金属祀材膜的材质可以为Ti、Cu、Ni或NiCr;在另外的优选实施例 中，所述第一金属靶材膜的材质可以为Ti或NiCr。在本发明的实施例中，所述第一金属靶 材膜的厚度可以为〇. 2nm?0. 8nm;在另外的实施例中，所述第一金属祀材膜的厚度可以为 0. 3nm?0. 5nm。在本发明中，设置在所述柔性基材表面的第一金属靶材膜具有较好的附着 力，从而使本发明提供的窗膜的附着性较好。
[0062] 本发明提供的窗膜包括设置在所述第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物 膜，所述第一高折射率化合物膜的折射率选自2. 0?2. 5。在本发明中，所述第一高折射率 化合物膜的材质为高折射率化合物，所述高折射率化合物的折射率选自2. 0?2. 5。在本发 明的实施例中，所述高折射率化合物的折射率可以选自2. 2?2. 3。在本发明的实施例中， 所述第一高折射率化合物膜的材质可以为Nb205、ITO、Si3N4、Sn02、Ti02或Ta02 ;在本发明的 优选实施例中，所述第一高折射率化合物膜的材质可以为Nb205、IT0、Si3N4或Sn02。本发明 对所述高折射率化合物的来源没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的上述种类的高 折射率化合物即可，可由市场购买获得。
[0063] 在本发明的实施例中，所述第一高折射率化合物膜的厚度可以为22nm?30nm;在 其他的实施例中，所述第一高折射率化合物膜的厚度可以为23nm?27nm。
[0064] 本发明提供的窗膜包括设置在所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化 物膜，所述第一金属氧化物膜的材质选自过渡族金属氧化物或锡的氧化物。在本发明的实 施例中，所述第一金属氧化物膜的材质可以为氧化锌、铝掺杂的氧化锌（AZO)或氧化锡。本 发明对所述过渡族金属氧化物或锡的氧化物的来源没有特殊的限制，采用本领域技术人员 熟知的上述种类的过渡族金属氧化物或锡的氧化物即可，可由市场购买获得。
[0065] 在本发明的实施例中，所述第一金属氧化物膜的厚度可以为lnm?5nm;在其他的 实施例中，所述第一金属氧化物膜的厚度可以为2nm?3nm。在本发明中，可以通过调整所 述第一金属氧化物膜的厚度对本发明提供的窗膜的色度进行微调。
[0066] 本发明提供的窗膜包括设置在所述第一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜。在 本发明中，所述第一含银金属膜的材质为含银金属。在本发明中，所述含银金属既可以为银 单质也可以为银合金。在本发明的优选实施例中，所述第一含银金属膜的材质可以为银合 金。在本发明的优选实施例中，所述银合金中银的质量含量可以> 98%,余量选自Zn、Cu、 In、Pt、Pd和Au中的一种或几种。本发明对所述含银金属的来源没有特殊的限制，采用本 领域技术人员熟知的银单质或银合金即可，可由市场购买获得，也可按照本领域技术人员 熟知的合金制备方法制备得到。
[0067] 在本发明的实施例中，所述第一含银金属膜的厚度可以为5nm?10nm;在其他的 实施例中，所述第一含银金属膜的厚度可以为6nm?8nm。在本发明中，所述第一含银金属 膜能够使本发明提供的窗膜具有较好的抗氧化性。本发明提供的窗膜包括设置在所述第 一含银金属膜表面的第二金属靶材膜。在本发明的实施例中，所述第二金属靶材膜的厚度 可以为0? 2nm?0? 8nm;在其他的实施例中，所述第二金属祀材膜的厚度可以为0? 3nm? 0. 5nm。在本发明中，可以通过调整所述第二金属靶材膜的厚度对本发明提供的窗膜的色度 进行微调。在本发明中，所述第二金属靶材膜可以对上述第一含银金属膜进行保护。
[0068] 在本发明中，所述第二金属靶材膜的材质为金属靶材。在本发明中，所述金属靶材 的种类和来源与上述技术方案所述金属靶材的种类和来源一致，在此不再赘述。在本发明 中，所述第一金属靶材膜和第二金属靶材膜可以相同，也可以不同。在本发明的优选实施例 中，所述第二金属靶材膜的材质可以为Ti或NiCr。
[0069] 本发明提供的窗膜包括设置在所述第二金属靶材膜表面的第二高折射率化合物 膜，所述第二高折射率化合物膜的折射率选自2. 0?2. 5。在本发明中，所述第二高折射率 化合物膜材质的种类和来源与上述技术方案所述第一高折射率化合物膜材质的种类和来 源一致，在此不再赘述。在本发明中，所述第一高折射率化合物膜和第二高折射率化合物膜 可以相同，也可以不同。在本发明的优选实施例中，所述第二高折射率化合物膜的材质可以 为Nb205、IT0、Si3N4 或Sn02。
[0070] 在本发明的实施例中，所述第二高折射率化合物膜的厚度可以为22nm?27nm;在 其他的实施例中，所述第二高折射率化合物膜的厚度也可以为23nm?26nm。
[0071] 在本发明的优选实施例中，所述窗膜还包括：
[0072] 设置在所述第二高折射率化合物膜表面的第二金属氧化物膜，所述第二金属氧化 物膜的材质选自过渡族金属氧化物或锡的氧化物；
[0073] 设置在所述第二金属氧化物膜表面的第二含银金属膜；
[0074] 设置在所述第二含银金属膜表面的第三金属靶材膜；
[0075] 设置在所述第三金属靶材膜表面的第三高折射率化合物膜，所述第三高折射率化 合物膜的折射率选自2. 0?2. 5。
[0076] 在本发明的优选实施例中，所述窗膜在包括第一金属祀材膜、第一高折射率化合 物膜、第一金属氧化物膜、第一含银金属膜、第二金属靶材膜和第二高折射率化合物膜组成 的第一结构的基础上，还包括第二金属氧化物膜、第二含银金属膜、第三金属靶材膜和第三 高折射率化合物膜组成的第二结构，所述第一结构和第二结构为重复的结构，因此，在本发 明的实施例中，当所述窗膜同时包括第一结构和第二结构时，第一结构中的第二高折射率 化合物膜的厚度可以是只包括第一结构的窗膜中第二高折射率化合物膜厚度的2倍。在本 发明的实施例中，当所述窗膜同时包括第一结构和第二结构时，所述第一结构中的第二高 折射率化合物膜的厚度可以为45nm?55nm。
[0077] 本发明提供的窗膜还包括设置在所述第二高折射率化合物膜表面的第二金属氧 化物膜，所述第二金属氧化物膜的材质选自过渡族金属氧化物或锡的金属氧化物。在本发 明中，所述第二金属氧化物膜可以对上述第一含银金属膜进行进一步地保护。在本发明中， 所述第二金属氧化物膜的厚度、第二金属氧化物膜材质的种类和来源与上述技术方案所述 第一金属氧化物膜的厚度、第一金属氧化物膜材质的种类和来源一致，在此不再赘述。在本 发明中，所述第一金属氧化物膜可以和第二金属氧化物膜相同，也可以不同。在本发明的实 施例中，所述第二金属氧化物膜的厚度可以为lnm?3nm。在本发明中，可以通过调节所述 第二金属氧化物膜的厚度对本发明提供的窗膜的色度进行微调。
[0078] 本发明提供的窗膜还包括设置在所述第二金属氧化物膜表面的第二含银金属膜。 在本发明中，所述第二含银金属膜的厚度、第二含银金属膜材质的种类和来源与上述技术 方案所述第一含银金属膜的厚度、第一含银金属膜材质的种类和来源一致，在此不再赘述。 在本发明中，所述第一含银金属膜可以和第二含银金属膜相同，也可以不同。在本发明的优 选实施例中，所述第二含银金属膜的材质可以为银合金。在本发明的实施例中，所述第二含 银金属膜的厚度可以为5nm?12nm。
[0079] 本发明提供的窗膜还包括设置在所述第二含银金属膜表面的第三金属靶材膜。在 本发明的实施例中，所述第三金属祀材膜的厚度可以为0. 2nm?0. 8nm;在其他的实施例 中，所述第三金属靶材膜的厚度可以为〇. 3nm?0. 5nm。在本发明中，可以通过调整所述第 三金属靶材膜的厚度对本发明提供的窗膜的色度进行微调。在本发明中，所述第三金属靶 材膜可以对上述第二含银金属膜进行保护。
[0080] 在本发明中，所述第三金属靶材膜的材质为金属靶材。在本发明中，所述第三金属 靶材膜材质的种类和来源与上述技术方案所述第一金属靶材膜材质的种类和来源一致，在 此不再赘述。在本发明中，所述第一金属靶材膜、第二金属靶材膜和第三金属靶材膜可以相 同，也可以不同。在本发明的优选实施例中，所述第三金属靶材膜的材质可以为Ti或NiCr。
[0081] 本发明提供的窗膜还包括设置在所述第三金属靶材膜表面的第三高折射率化合 物膜，所述第三高折射率化合物膜的折射率选自2. 0?2. 5。在本发明中，所述第三高折射 率化合物膜材质的种类和来源与上述技术方案所述第一高折射率化合物膜材质的种类和 来源一致，在此不再赘述。在本发明中，所述第一高折射率化合物膜、第二高折射率化合物 膜和第三高折射率化合物膜可以相同，也可以不同。在本发明的优选实施例中，所述第三高 折射率化合物膜的材质可以为Nb205、ITO、Si3N4或Sn02。
[0082] 在本发明的实施例中，所述第三高折射率化合物膜的厚度可以为20nm?30nm;在 其他的实施例中，所述第三高折射率化合物膜的厚度可以为23nm?29nm;在另外的实施例 中，所述第三高折射率化合物膜的厚度可以为24nm?26nm。
[0083]图1为本发明实施例提供的窗膜的结构示意图，如图1所示，本发明实施例提供的 窗膜包括PET，设置在所述PET表面的第一层Ti膜，设置在所述第一层Ti膜表面的第一层 高折射率化合物膜，设置在所述第一层高折射率化合物膜表面的第一层AZ0膜，设置在所 述第一层AZ0膜表面的第一层银合金膜，设置在所述第一层银合金膜表面的第二层Ti膜， 设置在所述第二层Ti膜表面的第二层高折射率化合物膜，设置在所述第二层高折射率化 合物膜表面的第二层AZ0膜，设置在所述第二层AZ0膜表面的第二层银合金膜，设置在所 述第二层银合金膜表面的第三层Ti膜，设置在所述第三层Ti膜表面的第三层高折射率化 合物膜；所述高折射率化合物和银合金与上述技术方案所述的高折射率化合物和银合金一 致，在此不再赘述。
[0084] 本发明提供了一种窗膜的制备方法，包括以下步骤：
[0085] 1)、将第一金属靶材磁控溅射在柔性透明基材表面，得到设置在所述柔性透明基 材表面的第一金属祀材膜；
[0086] 2)、在所述第一金属靶材膜表面磁控溅射第一高折射率化合物，得到设置在所述 第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜，所述第一高折射率化合物的折射率选自 2. 0 ?2. 5 ;
[0087] 3)、在所述第一高折射率化合物膜表面磁控溅射第一金属氧化物，得到第设置在 所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜，所述第一金属氧化物选自过渡族金 属氧化物或锡的氧化物；
[0088] 4)、在所述第一金属氧化物膜的表面磁控溅射第一含银金属，得到设置在所述第 一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜；
[0089] 5)、在所述第一含银金属膜的表面磁控溅射第二金属靶材，得到设置在所述第一 含银金属膜表面的第二金属靶材膜；
[0090] 6)、在所述第二金属靶材膜的表面磁控溅射第二高折射率化物，得到窗膜，所述第 二高折射率化合物的折射率选自2. 0?2. 5。
[0091] 在本发明的优选实施例中，所述窗膜的制备方法还包括：
[0092] 在所述第二高折射率化合物膜的表面磁控溅射第二金属氧化物，得到设置在所述 第二高折射率化合物膜表面的第二金属氧化物膜，所述第二金属氧化物选自过渡族金属氧 化物或锡的氧化物；
[0093] 在所述第二金属氧化物膜的表面磁控溅射第二含银金属，得到设置在所述第二氧 化物膜表面的第二含银金属膜；
[0094] 在所述第二含银金属膜的表面磁控溅射第三金属靶材，得到设置在所述第二含银 金属膜表面的第三金属靶材膜；
[0095] 在所述第三金属靶材膜的表面磁控溅射第三高折射率氧化物，得到窗膜，所属第 三高折射率氧化物的折射率选自2. 0?2. 5。
[0096] 本发明将第一金属靶材磁控溅射在柔性透明基材表面，得到设置在所述柔性透明 基材表面的第一金属靶材膜。在本发明中，所述金属靶材和柔性透明基材的种类和来源与 上述技术方案所述的金属靶材和柔性透明基材的种类和来源一致，在此不再赘述。在本发 明中，所述第一金属靶材膜的厚度与上述技术方案所述第一金属靶材膜的厚度一致，在此 不再赘述。本发明对将所述第一金属靶材磁控溅射在柔性透明基材表面的方法没有特殊的 限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即可。在本发明的实施例中，将所述 第一金属靶材磁控溅射在柔性基材表面的溅射气体可以为Ar气。在本发明的实施例中，可 以通过控制磁控溅射的功率调整所述第一金属靶材膜的厚度。
[0097]得到第一金属靶材膜后，本发明在所述第一金属靶材膜的表面磁控溅射第一高折 射率化合物，得到设置在所述第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜，所述第一高 折射率化合物的折射率选自2. 0?2. 5。在本发明中，所述第一高折射率化合物的种类和 来源与上述技术方案所述的高折射率化合物的种类和来源一致，在此不再赘述。在本发明 中，所述第一高折射率化合物膜的厚度与上述技术方案所述第一高折射率化合物膜的厚度 一致，在此不再赘述。本发明对将所述第一高折射率化合物磁控溅射在第一金属靶材膜表 面的方法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即可。在本发 明的实施例中，将所述第一高折射率化合物磁控溅射在第一金属靶材膜表面的溅射气体可 以为Ar气。在本发明的实施例中，将所述第一高折射率化合物磁控溅射在第一金属靶材膜 表面的反射气体可以为Ar气和氧气。在本发明的实施例中，可以通过控制磁控溅射的功率 调整所述第一高折射率化合物膜的厚度。
[0098]得到第一高折射率化合物膜后，本发明在所述第一高折射率化合物膜的表面磁控 溅射第一金属氧化物，得到设置在所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜。 在本发明中，所述第一金属氧化物的种类和来源与上述技术方案所述的金属氧化物的种类 和来源一致，在此不再赘述。在本发明中，所述第一金属氧化物膜的厚度与上述技术方案所 述第一金属氧化物膜的厚度一致，在此不再赘述。本发明对将所述第一金属氧化物磁控溅 射在第一高折射率化合物膜表面的方法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控 溅射的技术方案即可。在本发明的实施例中，将所述第一金属氧化物磁控溅射在第一高折 射率化合物膜表面的溅射气体可以为Ar气。在本发明的实施例中，将所述第一金属氧化物 磁控溅射在第一高折射率化合物膜表面的反射气体可以为Ar气和氧气。在本发明的实施 例中，可以通过控制磁控溅射的功率调整所述第一金属氧化物膜的厚度。
[0099]得到第一金属氧化物膜后，本发明在所述第一金属氧化物膜的表面磁控溅射第一 含银金属，得到设置在所述第一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜。在本发明中，所述 第一含银金属的种类和来源与上述技术方案所述的含银金属的种类和来源一致，在此不再 赘述。在本发明中，所述第一含银金属膜的厚度与上述技术方案所述第一含银金属膜的厚 度一致，在此不再赘述。本发明对将所述第一含银金属磁控溅射在第一金属氧化物膜表面 的方法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即可。在本发明 的实施例中，将所述第一含银金属磁控溅射在第一金属氧化物膜表面的溅射气体可以为Ar 气。在本发明的实施例中，可以通过控制磁控溅射的功率调整所述第一含银金属膜的厚度。 [0100] 得到第一含银金属膜后，本发明将第二金属靶材磁控溅射在所述第一含银金属膜 的表面，得到设置在所述第一含银金属膜表面的第二金属靶材膜。在本发明中，所述第二金 属靶材的种类和来源与上述技术方案所述的金属靶材的种类和来源一致，在此不再赘述。 在本发明中，所述第一金属靶材可以和第二金属靶材相同，也可以不同。在本发明中，所述 第二金属靶材膜的厚度与上述技术方案所述第二金属靶材膜的厚度一致，在此不再赘述。 本发明对将所述第二金属靶材磁控溅射在第一含银金属膜表面的方法没有特殊的限制，采 用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即可。在本发明的实施例中，将所述第二金 属靶材磁控溅射在第一含银金属膜表面的溅射气体可以为Ar气。在本发明的实施例中，可 以通过控制磁控溅射的功率调整所述第二金属靶材膜的厚度。
[0101] 得到第二金属靶材膜后，本发明在所述第二金属靶材膜的表面磁控溅射第二高折 射率化合物，得到设置在所述第二金属靶材膜表面的第二高折射率化合物膜，所述第二高 折射率化合物的折射率选自2. 0?2. 5。在本发明中，所述第二高折射率化合物的种类和来 源与上述技术方案所述的高折射率化合物的种类和来源一致，在此不再赘述。在本发明中， 所述第一高折射率化合物可以和第二高折射率化合物相同，也可以不同。在本发明中，所述 第二高折射率化合物膜的厚度与上述技术方案所述第二高折射率化合物膜的厚度一致，在 此不再赘述。本发明对将所述第二高折射率化合物磁控溅射在第二金属靶材膜表面的方 法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即可。在本发明的实 施例中，将所述第二高折射率化合物磁控溅射在第二金属靶材膜表面的溅射气体可以为Ar 气。在本发明的实施例中，将所述第二高折射率化合物磁控溅射在第二金属靶材膜表面的 反射气体可以为Ar气和氧气。在本发明的实施例中，可以通过控制磁控溅射的功率调整所 述第二高折射率化合物膜的厚度。
[0102] 在本发明的优选实施例中，得到第二高折射率化合物膜后，本发明在所述第二高 折射率化合物膜的表面磁控溅射第二金属氧化物，得到设置在所述第二高折射率化合物膜 表面的第二金属氧化物膜。在本发明中，所述第二金属氧化物的种类和来源与上述技术方 案所述的金属氧化物的种类和来源一致，在此不再赘述。在本发明中，所述第一金属氧化物 可以和第二金属氧化物相同，也可以不同。在本发明中，所述第二金属氧化物膜的厚度与上 述技术方案所述第二金属氧化物膜的厚度一致，在此不再赘述。本发明对将所述第二金属 氧化物磁控溅射在第二高折射率化合物膜表面的方法没有特殊的限制，采用本领域技术人 员熟知的磁控溅射的技术方案即可。在本发明的实施例中，将所述第二金属氧化物磁控溅 射在第二高折射率化合物膜表面的溅射气体可以为Ar气。在本发明的实施例中，将所述第 二金属氧化物磁控溅射在第二高折射率化合物膜表面的反射气体可以为Ar气和氧气。在 本发明的实施例中，可以通过控制磁控溅射的功率调整所述第二金属氧化物膜的厚度。
[0103] 在本发明的优选实施例中，得到第二金属氧化物膜后，本发明在所述第二金属氧 化物膜的表面磁控溅射第二含银金属，得到设置在所述第二金属氧化物膜表面的第二含银 金属膜。在本发明中，所述第二含银金属的种类和来源与上述技术方案所述的含银金属的 种类和来源一致，在此不再赘述。在本发明中，所述第一含银金属可以和第二含银金属相 同，也可以不同。在本发明中，所述第二含银金属膜的厚度与上述技术方案所述第二含银金 属膜的厚度一致，在此不再赘述。本发明对将所述第二含银金属磁控溅射在第二金属氧化 物膜表面的方法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即可。 在本发明的实施例中，将所述第二含银金属磁控溅射在第二金属氧化物膜表面的溅射气体 可以为Ar气。在本发明的实施例中，可以通过控制磁控溅射的功率调整所述第二含银金属 膜的厚度。
[0104] 在本发明的优选实施例中，得到第二含银金属膜后，本发明将第三金属靶材磁控 溅射在第二含银金属膜的表面，得到设置在所述第二含银金属膜表面的第三金属靶材膜。 在本发明中，所述第三金属靶材的种类和来源与上述技术方案所述的金属靶材的种类和来 源一致，在此不再赘述。在本发明中，所述第一金属靶材、第二金属靶材和第三金属靶材可 以相同，也可以不同。在本发明中，所述第三金属靶材膜的厚度与上述技术方案所述第三 金属靶材膜的厚度一致，在此不再赘述。本发明对将所述第三金属靶材磁控溅射在第二含 银金属膜表面的方法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即 可。在本发明的实施例中，将所述第三金属靶材磁控溅射在第二含银金属膜表面的溅射气 体可以为Ar气。在本发明的实施例中，可以通过控制磁控溅射的功率调整所述第三金属靶 材膜的厚度。
[0105] 在本发明的优选实施例中，得到第三金属靶材膜后，本发明在所述第三金属靶材 膜的表面磁控溅射第三高折射率化合物，得到窗膜，所述第三高折射率化合物的折射率选 自2. 0?2. 5。在本发明中，所述第三高折射率化合物的种类和来源与上述技术方案所述 的高折射率化合物的种类和来源一致，在此不再赘述。在本发明中，所述第一高折射率化 合物、第二高折射率化合物和第三高折射率化合物可以相同，也可以不同。在本发明中，所 述第三高折射率化合物膜的厚度与上述技术方案所述第三高折射率化合物膜的厚度一致， 在此不再赘述。本发明对将所述第三高折射率化合物磁控溅射在第三金属靶材膜表面的方 法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射的技术方案即可。在本发明的实 施例中，将所述第三高折射率化合物磁控溅射在第三金属靶材膜表面的溅射气体可以为Ar 气。在本发明的实施例中，将所述第三高折射率化合物磁控溅射在第三金属靶材膜表面的 反射气体可以为Ar气和氧气。在本发明的实施例中，可以通过控制磁控溅射的功率调整所 述第三高折射率化合物膜的厚度。
[0106] 本发明提供的这种方法制备得到的窗膜具有较好的附着性，能够较好的附着在柔 性透明基材上，不易脱落。此外，本发明提供的这种方法制备得到的窗膜还具有较好的抗氧 化性、光学效果和隔热效果；另外，本发明提供的窗膜的制备方法工艺简单、操作简便，易于 实现量化生产。
[0107] 按照ASTMD1003《透明塑料透光率和雾度试验方法》的标准，采用分光光度计测 试本发明提供的窗膜在380nm?780nm范围的可见光的透光率VLT，测试结果为，本发明提 供的窗膜的VLT> 70% ;采用分光光度计测试本发明提供的窗膜在在380nm?780nm范围 的可见光的反射率VLR，测试结果为，本发明提供的窗膜的VLRS9. 5%;采用分光光度计测 试本发明提供的窗膜在780nm?2500nm范围的红外光的透光率IRT，测试结果为，本发明提 供的窗膜的IRT< 8%;采用分光光度计测试本发明提供的窗膜的太阳能阻隔率TSER，所述 太阳能阻隔率为被阻隔的太阳能量（主要是可见光、红外线和紫外线）与照射在物体表面 的太阳能量之比，测试结果为，本发明提供的窗膜的TSER> 50%。本发明提供的窗膜具有 较好的光学效果。
[0108] 按照ASTMD3359《用胶带测量附着力的检测标准》，测试本发明提供的窗膜的附 着性，测试结果为，本发明提供的窗膜100/100不脱模。本发明提供的窗膜具有较好的附着 性。
[0109] 将本发明提供的窗膜采用安装胶粘贴在汽车前挡玻璃表面；将粘贴窗膜的前挡玻 璃放在老化试验机（QUV)中，每隔5天测试其光学性能，共进行2000小时的测试；按照下述 公式计算其色差值（AE):
[0110]

【权利要求】
1. 一种窗膜，包括： 柔性透明基材，所述柔性透明基材作为衬底； 设置在所述柔性透明基材表面的第一金属靶材膜； 设置在所述第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜，所述第一高折射率化合物 膜的折射率选自2.0?2.5 ; 设置在所述第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜，所述第一金属氧化物膜 的材质选自过渡族金属氧化物或锡的氧化物； 设置在所述第一金属氧化物膜表面的第一含银金属膜； 设置在所述第一含银金属膜表面的第二金属靶材膜； 设置在所述第二金属靶材膜表面的第二高折射率化合物膜，所述第二高折射率化合物 膜的折射率选自2.0?2. 5。
2. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，还包括： 设置在所述第二高折射率化合物膜表面的第二金属氧化物膜，所述第二金属氧化物膜 的材质选自过渡族金属氧化物或锡的氧化物； 设置在所述第二金属氧化物膜表面的第二含银金属膜；设置在所述第二含银金属膜表 面的第三金属靶材膜； 设置在所述第三金属靶材膜表面的第三高折射率化合物膜，所述第三高折射率化合物 膜的折射率选自2.0?2. 5。
3. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述柔性透明基材的厚度选自20微米? 30微米。
4. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一金属祀材膜的材质和第二金属 靶材膜的材质独立地选自Zn、Ti、Cu、Ni、NiCr或Cr。
5. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一金属靶材膜的厚度和第二金属 革巴材膜的厚度独立地选自0. 2nm?0. 8nm。
6. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一高折射率化合物膜的折射率和 第二高折射率化合物膜的折射率独立地选自2. 2?2. 3。
7. 根据权利要求1的窗膜，其特征在于，所述第一高折射率化合物膜和第二高折射率 化合物膜的材质独立地选自Nb205、ITO、Si3N4、Sn0 2、Ti02或Ta02。
8. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一高折射率化合物膜的厚度选自 22nm ?30nm。
9. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一金属氧化物膜和第二金属氧化 物膜的材质独立地选自氧化锌、氧化锡或铝掺杂的氧化锌。
10. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一金属氧化物膜和第二金属氧化 物膜的厚度独立地选自lnm?5nm。
11. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一含银金属膜的材质选自银或银 合金。
12. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第一含银金属膜的厚度选自5nm? 12nm。
13. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述第二高折射率化合物膜的厚度选自 22nm ?27nm〇
14. 根据权利要求2所述的窗膜，其特征在于，所述第三高折射率化合物膜的厚度选自 20nm ?30nm。
15. 根据权利要求1所述的窗膜，其特征在于，所述窗膜在380nm?780nm的可见光范 围的透光率> 72% ; 在780nm?2500nm的红外光范围的透光率< 10%。
16. -种窗膜的制备方法，包括以下步骤： 1) 、将第一金属靶材磁控溅射在柔性透明基材表面，得到设置在所述柔性透明基材表 面的第一金属靶材膜； 2) 、在所述第一金属靶材膜的表面磁控溅射第一高折射率化合物，得到设置在所述 第一金属靶材膜表面的第一高折射率化合物膜，所述第一高折射率化合物的折射率选自 2. 0 ?2. 5 ; 3) 、在所述第一高折射率化合物膜的表面磁控溅射第一金属氧化物，得到设置在所述 第一高折射率化合物膜表面的第一金属氧化物膜，所述第一金属氧化物选自过渡族金属氧 化物或锡的氧化物； 4) 、在所述第一金属氧化物膜的表面磁控溅射第一含银金属，得到设置在所述第一金 属氧化物膜表面的第一含银金属膜； 5) 、在所述第一含银金属膜的表面磁控溅射第二金属靶材，得到设置在所述第一含银 金属膜表面的第二金属靶材膜； 6) 、在所述第二金属靶材膜的表面磁控溅射第二高折射率化合物，得到窗膜，所述第二 高折射率化合物的折射率选自2. 0?2. 5。
【文档编号】B32B9/04GK104401062SQ201410725141
【公开日】2015年3月11日 申请日期:2014年12月3日 优先权日:2014年12月3日
【发明者】张玉春, 徐明鸿 申请人:张家港康得新光电材料有限公司