专利名称：一种荧光防伪印章的制作工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种荧光防伪印章的制作工艺。
目前的印章一般章面与章体都是作为一个整体来加工，这样的话，加工质地好的印章，制作成本就高；而象原子印章和橡皮印章等这类印章，虽然章面是单独加工的，但这类印章性能上要求章面只能用软质地的材料加工，造成这类章面有图案还原性差、易受温度、湿度影响、且易损坏、使用寿命低等缺点。在防伪性能方面，现在还没有对章面作防伪处理的作法。
本发明的目的在于提供一种铜质的、并作了防伪处理的章面的制作方法。
为了实现上述目的，本发明采用的制造工艺包括照排、照像、显影、第一次修正、晒版、铜版磨版、涂布感光液、曝光、显影、坚膜、高温热处理、修版、烂版、初腐、深度腐蚀、第三次修正、裁切、冲压、成品等工序，即先通过激光照排设计好所需印章的尺寸、图案及防伪所需的复杂线条、文字等，然后将这一照排稿照像，经曝光、显影、定影后得出和原件相符的阴图软片，再将软片放在已磨好的并上有感光胶的铜版上进行曝光，使阴片上的图案真实地再现在铜版版基上，再对印上图案的铜版进行热处理，为烂版作准备，这时候，如发现图案有变形之处，须用磁漆作修正，用恒温将铜版烘干，再对铜版版基作防腐处理，然后，将铜版浸入腐蚀液中进行腐蚀，得出清晰的图案，完成后将铜版进行水洗，经裁切、冲压成型后，制成章面。
下面结合实施例作进一步说明。
照排设计公章的尺寸、文字时，在文字中设计一些不规则的细丝线，并在文字中设计一个空心，即只有极细边缘线、而中空的图案，这些是作为防伪用的，把这一原稿经照像、曝光、显影、定影后，制作成阴图软片，将这一软片晒版后，再现于铜版上，对铜版进行热处理，以26℃的恒温烘干，用磁漆涂于保留的图案表面和铜版反面，再放入浓度为23度的腐蚀液中腐蚀，经40分钟后，取出已腐蚀好的铜版水洗经裁切、冲压后成型。在这种浓度的腐蚀液中，腐蚀范围由宽到狭，使图案呈一个5度的坡度，字体真实，而防伪细纹由于线条较细，经腐蚀后，这一细纹面将自然稍低于主图案面，盖章时只会在主图案背景中隐现，不会影响章面的清晰，这一防伪丝线的形状可以预先选定，并作为鉴别真伪的依据。在公章的下方设计有单位代码，这是另一防伪标志，只要在印油的固定位置装上无色荧光印油，以单位代码沾上无色荧光印油，便可用紫外线识别器在盖出的章印上发现它。
本发明特别适用于制作铜质章面的防伪印章。
权利要求
1.一种荧光防伪印章的制作工艺，其特征在于它是一种铜质章面的制作工艺包括照排、照像、显影、晒版、铜版磨版、涂布感光液、曝光、显影、坚膜、高温热处理、修版、烂版、初腐、深度腐蚀、水洗、裁切、冲压、成型等工序。
2.根据权利要求1所述的防伪印章制作工艺，其特征在于照排时将设计在主图案中的防伪复杂线条和空心图案以细丝线来体现。
3.根据权利要求1所述的防伪印章，其特征在于腐蚀液的浓度为23～27，腐蚀时间为40分钟，在这个浓度时间内，对铜质章面的腐蚀由宽到狭，并使防伪细纹线面稍低于主图案面。
全文摘要
一种荧光防伪印章的制作工艺涉及一种制造防伪印章的工艺方法，包括照排、照像、显影、晒版、铜版磨版、曝光、显影、高温热处理、修版、烂版、初腐、深度腐蚀、裁切、冲压、成品等工序，在章面中有隐形防伪细线。采用本发明制作的章面具有制作成本低、质地好的特点，可以适用于各类印章以及在各种印章结构中作章面，印章中的单位代码用无色荧光印油盖印，并可通过紫外识别器识别，因而具有防伪功能。本发明特别适用于制作铜质章面的防伪印章。
文档编号B41K1/00GK1138529SQ96105010
公开日1996年12月25日 申请日期1996年5月15日 优先权日1996年5月15日
发明者付华明 申请人:付华明