一种国画绘画桌的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于家具领域，具体地说是一种国画绘画桌。
【背景技术】
[0002]国画绘画创作过程中，为了保证绘画的效果，需要将每次用完的毛笔进行清洗，以保证再次使用时原毛笔上无上次的颜料。目前，清洗毛笔为在盛有水的水桶内筒摆动笔杆进行清洗，清洗效果不佳，无法完全清理。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型提供一种国画绘画桌，用以解决现有技术中的缺陷。
[0004]本实用新型通过以下技术方案予以实现:
[0005]—种国画绘画桌，包括桌体，桌体上开设通孔，通孔下部设置数个水槽，水槽内设置搅拌叶，通孔两侧的桌体上设置支撑板，支撑板截面为阶梯型，支撑板每个水平位置开设凹槽，相对的两个凹槽之间设置一根横杆，横杆上设置数个挂钩。
[0006]如上所述的一种国画绘画桌，所述的桌体上表面设置毛毡，毛毡下部和桌体上部设置相互配合的魔术贴。
[0007]本实用新型的优点是:本实用新型将毛笔悬挂到挂钩上，毛笔的笔尖伸入至水槽内，根据毛笔的长度调整横杆与不同的凹槽配合，以保证毛笔的笔尖完全进入至水面以下，通过搅拌叶有效进行搅拌清洗，提高清洗的效果，保证书法作品的质量。相近似的颜色在同一个水槽内，避免颜色色差过大串色。
【附图说明】
[0008]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0009]图1是本实用新型的结构示意图；图2是图1的A向放大图。
[0010]附图标记:I桌体，2毛毡，3魔术贴，4支撑板，5横杆，6挂钩，7凹槽，8水槽，9搅拌叶，10毛笔，11通孔。
【具体实施方式】
[0011]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型将毛笔悬挂到挂钩上，毛笔的笔尖伸入至水槽内，根据毛笔的长度调整横杆与不同的凹槽配合，以保证毛笔的笔尖完全进入至水面以下，通过搅拌叶有效进行搅拌清洗，提高清洗的效果，保证书法作品的质量。相近似的颜色在同一个水槽内，避免颜色色差过大串色。
[0012]一种国画绘画桌，如图所示，包括桌体1，桌体I上开设通孔11，通孔11下部设置数个水槽8，水槽8内设置搅拌叶9，通孔11两侧的桌体I上设置支撑板4，支撑板8截面为阶梯型，支撑板8每个水平位置开设凹槽7，相对的两个凹槽7之间设置一根横杆5，横杆5上设置数个挂钩6。
[0013]具体而言，为了保证在绘画过程的稳定性，本实施例所述的桌体I上表面设置毛毡2，毛毡2下部和桌体I上部设置相互配合的魔术贴3。毛毡2与桌体I稳定配合，保证绘画过程的稳定。
[0014]最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
【主权项】
1.一种国画绘画桌，其特征在于:包括桌体(1)，桌体(I)上开设通孔(11)，通孔(11)下部设置数个水槽(8)，水槽(8)内设置搅拌叶(9)，通孔(11)两侧的桌体(I)上设置支撑板(4)，支撑板(8)截面为阶梯型，支撑板(8)每个水平位置开设凹槽(7)，相对的两个凹槽(7)之间设置一根横杆(5)，横杆(5)上设置数个挂钩(6)。2.根据权利要求1所述的一种国画绘画桌，其特征在于:所述的桌体(I)上表面设置毛毡(2)，毛毡(2)下部和桌体(I)上部设置相互配合的魔术贴(3)。
【专利摘要】一种国画绘画桌，包括桌体，桌体上开设通孔，通孔下部设置数个水槽，水槽内设置搅拌叶，通孔两侧的桌体上设置支撑板，支撑板截面为阶梯型，支撑板每个水平位置开设凹槽，相对的两个凹槽之间设置一根横杆，横杆上设置数个挂钩。本实用新型将毛笔悬挂到挂钩上，毛笔的笔尖伸入至水槽内，根据毛笔的长度调整横杆与不同的凹槽配合，以保证毛笔的笔尖完全进入至水面以下，通过搅拌叶有效进行搅拌清洗，提高清洗的效果，保证书法作品的质量。相近似的颜色在同一个水槽内，避免颜色色差过大串色。
【IPC分类】B44D3/00
【公开号】CN204774346
【申请号】CN201520347128
【发明人】金卓
【申请人】亳州师范高等专科学校
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2015年5月27日