密码系统、加密装置、解密装置和密钥生成装置的制作方法

文档序号:34307410发布日期:2023-05-31 19:28阅读:92来源:国知局
密码系统、加密装置、解密装置和密钥生成装置的制作方法

本发明涉及同源密码。


背景技术:

1、存在sidh(supersingular isogeny diffie-hellman key exchange:超奇异同源diffie-hellman密钥交换)和sike(supersingular isogeny key encapsulation:超奇异同源密钥封装)这样的同源密码。

2、在sidh和sike这样的同源密码中,无法使安全性基于成为基础的同源问题的难度,需要使安全性基于需要将由椭圆曲线的点提供的辅助信息也提供给攻击者(解读者)的sidh型的同源问题的难度。因此,在sidh型的同源密码中,期待构成使安全性基于没有辅助信息的成为基础的同源问题的难度的方式。

3、在非专利文献1中,记载有使安全性基于没有辅助信息的成为基础的同源问题的难度的sidh型的同源密码即seta加密方式。

4、现有技术文献

5、非专利文献

6、非专利文献1:c.d.s.guilhem,p.kutas,c.petit,j.silva,seta:supersingularencryption from torsion attacks.

7、非专利文献2:c.petit,faster algorithms for isogeny problems usingtorsion point images.


技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、在seta加密方式中,在解密算法中使用非专利文献2记载的密码的解读法。因此,解密需要非常多的时间。

3、本发明的目的在于,能够削减seta加密方式中的解密所花费的时间。

4、用于解决课题的手段

5、本发明的密码系统进行将以阿贝尔曲面(abelian surface)a0为始点且以阿贝尔曲面as为终点的richelot同源序列(richelot isogeny sequence)设为秘密密钥,将所述阿贝尔曲面as设为公开密钥的密码处理,其中,所述密码系统具有:加密装置,其通过对明文m进行编码而生成的richelot同源序列移动作为公开密钥的所述阿贝尔曲面as而计算阿贝尔曲面am,将所述阿贝尔曲面am设定为密文;以及解密装置,其根据作为秘密密钥的所述richelot同源序列计算以作为公开密钥的所述阿贝尔曲面as为始点且以作为所述密文的所述阿贝尔曲面am为终点的richelot同源(richelot isogeny)

6、发明效果

7、在本发明中,将以阿贝尔曲面a0为始点且以阿贝尔曲面as为终点的richelot同源序列设为秘密密钥,将阿贝尔曲面as设为公开密钥。由此,能够使seta加密方式中的素数p的长度成为1/3。其结果是,能够削减seta加密方式中的解密所花费的时间。



技术特征:

1.一种密码系统,该密码系统进行将以阿贝尔曲面a0为始点且以阿贝尔曲面as为终点的richelot同源序列φs设为秘密密钥,将所述阿贝尔曲面as设为公开密钥的密码处理,其中,所述密码系统具有:

2.根据权利要求1所述的密码系统,其中,

3.根据权利要求1或2所述的密码系统,其中,

4.根据权利要求3所述的密码系统,其中,

5.根据权利要求1或2所述的密码系统,其中,

6.根据权利要求4或5所述的密码系统,其中,

7.一种密码系统中的加密装置,所述密码系统进行将以阿贝尔曲面a0为始点且以阿贝尔曲面as为终点的richelot同源序列φs设为秘密密钥,将所述阿贝尔曲面as设为公开密钥的密码处理,其中,

8.一种密码系统中的解密装置,所述密码系统进行将以阿贝尔曲面a0为始点且以阿贝尔曲面as为终点的richelot同源序列φs设为秘密密钥,将所述阿贝尔曲面as设为公开密钥的密码处理,其中,所述解密装置具有:

9.一种密钥生成装置,其中,该密钥生成装置具有:


技术总结
密码系统(1)进行将以阿贝尔曲面A<subgt;0</subgt;为始点且以阿贝尔曲面A<subgt;s</subgt;为终点的Richelot同源序列设为秘密密钥,将阿贝尔曲面A<subgt;s</subgt;设为公开密钥的密码处理。加密装置(20)通过对明文m进行编码而生成的Richelot同源序列移动作为公开密钥的所述阿贝尔曲面A<subgt;s</subgt;而计算阿贝尔曲面A<subgt;m</subgt;,将阿贝尔曲面A<subgt;m</subgt;设定为密文。解密装置(30)根据作为秘密密钥的Richelot同源序列计算以作为公开密钥的阿贝尔曲面A<subgt;s</subgt;为始点且以作为密文的阿贝尔曲面A<subgt;m</subgt;为终点的Richelot同源

技术研发人员:高岛克幸
受保护的技术使用者:三菱电机株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/1/12
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