磁定向装置和印刷设备的制作方法

本申请涉及磁定向，特别是涉及一种磁定向装置和印刷设备。

背景技术：

1、当今防伪技术扮演着非常重要的角色，各种安全文件、货币以及名贵商品包装印刷上都能见到它们的身影。市场对防伪的技术要求为“易于识别，难于仿造”。flex公司首先研发出了防伪光变颜料，公开了磁场作用下控制磁碎片的定向排布产生图案的方法，有非常强的防伪作用，并且“易于识别，难于仿造”。

2、但这种通过磁场来印刷防伪图案的方法不多，美观性欠缺，难以跟上日益增长的市场需求，而且用于形成磁场的磁定向装置包含种类过多的磁体，结构复杂，成本高，效果单调。

技术实现思路

1、本申请至少提供一种磁定向装置和印刷设备，通过磁性体的简单组合就可以形成印刷防伪图案的复合磁场。

2、本申请第一方面提供了一种磁定向装置，该磁定向装置由至少两个磁性体组成；

3、至少两个磁性体环绕沿第一方向延伸的参考线排列，且至少两个磁性体关于参考线的中心对称；

4、在磁定向装置的使用状态，至少两个磁性体的磁轴均平行于承印衬底的主表面。

5、在一实施例中，至少两个磁性体的轴线或轴线的延长线与参考线相交。

6、在一实施例中，磁性体的轴线垂直于磁性体的中性面，且至少两个磁性体的中性面与参考线相交。

7、在一实施例中，磁性体为椭磁体，轴线为椭磁体的长轴。

8、在一实施例中，磁性体的数量为6，6个磁性体呈以参考线为中心的中心对称设置，且相邻两个磁性体的轴线之间的夹角为60°；或，

9、磁性体的数量为8，8个磁性体呈以参考线为中心的中心对称设置，且相邻两个磁性体的轴线之间的夹角为45°；或，

10、磁性体的数量为12，12个磁性体呈以参考线为中心的中心对称设置，且相邻两个磁性体的轴线之间的夹角为30°；或，

11、磁性体的数量为3，3个磁性体呈以参考线为中心的中心对称设置，且相邻两个磁性体的轴线之间的夹角为120°。

12、在一实施例中，至少两个磁性体形成旋风形布置。

13、在一实施例中，相邻两个磁性体异极相对或同极相对，或，

14、至少两个磁性体中部分磁性体的同极相对，另一部分磁性体异极相对。

15、在一实施例中，磁性体的长度范围为5mm～100mm，磁性体的宽度范围为1～20mm，磁性体的高度范围为5～50mm，磁性体的磁场强度范围为200mt～500mt。

16、在一实施例中，在磁定向装置的使用状态，第一方向指向承印衬底的主表面；

17、磁性体与承印衬底沿第一方向上的间距范围为0mm～100mm。

18、本申请第一方面提供了一种印刷设备，印刷设备包括上述的磁定向装置。

19、本申请的有益效果是：至少两个磁性体环绕沿第一方向延伸的参考线排列，且至少两个磁性体关于参考线的中心对称；如此这至少两个磁性体磁场相互作用，使得磁定向装置的磁场变得较为复杂，从而可提高由至少两个磁性体构成的磁定向装置定向出的图案的防伪性能，而且由于至少两个磁性体关于参考线的中心对称，使得磁定向装置的磁场也可以是对称的，可以使得由至少两个磁性体构成的磁定向装置定向出的图案较为美观。且本申请的磁定向装置的结构简单，磁体采用常用磁铁，无需对磁体进行特殊加工，而且磁体的位置固定，不仅在印制速度、数量和方式上都占有一定的优势，而且印制的图案的一致性较好。

20、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，而非限制本申请。

技术特征：

1.一种磁定向装置，其特征在于，所述磁定向装置仅由至少两个磁性体组成；

2.根据权利要求1所述的磁定向装置，其特征在于，所述磁性体的轴线位于所述磁性体的中性面上，且所述至少两个磁性体的中性面与所述参考线相交。

3.根据权利要求2所述的磁定向装置，其特征在于，所述磁性体为椭磁体，所述轴线为椭磁体的长轴。

4.根据权利要求1所述的磁定向装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的磁定向装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的磁定向装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的磁定向装置，其特征在于，所述磁性体的长度范围为5mm～100mm，所述磁性体的宽度范围为1～20mm，所述磁性体的高度范围为5～50mm，所述磁性体的磁场强度范围为200mt～500mt。

8.根据权利要求1所述的磁定向装置，其特征在于，在所述磁定向装置的使用状态，所述第一方向指向承印衬底的主表面；

9.一种印刷设备，其特征在于，所述印刷设备包括如权利要求1-8任一项所述的磁定向装置。

技术总结
本申请公开了一种磁定向装置和印刷设备。磁定向装置由至少两个磁性体组成；至少两个磁性体环绕沿第一方向延伸的参考线排列，且至少两个磁性体关于参考线的中心对称；在磁定向装置的使用状态，至少两个磁性体的磁轴均平行于承印衬底的主表面。本申请通过磁性体的简单组合就可以形成印刷防伪图案的复合磁场。

技术研发人员：王于萌,王普
受保护的技术使用者：惠州市华阳光学技术有限公司
技术研发日：20230317
技术公布日：2024/3/4