有机电致发光显示器件组件的制作方法

文档序号:2640722阅读:147来源:国知局
专利名称:有机电致发光显示器件组件的制作方法
技术领域
本发明涉及有机电致发光(EL)显示器件,更具体而言,涉及从有机膜中发出的光具有改进的光射出效率(optical bleedingefficiency)的有机EL显示器件。
背景技术
有机EL显示器件是通过电激发荧光有机化合物发光的自发发光显示器件。典型地,有机EL显示器件可以工作在低电压,可以紧凑地构成薄设备,并提供宽视角和高响应速度。由于可以作为克服了液晶显示器件问题的下一代显示器件,有机EL显示器件成为广泛关注的焦点。
在这样的有机EL显示器件中,有机膜在玻璃或透明绝缘衬底上按预先确定的图形形成,电极层则形成于有机膜图形的上、下表面上。有机膜可以由多种有机化合物制成,例如酞菁铜(CuPc),N,N’-二(1-萘基)-N,N’-二苯基联苯胺(NPB)或三-8-羟基喹啉铝(Alq3)。
在具有上文所描述结构的有机EL显示器件中,当正电压和负电压被施加到电极上时,填充的空穴就通过空穴传输层从施加正电压的电极向发光层迁移,而电子通过空穴传输层从施加负电压的电极向发光层迁移。空穴与电子在发光层中复合形成激子。当激子去激时,发光层中的荧光分子发光,因此形成图像。
按上文描述方式驱动的有机EL显示器件的发光效率包括内部效率和外部效率(或光射出效率)。内部效率与有机发光材料的光电转换效率有关,而外部发光效率取决于组成有机EL显示器件的各层材料的折射率。换句话说,当光从有机膜中以临界角或更大的角度发射出时,所发出的光被衬底和电极层之间的界面或有机膜和电极层之间的界面反射。因此,发出的光将无法射出。
在附图1所示的传统有机EL显示器件中,当从被金属阴极层14保护的有机膜13中发出的光,通过氧化铟锡(ITO)电极12与透明玻璃衬底11之间的界面传输至透明玻璃衬底11时,透光率T由T=1/2(nglass/nITO)2给出,其中nglass表示玻璃的折射率,nITO表示ITO的折射率。
根据以上计算式,下表给出了不同颜色的传统有机EL显示器件的光射出效率。

如上表所示,由于ITO电极和玻璃衬底的折射率的差异,有机EL显示器件所产生的光有60%或更多都消失在器件内部。
在日本专利公开号为hei 11-283751中公开的有机EL显示器件的结构中,衍射光栅或波带片形成于衬底之上,使由ITO电极及ITO电极与有机膜之间的界面所引导的光发生衍射,以此减少光损耗。由于这种有机EL显示器件需要波状衬底、波状细电极图形层或是特殊的衍射光栅,所以其制造过程复杂。此外,当有机层形成于波状表面或是衍射光栅之上时,有机层的表面照度将增加。这样,有机EL显示器件的漏电流将增加,而耐用性及可靠性将下降。
在日本专利公开号为sho 63-172691中公开了一种可以阻止光射出效率减低的传统有机EL显示器件的示例。公开的有机EL显示器件包括一个压缩的衬底,例如其上安装有凸透镜的衬底。然而,由于依赖于有机膜发光而形成的像素非常小,就压缩而言,因此很难在衬底上安装凸透镜。
在日本专利公开号为hei 1-220394中公开的有机EL显示器件中,下部电极、绝缘层、发光层和上部电极形成于衬底之上,发光层的单一面上安装了反射镜用于反射光。对这种有机EL显示器件,由于发光层很薄,因此在发光层的一侧安装反射镜是很困难的。
然而,在日本专利公开号为hei 9-171892中公开的有机EL显示器件中,阳极和阳极界面层形成于其上安装有透镜形状结构的玻璃衬底之上,在所得到的玻璃衬底上形成空穴传输层、发光层、电子传输层、阴极和阳极保护层。在这种有机EL显示器件中,由于反射光照向玻璃衬底,因此光射出效率增加,但是图像变得模糊。
在日本专利公开号为hei 10-12382中公开的有机EL显示器件中,在有机发光器件的前电极与一组结合在光导前表面的小透镜之间形成光导,这样发出的光被导向前电极,因此光均匀照射出。
在美国专利公开号为2001/0019242A1中也公开了有机EL显示器件及其制造方法。

发明内容
本发明提供了一种有机EL显示器件组件,其减少了内部光损耗,并提高了光射出效率而提高了图像亮度。
本发明还提供了一种有机EL显示器件,它利用高折射率层与低折射率层之间界面上的散射效率来减少光损耗。
根据本发明的一种实施方案,一种有机电致发光(EL)显示器件组件包括衬底、有机EL部分、光损耗防止层(optical loss preventionlayer)和微隙层(fine space layer)。有机EL部分包含第一电极层、有机发光层和第二电极层,它们被分别构图并堆叠在衬底的上表面上。光损耗防止层提高光射出效率。微隙层形成于光损耗防止层和面对光损耗防止层的层之间,并且使用气体填充或者抽成真空。
光损耗防止层是具有形成图形的多个凸起的衍射光栅形成单元。
根据本发明的另一种实施方案,一种有机EL显示器件组件包含衬底、有机EL显示部分、光子板和微隙层。有机EL显示部分包含第一电极层、有机发光层和第二电极层,它们被分别构图并堆叠在衬底的上表面上。光子板与有机EL显示部分相结合并具有在有机EL显示部分之上形成的光损耗防止层。微隙层形成于光损耗防止层和光子板之间,并提高了有机发光层产生的光的光射出效率。
根据本发明的另一种实施方案,一种有机EL显示器件组件包含衬底、第一和第二电极层、有机发光层、光损耗防止层和间隙层。第一电极层、有机发光层和第二电极层依次堆叠于衬底的上表面上。光损耗防止层在第一电极层、第二电极层和有机发光部分中具有相当大折射率差异的层之间形成,并包含具有不同折射率的区域。间隙层形成于光损耗防止层和面对光损耗防止层的层之间,并且使用气体填充或者抽成真空。
根据本发明的另外一种实施方案,有机EL显示器件组件包含衬底、像素部分、驱动部分和光子板(photonic plate)。像素部分具有在衬底上形成图形的第一电极层,在第一电极层上表面形成图形的有机发光层,在衬底上表面上形成的绝缘层以暴露有机发光层,和在有机发光层的上表面和绝缘层上表面上形成图形的透明的第二电极层。驱动部分形成在衬底上,包含控制第一电极层开关的薄膜晶体管。光子板位于透明的第二电极层上表面上,以形成了使用惰性气体填充或者被抽成真空并位于光子板和第二电极层之间的微隙层,同时具有在光子板内表面上形成的光损耗防止层。
根据本发明的另外一种实施方案,有机EL显示器件组件包含衬底、像素部分、驱动部分、光损耗防止层和光子板。像素部分包括在衬底上形成图形的第一电极层,在第一电极层上表面形成图形的有机发光层,在衬底的上表面上形成的绝缘层以暴露有机发光层,和在有机发光层的上表面和绝缘层上表面上形成图形的透明的第二电极层。驱动部分形成在衬底上,包含控制第一电极层开关的薄膜晶体管。光损耗防止层形成于衬底和第一电极层之间,并且包括具有不同折射率的图形化的区域。间隙层在光损耗防止层和面对光损耗防止层的层之间形成,由惰性气体填充或者被抽成真空。
根据本发明的一种实施方案,有机EL显示器件组件被应用于计算机。
本发明的其他方面及其优点将在后面的内容中部分阐述,并部分地可以从描述中变得显而易见,或者在本发明的实际应用中得到理解。


本发明的这些和/或其他方面及其优点将在后面实施方案的叙述并结合相关的附图中变得清楚和容易领会。
图1是描述传统的有机EL显示器件中发生的光射出的截面示意图;
图2是根据本发明的第一实施方案的有机EL显示器件组件截面图;图3是图2中有机发光层的截面放大图;图4是根据本发明的第二实施方案的有机EL显示器件组件截面图;图5和图6是根据本发明的第三和第四实施方案的有机EL显示器件组件截面图;图7和图8是根据本发明的第五和第六实施方案的有机EL显示器件组件截面图;图9~图12是根据本发明的第七到第十实施方案的有机EL显示器件组件截面图;图13是光学效率与光损耗防止层和电极层之间间隙的对应关系图;图14是光学效率和光损耗防止层的长度的对应关系;图15是光学效率和有机EL显示器件组件中TiO2系数层深度的对应关系;图16中显示的是采用依照本发明实施方案的有机EL显示器件组件的桌上型计算机实例的代表;图17中显示的是采用依照本发明实施方案的有机EL显示器件组件的膝上型计算机实例的代表。
具体实施例方式
接下来对于本发明的实施方案进行详细参考说明,在附图中示出其示例,其中通篇相同的参考数字表示相同的元件。下面通过参考示意图描述实施方案来解释本发明。
根据本发明的有机EL显示器件提高了由有机发光层射出的光的光射出效率。图2所示的是根据本发明的一种实施方案的有机EL显示器件组件20的部分放大图。
从图2中可见,该有机EL显示器件组件20包含第一和第二电极层22和23以及有机发光层30。第一电极层22是透明的并按照预定图形形成在透明衬底21的上表面。有机发光层30是通过在第一电极层22上表面堆叠有机膜而形成的。第二电极层30是在有机发光层30的上表面形成的并具有预定图形。
第一电极层22是在透明衬底21的上表面之上或靠近透明衬底21的上表面形成的阳极,可以使用透明的导电材料氧化铟锡(ITO)制成。第二电极层23可以使用诸如铝、铝合金、银或者银合金这样的导电金属形成。
如图3所示,有机发光层30是通过在第一电极层22上表面上顺序堆叠空穴注入层31、空穴传输层32、发光层33和电子注入层34而形成。优选地,有机发光层30可以使用诸如三-8-羟基喹啉铝(Alq3)这样的低聚合物有机化合物,或者使用诸如聚对亚苯基亚乙烯基(PPV),聚(2-甲氧基-5(2-乙基己氧基)-1,4-亚苯基亚乙烯基)(poly(2-Methoxy-5(2-Ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene))这样的高聚合物有机化合物来形成。但是有机发光层30采用的材料并不仅限制于这些材料。
用于提高光射出效率的光损耗防止层100形成于透明衬底21的上表面上。使用气体填充或者被抽成真空的微隙层50,形成于光损耗防止层100和第一电极层22之间。
光损耗防止层100可以是由分别具有预定间距(P)和预定高度(H)的多个凸起111构成的衍射光栅。优选地,衍射光栅的凸起111的间距P为200nm~2000nm,其高度为50nm~5000nm。每一个凸起111可以是不同的形状,例如,圆柱体或者多棱锥体。凸起111可以是任何形状,只要它们凸起以具有预定的图形。做为替代方案,也可以在透明衬底21的上表面上形成具有多个通孔的薄膜作为衍射光栅。
光损耗防止层100,也就是衍射光栅,可以由选自SiOx(x>1)、SiNx、Si3N4、TiO2、Mgo、ZnO、Al2O3、SnO2、In2O3、MgF2和CaF2中的至少一种材料形成。优选地,光损耗防止层100由TiO2形成。
微隙层50可以以这样一种方式形成,使得衍射光栅的凸起111非常紧密地粘附于第一电极层22以及粘附于其上形成第一电极层22的侧面上。同时额外的间隔物(未示出)可能也会被包含在微隙层50中。
另一个方面,从图14中可以看到,代替光损耗防止层100,可以形成具有图形的薄膜120,以具有由不同折射率的至少两种材料形成的第一和第二区域。优选地,与凸起111的间距相对应,以预定图形排列的两个区域其中一个的间距(P)为200nm~2000nm,并且薄膜120的厚度(T)为0.01μm~50μm。在图4的实施方案中,第一和第二电极层22和23与有机发光层30都形成于额外的上层衬底25上。
在前面叙述的实施方案中,如图5和图6中所示,在微隙层50和第一电极层22之间可以形成其折射率高于微隙层50和第一电极层22的折射率的系数层(index layer)60。优选地,系数层60的材料的折射率应大于或等于2.3,例如TiO2。但是系数层60的材料并不只限制在折射率为2.3或更大的材料。
如图7和图8所示,有机EL显示器件组件包含有机EL显示部分70它具有在衬底71上形成的第一电极层72;在第一电极层72上形成的有机发光层73以具有预定图形;由透明导电金属在有机发光层73上形成的第二电极层74。有机EL显示部分70与其上形成光损耗防止层210或者220的光子板200结合,在有机EL显示部分70与光子板200之间形成微隙层50。
如图7所示,在光子板200上形成的光损耗防止层210包含分别有预定高度的凸起211。如图8所示,作为替代方案,光损耗防止层220是具有由不同折射率的两种材料形成的第一和第二区域的薄膜。此处第一和第二区域中至少有一个是进行构图的。光损耗防止层220的第一区域可以为点状排列,但是第一区域并不限制为这种排列。优选地,第一区域和第二区域材料的折射率之间的差异不小于0.3且不大于3。更优选地,折射率差异在0.3到3的范围内应该尽可能的大。如果折射率差异小于或等于0.3时,有机发光层和每个电极层之间的界面将提供很低的散射效率。这样,由有机发光层射出光线的反射性将增强,相应地,透过衬底的光射出量将减弱。
图9和图10中示出有源矩阵(AM)有机EL显示器件组件150的实施方案,它是根据本发明的不同实施方案的有机EL显示器件组件。参照图9所示,AM有机EL显示器件组件150包含缓冲层152,像素区160和驱动区170。缓冲层152是在透明衬底151之上形成的。像素区160包含像素和用于形成像素的第二电极层161并形成在缓冲层152上。驱动区170形成于缓冲层152之上,包含用于驱动像素区160的薄膜晶体管(TFT)和电容器177。
在驱动区170中,掺有p型或者n型杂质的半导体层171在缓冲层152的上表面形成以具有预定的图形,并且隐埋在栅绝缘层172下面。栅电极层173形成在栅绝缘层172的上表面上,并相对于半导体层171。第一绝缘层174也形成在栅绝缘层172的上表面上,并且覆盖栅电极层173。薄膜晶体管由形成在第一绝缘层174的上表面上的漏电极和源电极175和176组成。此处,漏电极和源电极175和176通过穿过第一绝缘层174和栅绝缘层172形成的接触孔175a和176a,和半导体层171的两端部分相连。电容器177包含形成在第一绝缘层174上的表面上并与源电极176相连的第一辅助电极177a、和与第一辅助电极177a相对并被隐埋在第一绝缘层174下面的第二辅助电极177b。为了实现平滑的第二绝缘层178形成在具有在其上形成漏电极和源电极175和176的第一绝缘层174的上表面上。
在像素区160中,第二电极层161形成在第二绝缘层178的上表面上以具有预定的图形,并且通过在第二绝缘层178内部形成的导电连接器161与第二绝缘层178电连接。有机发光层162形成在第二电极层161的上表面之上以具有预定的图形。第一透明电极层163形成在有机发光层162上面。为了实现平坦化的第三绝缘层(图中没有显示)可以形成在其上已经形成第一电极层163的第二绝缘层178的上表面上。优选地,第三绝缘层由透明材料制成,该材料不会干扰从有机发光层162射出的光的射出。
在其上形成光损耗防止层100的光子板200附着在有机EL显示器件组件的第三绝缘层上,这样就在第三绝缘层和光子板200之间形成了微隙层50。如前面叙述的那样,微隙层50可以使用惰性气体填充或者抽成真空。如图9所示,在光子板200上面的光损耗防止层100可以包括具有预定间距和预定高度的凸起111。而如图10所示,作为替代方案,光损耗防止层100可以是由不同折射率的不同材料形成的以具有第一和第二区域的薄膜。
如图11和图12所示,可以在第三绝缘层(图中没有显示)的上表面上进一步形成系数层60。由于光损耗防止层100和系数层60的结构和前面叙述的实施方案中的结构一致,在此将不做详细说明。
光损耗防止层和微隙层的位置并不局限于上述的这些实施方案。光损耗防止层和微隙层可以形成在从有机发光层射出光的射出光路上具有高折射率的层之间。例如在背光型有机EL显示器件中,光损耗防止层和微隙层形成在衬底上。
在具有如前面所叙述的实施方案中的结构的有机EL显示器件组件中,当施加预定电压以点亮在第一电极层22或72与第二电极层23或74之上的选定像素时,由作为阳极的第一电极层22或72产生的空穴经由空穴注入层31向空穴传输层32移动,同时电子经由电子注入层34被填入发光层33。电子和空穴在发光层33复合以形成激子。当激子去激时,有机发光层30或73中的荧光分子就会发光。产生的光通过第一电极层22或72、光损耗防止层100和微隙层50向外界射出。
因为光损耗防止层100、210或220和微隙层50是由介于第一电极层22或72与衬底21或71之间,或者介于第三绝缘层(图中没有显示)和光子板200之间的氧化铟锡ITO制成,所以由于在衬底和电极层之间界面上的光反射而产生的光损耗将被降低。
换句话说,由于有机发光层30(或70)或第一电极层22(或72)的折射率都比第二绝缘层或者作为微隙层的玻璃的折射率高,因此光会在衬底21(或71)和第一电极层22(或72)之间的界面上发生反射。然而由于微隙层50和光损耗防止层100(或210或220)是形成在第一电极层22(或72)和衬底21(或71)之间,或者形成在第三绝缘层(图中没有表示)和光子板200之间,因此第一电极层22(或72)和光损耗防止层100(或210或220)的凸起111会引起瞬逝波耦合。从而在第一电极层22和每个凸起111之间的微隙层50产生瞬逝波。这样由第一电极层22引导的部分光被输运至光损耗防止层100并由光损耗防止层100衍射。从而提高了光射出效率。
如果用具有通过将两具有不同折射率的不同材料进行构图来定义第一区域和第二区域的薄膜120作为光损耗防止层,则第一和第二区域彼此互相交叉。从而光损耗防止层的平均折射率可以被调整为可以扩大全反射角的折射率。因此发生了抗反射以提高了光射出效率。
进行下面的实验以比较在包含微隙层50和光损耗防止层100(或210或220)的有机EL显示器件中光射出的量,和只包含光损耗防止层100(或210或220)的有机EL显示器件中光射出的量,以及既不包含光损耗防止层也不包含微隙层的有机EL显示器件中光射出的量。
第一实验第一实验在其中光损耗防止层具有在衬底的上表面上采用SiO2、TiO2和SiNx形成的圆柱形凸起的有机EL显示器件上进行。相邻凸起的间距在200nm~2000nm范围内,每个凸起的高度在50nm~5000nm范围内。
第一电极层、有机发光层和第二电极层依次堆叠在已经形成的衬底的上表面上,并且在该衬底和微隙层之间。图13所示的是测量的光学效率和微隙层间隙宽度的对应关系。图14所示的是光效率和圆柱形凸起的长度的对应关系。
通过第一实验,对应微隙层间隙的不同宽度通过时域有限差分(FDTD)模拟计算出标准光能量值。换句话说,标准光能量值是通过与后面将要叙述的第一对比实验中采用的有机EL显示器件的光能量值相比较计算出的。
如图13所示,当微隙层的间隙宽度为零时,也就是当每个凸起的上表面都与第一电极层接触时,光射出到外部的量是传统有机EL显示器件的光射出量的4倍。当微隙层的间隙宽度逐渐变大时,光学效率也就是光射出量下降。
同样,当光损耗防止层的凸起使用SiO2形成时,射出光的绝对量是传统有机EL显示器件的2.41倍。当光损耗防止层的凸起使用TiO2形成时,射出光的绝对量是传统有机EL显示器件的3.90倍。当光损耗防止层的凸起使用SiNx形成时,射出光的绝对量是传统有机EL显示器件的3.67倍。
如图14所示,光学效率与每个凸起的高度成比例,一直到大约200nm的高度。
第二实验第二实验是在和第一实验一相同的条件下,在其中在微隙层和第一电极层之间以折射率为2.36的TiO2形成系数层的有机EL显示器件上进行的。图15显示的是光学效率与系数层的厚度的对应关系。此处微隙层的间隙为0,光损耗防止层的凸起高度为400nm。
根据图15,当系数层的厚度为50nm时,与第一对比实验中的有机EL显示器件相比,光学效率增加约4倍而光射出量增加47.1%。
第一对比实验第一对比实验是在其中在透明衬底的上表面上简单地形成第一电极层、有机发光层和第二电极层的有机EL显示器件上进行的。
在该有机EL显示器件中,由透明衬底引导的光量是导向有机发光层的光量的34.9%,被第一电极层和第二电极层之间界面反射的光量是导向有机发光层的光量的42.8%,而射向外部的光量是导向有机发光层的光量的22.3%。
第二对比实验第二对比实验是在其中在衬底的上表面上形成第一电极层、有机发光层和第二电极层,并且在第一和第二电极层以及有机发光层这三层中折射率最大的一层上形成衍射光栅(即光损耗防止层)的有机EL显示器件上进行的。衍射光栅是由SiO2或者TiO2形成的以拥有每个具有预定间距的多个凸起。
按照第二对比实验,当使用SiO2形成衍射光栅时,光射出量是第一对比实验中采用的有机EL显示器件的2.37倍。当使用TiO2形成衍射光栅时,光射出量是第一对比实验中采用的有机EL显示器件的2.38倍。
在具有上述结构的有机EL显示器件组件中,微隙层形成在光损耗防止层和电极层之间,从而降低内部光损耗,并由此提高光射出效率。特别的,光射出效率可以通过防止在第一电极层、有机发光层和第二电极层中发生反射来提高。同时,抑止被衬底反射的光射出可以防止有机EL显示器件组件形成的图像的模糊现象。
图16中显示的是采用依照本发明实施方案的有机EL显示器件组件304的桌上型计算机300的实例表示。桌上型计算机300包含在该领域中熟知的中央处理器302,以及在前面已经详细介绍过的有机电致发光(EL)显示器件组件304。
图17中显示的是采用依照本发明实施方案的有机EL显示器件组件404的膝上型计算机402的实例表示。膝上型计算机402包含在该领域中熟知的中央处理器408,以及在前面已经详细介绍过的有机电致发光(EL)显示器件组件404。键盘406用于输入数据。
虽然已经叙述了本发明的一些实施方案,但是本领域的技术人员应该理解,对此实施方案的调整可在不偏离本发明精神、原理及由所附的权利要求及其等价定义的范围前提下进行。
权利要求
1.一种有机电致发光(EL)显示器件组件,包含衬底;有机EL部分,包含第一电极层、有机发光层和第二电极层,这些层均紧接衬底的上表面构图并堆叠;以及光损耗防止层,用于提高光射出效率,其中在光损耗防止层和有机EL部分层之间形成微隙层,并且用气体填充所述微隙层或者将其抽成真空。
2.如权利要求1中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层为具有多个凸起的衍射光栅,所述凸起形成于衬底的上表面上并在相邻凸起之间具有预定间距。
3.如权利要求2中所述的有机EL显示器件组件,其中凸起与第二电极层相接触。
4.如权利要求2中所述的有机EL显示器件组件,其中相邻凸起之间的间距为200nm~2000nm。
5.如权利要求4中所述的有机EL显示器件组件,其中每个凸起的高度为50nm~5000nm。
6.如权利要求1中所述的有机EL显示器件组件,其中第二电极层由氧化铟锡(ITO)形成。
7.如权利要求1中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层由选自由SiOx(x>1)、SiNx、Si3N4、TiO2、MgO、ZnO、Al2O3、SnO2、In2O3、MgF2和CaF2组成的组中的至少一种材料形成。
8.如权利要求7中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层由TiO2形成。
9.如权利要求1中所述的有机EL显示器件组件,进一步包含形成于微隙层与第二电极层之间具有相当大的折射率的系数层。
10.如权利要求9中所述的有机EL显示器件组件,其中系数层由TiO2形成。
11.如权利要求9中所述的有机EL显示器件组件,其中系数层的折射率大于或等于2.3。
12.如权利要求9中所述的有机EL显示器件组件,其中系数层的厚度大于或等于2000nm。
13.一种有机EL显示器件组件,包含衬底;有机EL显示部分,包含第一电极层、有机发光层和第二电极层,这些层均被构图并堆叠在衬底的上表面上;以及光子板,所述光子板通过与有机EL显示部分结合而构成微隙层,所述光子板并具有光损耗防止层。
14.如权利要求13中所述的有机EL显示器件组件,其中光子板的光损耗防止层带有多个凸起,所述凸起形成于衬底上表面上并在相邻凸起之间具有预定间距。
15.如权利要求14中所述的有机EL显示器件组件,其中凸起与第二电极层相接触。
16.如权利要求14中所述的有机EL显示器件组件,其中相邻凸起之间的间距为200nm~2000nm。
17.如权利要求14中所述的有机EL显示器件组件,其中每个凸起的高度为50nm~5000nm。
18.如权利要求1中所述的有机EL显示器件组件,其中衍射光栅由选自由SiOx(x>1)、SiNx、Si3N4、TiO2、MgO、ZnO、Al2O3、SnO2、In2O3、MgF2和CaF2组成的组中的至少一种材料形成。
19.如权利要求18中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层由TiO2形成。
20.如权利要求13中所述的有机EL显示器件组件,进一步包含形成于微隙层与第一电极层之间具有相当大的折射率的系数层。
21.如权利要求9中所述的有机EL显示器件组件,其中系数层的折射率大于或等于2.3。
22.一种有机EL显示器件组件,包含衬底;像素部分,包含构图于衬底之上的第一电极层、构图于第一电极层上表面上的有机发光层、形成于衬底上表面上以暴露有机发光层的绝缘层、和构图于有机发光层上表面和绝缘层上表面上并且透明的第二电极层;驱动部分,形成于衬底之上,并具有控制第一电极层开关的薄膜晶体管;和光子板,形成于第一电极层上表面上,构成充入惰性气体或抽为真空的微隙层,并带有光损耗防止层。
23.如权利要求22中所述的有机EL显示器件组件,进一步包含形成于第一电极层上表面上的平坦化膜。
24.如权利要求22中所述的有机EL显示器件组件,其中光子板的光损耗防止层带有多个凸起,所述凸起形成于衬底上表面上并在相邻凸起之间具有预定间距。
25.如权利要求22中所述的有机EL显示器件组件,其中凸起与第二电极层相接触。
26.如权利要求24中所述的有机EL显示器件组件,其中相邻凸起之间的间距为200nm~2000nm。
27.如权利要求24中所述的有机EL显示器件组件,其中每个凸起的高度为50nm~5000nm。
28.如权利要求23中所述的有机EL显示器件组件,其中衍射光栅由选自由SiOx(x>1)、SiNx、Si3N4、TiO2、MgO、ZnO、Al2O3、SnO2、In2O3、MgF2和CaF2组成的组中的至少一种材料形成。
29.如权利要求23中所述的有机EL显示器件组件,进一步包含形成于微隙层与第二电极层之间具有相当大的折射率的系数层。
30.如权利要求20中所述的有机EL显示器件组件,其中系数层的折射率大于或等于2.3。
31.一种有机EL显示器件组件,包含衬底;紧接衬底上表面依次堆叠第一电极层、有机发光层和第二电极层;以及光损耗防止层,具有与第一电极层、有机发光层和第二电极层的折射率相当大差别的折射率,并形成于第一电极层与衬底之间,其中在光损耗防止层与第一电极层之间形成微隙层,所述微隙层使用气体填充或者抽成真空。
32.如权利要求31中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层为构图的薄膜。
33.如权利要求31中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层包含具有不同折射率的至少两个区域组,光损耗防止层的具有不同折射率的两个区域组其中之一中的相邻区域之间的间距为50nm~3000nm。
34.如权利要求3中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层厚度为0.01μm~50μm。
35.如权利要求31中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层由其折射率差异大小在0.3到3的范围中的无机材料组成。
36.如权利要求35中所述的有机EL显示器件组件,其中无机材料是选自由SiOx(x>1)、SiNx、Si3N4、TiO2、MgO、ZnO、Al2O3、SnO2、In2O3、MgF2和CaF2组成的组中的至少两种材料。
37.如权利要求1中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层由具有不同折射率的SiOx(x>1)和TiO2构成。
38.一种有机EL显示器件组件,包含衬底;像素部分,包含构图于衬底上的第一电极层、构图于第一电极层上表面上的有机发光层、形成于衬底上表面上以暴露有机发光层的绝缘层、和构图于有机发光层上表面和绝缘层上表面上并且透明的第二电极层;驱动部分,形成于衬底之上,并具有控制第一电极层开关的薄膜晶体管;形成于第二电极层上表面上的平坦化膜;以及光子板,通过与平坦化膜结合构成充入惰性气体或抽为真空的微隙层,所述光子板并带有具有不同折射率的构图区域的光损耗防止层。
39.如权利要求38中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层的具有不同折射率的两个构图区域其中之一的间距为50nm~3000nm。
40.如权利要求38中所述的有机EL显示器件组件,进一步包含形成于微隙层与第一电极层之间具有相当大的折射率的系数层。
41.如权利要求40中所述的有机EL显示器件组件,其中系数层的折射率大于或等于2.3。
42.如权利要求40中所述的有机EL显示器件组件,其中平坦化膜形成于第一电极层上表面上。
43.如权利要求32中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层的具有不同折射率的两个区域组其中之一中的相邻区域之间的间距为50nm~3000nm。
44.如权利要求1中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层包含具有至少两种具有不同折射率的材料构图的薄膜。
45.一种有机电致发光(EL)显示器件组件,包含衬底;有机EL部分,包含第一电极层、有机发光层和第二电极层,这些层均被构图并堆叠在衬底的上表面上;第一光子板,设置在有机EL部分上;第二光子板,紧挨着第一光子板设置;光损耗防止层,设置在第二光子板上,并面对第一光子板,以增加光射出效率,其中在光损耗防止层与光损耗防止层之间形成微隙层,所述微隙层使用气体填充或者抽成真空。
46.如权利要求8中所述的有机EL显示器件组件,其中光损耗防止层由具有不同折射率的SiOx(x>1)和TiO2构成。
全文摘要
有机电致发光(EL)显示器件组件包括衬底、有机EL部分、光损耗防止层和微隙层。有机EL部分包含第一电极层、有机发光层和第二电极层,这些层均被构图并堆叠在衬底的上表面上。光损耗防止层用于提高光射出效率。微隙层形成于光损耗防止层和面对光损耗防止层的层之间,并且使用气体填充或者抽成真空。
文档编号G09F9/30GK1571595SQ2004100080
公开日2005年1月26日 申请日期2004年3月5日 优先权日2003年3月6日
发明者曹尚焕, 都永洛, 金润昶, 安智薰, 李濬九 申请人:三星Sdi株式会社
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