窗以及具有窗的显示装置的制作方法

本公开的实施方式涉及窗和具有窗的显示装置。更具体地，本公开的实施方式涉及具有低反射率和优异的机械特性的窗以及具有窗的显示装置。

背景技术：

1、向用户提供图像的显示装置用于各种多媒体装置中，诸如，例如电视机、移动电话、平板计算机、游戏单元等。近年来，已经开发了可折叠或可弯曲的各种类型的柔性显示装置。柔性显示装置的形状能够以各种方式改变。例如，柔性显示装置可以是可折叠的、可卷曲的或可弯曲的，并且因此，当携带柔性显示装置时可以增加便利性。

2、柔性显示装置可以包括可折叠或可弯曲的显示面板和窗。

技术实现思路

1、本公开的实施方式提供了具有低反射率和优异的机械特性的窗。

2、本公开的实施方式提供了具有低反射率和增加的显示效率的显示装置。

3、本公开的实施方式提供了窗，包括：基础层；多个氮化物层，设置在基础层上；多个氧化物层，设置在基础层上；以及保护层，设置在氮化物层和氧化物层上。氮化物层与氧化物层交替堆叠在基础层上，并且氮化物层的厚度和氧化物层的厚度之和等于或大于约500nm并且等于或小于约900nm。

4、在实施方式中，氮化物层中的每一个包括si3n4，并且氧化物层中的每一个包括sio2。

5、在实施方式中，氮化物层具有比氧化物层的折射率大的折射率。

6、在实施方式中，氮化物层包括第一氮化物层、第二氮化物层、第三氮化物层、第四氮化物层和第五氮化物层，氧化物层包括第一氧化物层、第二氧化物层、第三氧化物层、第四氧化物层和第五氧化物层，并且第一氮化物层、第一氧化物层、第二氮化物层、第二氧化物层、第三氮化物层、第三氧化物层、第四氮化物层、第四氧化物层、第五氮化物层和第五氧化物层依次堆叠在基础层上。

7、在实施方式中，第一氮化物层至第五氮化物层的厚度之和小于约500nm。

8、在实施方式中，第一氮化物层至第五氮化物层的厚度的最大值小于约300nm。

9、在实施方式中，保护层与第五氧化物层的上表面接触。

10、在实施方式中，第五氧化物层具有等于或大于约75nm并且等于或小于约100nm的厚度。

11、在实施方式中，窗还包括：中间层，设置在保护层和第五氧化物层之间，并且中间层包括柱状sio2。

12、在实施方式中，第一氧化物层至第五氧化物层中的每一个包括平面sio2。

13、在实施方式中，中间层具有等于或大于约10nm并且等于或小于约30nm的厚度。

14、在实施方式中，保护层包括包含氟的聚合物。

15、在实施方式中，基础层包括玻璃衬底或聚合物衬底。

16、在实施方式中，保护层具有等于或大于约10nm并且等于或小于约40nm的厚度。

17、本公开的实施方式提供了窗，包括：基础层；第一氮化物层、第二氮化物层、第三氮化物层、第四氮化物层和第五氮化物层，设置在基础层上；第一氧化物层、第二氧化物层、第三氧化物层、第四氧化物层和第五氧化物层，设置在基础层上；以及保护层，设置在第一氮化物层至第五氮化物层和第一氧化物层至第五氧化物层上。第一氮化物层、第一氧化物层、第二氮化物层、第二氧化物层、第三氮化物层、第三氧化物层、第四氮化物层、第四氧化物层、第五氮化物层和第五氧化物层依次堆叠在基础层上。

18、在实施方式中，第一氮化物层至第五氮化物层包括si3n4，并且第一氧化物层至第五氧化物层包括sio2。

19、本公开的实施方式提供了显示装置，包括：显示模块和设置在显示模块上的窗。窗包括：基础层，设置在显示模块上；多个氮化物层，设置在基础层上；多个氧化物层，设置在基础层上；以及保护层，设置在氮化物层和氧化物层上。氮化物层与氧化物层交替堆叠在基础层上，并且氮化物层的厚度和氧化物层的厚度之和等于或大于约500nm并且等于或小于约900nm。

20、在实施方式中，氮化物层中的每一个包括si3n4，并且氧化物层中的每一个包括sio2。

21、在实施方式中，氮化物层包括第一氮化物层、第二氮化物层、第三氮化物层、第四氮化物层和第五氮化物层，氧化物层包括第一氧化物层、第二氧化物层、第三氧化物层、第四氧化物层和第五氧化物层，并且第一氮化物层、第一氧化物层、第二氮化物层、第二氧化物层、第三氮化物层、第三氧化物层、第四氮化物层、第四氧化物层、第五氮化物层和第五氧化物层依次堆叠在基础层上。

22、在实施方式中，显示装置还包括：中间层，设置在保护层和第五氧化物层之间，并且中间层包括柱状sio2。

23、根据本公开的实施方式，由于窗包括氮化物层和氧化物层，所以窗的反射率可以降低，并且窗的机械强度增加。

24、根据本公开的实施方式，增加了显示装置的显示效率和耐久性。

技术特征：

1.一种窗，包括：

2.根据权利要求1所述的窗，其中，所述氮化物层中的每一个包括si3n4，并且所述氧化物层中的每一个包括sio2。

3.根据权利要求1所述的窗，其中，所述氮化物层具有比所述氧化物层的折射率大的折射率。

4.根据权利要求1所述的窗，其中，所述氮化物层包括第一氮化物层、第二氮化物层、第三氮化物层、第四氮化物层和第五氮化物层，

5.根据权利要求4所述的窗，其中，所述第一氮化物层至所述第五氮化物层的厚度之和小于500nm。

6.根据权利要求4所述的窗，其中，所述第一氮化物层至所述第五氮化物层的厚度的最大值小于300nm。

7.根据权利要求4所述的窗，其中，所述保护层与所述第五氧化物层的上表面接触。

8.根据权利要求7所述的窗，其中，所述第五氧化物层具有等于或大于75nm并且等于或小于100nm的厚度。

9.根据权利要求4所述的窗，还包括：

10.根据权利要求9所述的窗，其中，所述第一氧化物层至所述第五氧化物层中的每一个包括平面sio2。

11.根据权利要求9所述的窗，其中，所述中间层具有等于或大于10nm并且等于或小于30nm的厚度。

12.根据权利要求1所述的窗，其中，所述保护层包括包含氟的聚合物。

13.根据权利要求1所述的窗，其中，所述基础层包括玻璃衬底或聚合物衬底。

14.根据权利要求1所述的窗，其中，所述保护层具有等于或大于10nm并且等于或小于40nm的厚度。

15.一种显示装置，包括：

技术总结
本公开涉及窗和具有窗的显示装置。窗，包括：基础层；多个氮化物层，设置在基础层上；多个氧化物层，设置在基础层上；以及保护层，设置在氮化物层和氧化物层上。氮化物层与氧化物层交替堆叠在基础层上，并且氮化物层的厚度和氧化物层的厚度之和等于或大于约500nm并且等于或小于约900nm。

技术研发人员：金星宇
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16