一种防伪标签及该防伪标签的生成技术的制作方法

文档序号:15836058发布日期:2018-11-07 07:52阅读:240来源:国知局
一种防伪标签及该防伪标签的生成技术的制作方法

本发明涉及一种防伪标签及该防伪标签的生成技术。



背景技术:

防伪标签学名防伪标识,是具有防伪作用的标识。防伪标签包括有镭射防伪标签、双卡防伪标签、图形输出激光防伪标签、图文揭露防伪标签等。现有的防伪标签对假冒现象起到了一定的防止作用,但是自身也存在一定的弊端:要么技术简单,防伪特征不具有唯一性,防伪标签本身也容易被仿冒;要么识别繁杂,专业性强,普通消费者无法通过防伪标签来甄别商品的真假;要么标签容易损坏,容易被擦拭掉,或者沾水后便失去防伪功效。本发明就是针对现有技术的不足,提出一种防伪标签及该防伪标签的生成技术。



技术实现要素:

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种防伪标签,所述防伪标签为一具有一定形状的膜层,膜层依次包括有第一tio2层、第一sio2层、第二tio2层、第二sio2层、第三tio2层、第三sio2层、第四tio2层、第四sio2层、第五tio2层、第五sio2层、第六tio2层、第六sio2层、第七tio2层、第七sio2层、第八tio2层、第八sio2层、第九tio2层、第九sio2层、第十tio2层、第十sio2层、第十一tio2层、第十一sio2层、第十二tio2层、第十二sio2层、第十三tio2层、第十三sio2层。

作为上述方案的优选,所述第一tio2层的厚度为8.68纳米;第一sio2层的厚度为56.21纳米;第二tio2层的厚度为24.43纳米;第二sio2层的厚度为43.19纳米;第三tio2层的厚度为33.73纳米;第三sio2层的厚度为48.33纳米;第四tio2层的厚度为28.45纳米;第四sio2层的厚度为55.53纳米;第五tio2层的厚度为31.75纳米;第五sio2层的厚度为49.10纳米;第六tio2层的厚度为31.74纳米;第六sio2层的厚度为56.56纳米;第七tio2层的厚度为30.72纳米;第七sio2层的厚度为50.37纳米;第八tio2层的厚度为32.71纳米;第八sio2层的厚度为58.13纳米;第九tio2层的厚度为28.69纳米;第九sio2层的厚度为49.62纳米;第十tio2层的厚度为35.78纳米;第十sio2层的厚度为57.19纳米;第十一tio2层的厚度为19.73纳米;第十一sio2层的厚度为65.87纳米;第十二tio2层的厚度为33.19纳米;第十二sio2层的厚度为9.68纳米;第十三tio2层的厚度为68.61纳米;第十三sio2层的厚度为84.96纳米。

一种防伪标签的生成技术,利用带孔的遮挡物盖在产品上,利用真空蒸发镀膜技术,对着孔依次镀第一tio2层、第一sio2层、第二tio2层、第二sio2层、第三tio2层、第三sio2层、第四tio2层、第四sio2层、第五tio2层、第五sio2层、第六tio2层、第六sio2层、第七tio2层、第七sio2层、第八tio2层、第八sio2层、第九tio2层、第九sio2层、第十tio2层、第十sio2层、第十一tio2层、第十一sio2层、第十二tio2层、第十二sio2层、第十三tio2层、第十三sio2层,在产品上形成与孔的形状相同的膜层,去除遮挡物,完成产品上防伪标签的生成。

本发明的工作原理是:利用不同厚度的tio2层和sio2层对不同波段光的透过率不同的原理,将特定厚度的tio2层和sio2层反复交替配合形成膜层。在产品表面遮挡镀膜生成具有一定图案形状的膜层形成防伪标签。防伪标签在日常光线照射下,图案无法显现,当紫外光线照射防伪标签时,出现清洗的图案,从而达到防伪效果。

本发明的有益效果是:本发明的防伪标签能够被广泛应用在各类产品上,标签识别操作简单,识别效果明显,不容易被仿冒,防伪成本低。

附图说明

图1为本防伪标签光照下不同波长光的透过率。

具体实施方式

实施例一

首先制备一个带孔的遮挡物,孔的形状可以是产品的商标图案,或者制定的防伪图案。将带孔的遮挡物盖在产品上,利用真空蒸发镀膜技术,对着孔依次镀第一tio2层、第一sio2层、第二tio2层、第二sio2层、第三tio2层、第三sio2层、第四tio2层、第四sio2层、第五tio2层、第五sio2层、第六tio2层、第六sio2层、第七tio2层、第七sio2层、第八tio2层、第八sio2层、第九tio2层、第九sio2层、第十tio2层、第十sio2层、第十一tio2层、第十一sio2层、第十二tio2层、第十二sio2层、第十三tio2层、第十三sio2层,其中第一tio2层的厚度为8.68纳米;第一sio2层的厚度为56.21纳米;第二tio2层的厚度为24.43纳米;第二sio2层的厚度为43.19纳米;第三tio2层的厚度为33.73纳米;第三sio2层的厚度为48.33纳米;第四tio2层的厚度为28.45纳米;第四sio2层的厚度为55.53纳米;第五tio2层的厚度为31.75纳米;第五sio2层的厚度为49.10纳米;第六tio2层的厚度为31.74纳米;第六sio2层的厚度为56.56纳米;第七tio2层的厚度为30.72纳米;第七sio2层的厚度为50.37纳米;第八tio2层的厚度为32.71纳米;第八sio2层的厚度为58.13纳米;第九tio2层的厚度为28.69纳米;第九sio2层的厚度为49.62纳米;第十tio2层的厚度为35.78纳米;第十sio2层的厚度为57.19纳米;第十一tio2层的厚度为19.73纳米;第十一sio2层的厚度为65.87纳米;第十二tio2层的厚度为33.19纳米;第十二sio2层的厚度为9.68纳米;第十三tio2层的厚度为68.61纳米;第十三sio2层的厚度为84.96纳米。在产品上形成与孔的形状相同的膜层,去除遮挡物,完成产品上防伪标签的生成。将膜层进行光谱测试,得到的测试数据如图1所示,因此,利用本发明的生成技术能够制成在紫外光照射下显现清晰图案,在日常光照射下不会显现图案的膜层。膜层能够作为产品的防伪标签使用,防伪效果好,防伪识别时操作简单,防伪标签不容易被仿制。

以上详细描述了本发明的较佳具体实施例,应当理解,本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思做出诸多修改和变化,因此,凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种防伪标签,所述防伪标签为一具有一定形状的膜层,膜层依次包括有第一TiO2层、第一SiO2层、第二TiO2层、第二SiO2层、第三TiO2层、第三SiO2层、第四TiO2层、第四SiO2层、第五TiO2层、第五SiO2层、第六TiO2层、第六SiO2层、第七TiO2层、第七SiO2层、第八TiO2层、第八SiO2层、第九TiO2层、第九SiO2层、第十TiO2层、第十SiO2层、第十一TiO2层、第十一SiO2层、第十二TiO2层、第十二SiO2层、第十三TiO2层、第十三SiO2层。本发明的防伪标签通过遮挡镀膜技术生成制定形状的防伪标签。本发明的防伪标签能够被广泛应用在各类产品上,标签识别操作简单,识别效果明显,不容易被仿冒,防伪成本低。

技术研发人员:周全;邹朋;许远飞
受保护的技术使用者:天通(嘉兴)新材料有限公司
技术研发日:2018.06.06
技术公布日:2018.11.06
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