专利名称：具有改进的防光件的照相处理设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于感光介质显影的显影设备。
在典型的现有技术的微型暗室中，设有一用于将光敏介质输送到一处理路径的入口，光敏介质为印相和显影沿该路径通过。对于微型暗室是很典型的，该设备设计成防止当光敏介质从印相部分移动到处理部分时光敏介质的不想要的曝光。采用这样的处理器，经常需要提供一用于使控制带位于印相之后在处理路径的特定点上的备用输送槽，该控制带用于监测印相机和处理器。在现有技术中，备用输送槽需要有相对复杂的防光机构，以便避免漫射光进入设备，漫射光的进入会对通过处理器的介质产生不利影响。
申请人已经发明了一种改进的用于光敏输送槽的防光机构，该槽使光敏介质，比如一控制带，在适当的位置容易地进入处理器中达到处理路径，这几乎不或不需要特别装置使光敏介质快速且容易地进入处理路径。
根据本发明的一个方面，提供有一种用于处理光敏介质的设备，该设备具有一在该设备的入口和出口之间延伸的使第一光敏介质通过其的处理路径，和一用于使第二光敏介质送入处理路径的防光输送槽组件，该防光输送槽组件包括一具有一对相对布置的侧壁的导管，每一侧壁具有形成一入口、一出口和一在入口和出口之间的窄的输送通道的内表面，入口延伸到该设备的外部，且导管定位成将光敏介质引导到处理路径，该导管具有从入口到出口的弯曲构形，每一侧壁具有至少一个沿通道的宽度延伸的突出部件，朝向相对的侧壁延伸，该突出部件具有的构形基本上阻止了发源于入口的光线从出口出去，从而基本上不存在对通过处理路径的介质的光线干扰。
根据本发明的另一方面，提供了一种用于处理光敏介质的设备，该设备具有一用于使光敏介质从入口到出口穿过该设备的处理路径，和一用于使光敏介质进入处理路径的防光输送槽组件，该防光输送槽组件包含
一在其一端有一入口而在其另一端有一出口的导管，该导管具有在入口和出口之间形成一基本上为蛇形通道的构形，从而防止可能邻近入口的漫射光到达出口。
当结合附图时从下面的详细描述中可更明显地看出本发明的上述和其它目的、优点和新颖特征。
在下面给出的本发明优选实施例的详细描述中，参照了附图，其中
图1示出了一根据本发明制成的照相洗印加工设备；图2示出了图1所示设备的局部放大截面图，详细示出了根据本发明制成的具有一个安装在其上的包裹组件的一备用输送槽组件；图3是图2中所示导管的透视图；图4是一类似于图2的视图，示出了一根据本发明制成的改进的备用输送槽组件；图5是图2和3中所示输送槽组件顶部的放大剖面图，示出了一个用于封闭备用输送槽组件的入口的塞子。
本说明书将尤其针对本发明的设备部件的元件或更直接地结合该设备。应当理解对于那些本领域的技术人员来说，没有特别示出或描述的元件可以采用各种公知的形式。
参照图1，示出了一个根据本发明制成的照相洗印加工设备10。在图示的特定实施例中，照相洗印加工设备10包含一般称之为微型暗室的那些部件，其中，首先使图像在印相部分12中曝光在光敏介质11上，然后通过处理部分14，在处理部分使已曝光在介质11上的图像显影。光敏介质11沿处理路径15从印相部分12中的供应部分16开始移动。通过处理部分14之后，光敏介质11到达一成相站18，在此，光敏介质11经过切割操作和用于分选单个相片的分选操作。光敏介质11的供应源设在供应部分16，其中在图示的特定实施例中光敏介质11包含以纸带形式设置的相纸。图像在印相门19处在介质11上曝光。在图示的实施例中，已经在先显影的底片上的图像比如照相底片光学上曝光到介质11上。光敏介质11沿处理路径15通过印相部分12和处理部分14运行。在介质11上印出图像之后，介质11达到显影部分14，在显影部分该曝光的光敏介质11通过使其经过多个盛有适当的处理溶液的处理罐而显影。尤其是，光敏介质11经过第一显影罐24，在此，在光敏介质11上形成的潜像被显影。显影罐盛有用于显影图像的适当的处理溶液。在通过显影罐之后，光敏材料11通过罐26、28、30、32。在图示的特定实施例中，罐26是一漂白定影罐，其盛有漂白定影处理溶液，而罐28、30、32每一罐盛有用于在光敏介质从中通过时清洗光敏介质的清洗液。当然，应当理解可以设置任何希望数目的、盛有任何用于处理从中通过的光敏介质需要或希望的适当的处理溶液的处理罐。
在通过处理罐之后，光敏介质11通过干燥器34，然后达到切割器35，在切割器处从光敏介质带11上切出单个的图像，从而形成单个相片，然后到达分选器36，在分选器处单个的相片通常按用户指令放入适当的分选箱。
照相洗印加工设备经常需要发送一光敏介质的未显影的测试带通过该处理器，用以确定印相机和／或处理部分／处理器的状态。如在微型暗室中一般可发现，设置一备用输送槽组件40，用于使测试带在处理路径13的中间进入，从而使测试带33仅通过处理部分的所希望的部分，一般是在测试带33将通过每一处理罐24、26、28、3、32，然后通过干燥器34的一点处进入。
参照图2和3，示出了根据本发明制成的防光输送槽组件40的放大的剖面图。该防光输送槽组件40位于印相部分12中，且包含具有一对基本平行的侧壁48、49和端壁51、53的导管46，该导管形成一条窄的处理通道54。将该防光输送槽组件40定位在印相部分12中，与处理部分14相对，使对处理部分14和从中通过的光敏介质的闭光状态产生不利影响的可能性减小到最小。通道54在其上部区域测得的宽度W约在4mm至8mm的范围内。在图示的特定实施例中，通道54的宽度W约4mm。然而宽度W可按需要选择且随通过该导管的光敏介质的厚度变化。在图示的实施例中宽度W是这样的，即将要通过其中的介质的厚度约0．33mm。侧壁48、49具有各自的内表面55、57。导管46在一端设有一入口56，其可从照相洗印加工设备10的外部接近，而在另一端设有一出口58，用于将光敏介质11引导到处理路径13。在图示的实施例中导管46有一通常从入口56到出口58的弧形构形，用于使测试带或其它光敏材料容易从中通过而到达处理路径。该弧形构形有助于将从入口56通过导管46传播到达出口58的光线减小到最小。导管构形是这样的，即侧壁48、49分别依随有一半径R1和R2的环形路径。在图示的实施例中，R1等于R2。可取的是，半径R1和R2是这样的，使出口离开入口偏移一等于或大于距离W的竖直距离，而使光敏介质11容易通过通道54。在图示的实施例中，分别相应于各侧壁48、49的半径R1和R2的相应半径圆心C1、C2隔开一较小距离X，使得通道54在接近出口58时变得更小，以在出口58提供一更小的宽度W1。W1是这样的，使介质可容易地通过而在移动中没有任何实质限制。在图示的实施例中，宽度W1约1．5mm。偏移的圆心C1、C2提供了对离开出口58的介质的较大控制，从而将介质正确地引导到处理路径15。申请人已经发现，具有用于导管46的曲线弧形路径的导管不足以避免漫射光线的进入，漫射光可能对通过照相洗印加工设备10的光敏材料产生不利影响。申请人已经发现可取的是应当在侧壁48、49的每一内表面50、52上提供至少一个突出部件60。可取的是，突起60每一个从侧壁延伸入导管一距离D，至少一等于或大于侧壁之间的距离W的一半的距离，以便形成一个光敏介质11通过的蛇形通道。可取的是，突起延伸入导管的距离至少为距离W的三分之二。这样通过提供突起60任何可能进入入口的光线将被阻挡。可取的是，突起60的外表面61相对光滑，以使任何通过该导管的光敏介质不会挡住或被任一突起60阻挡。此外，各突起60沿内表面50、52的长度间隔开，从而使基本上所有的邻近入口56的光线不到达出口58。申请人已经发现，如在特定实施例中所示，在壁49的内表面57上设置一对突起60，而在壁48的内表面55上设置一个突起60，且位于两个突起之间。可取的是，突起60从侧壁延伸一距离D，从而使到相对侧壁的剩余距离D1稍大于从中通过的介质59(测试带)的厚度TM，可取的是，D1不大于从中通过的介质的厚度TM的四倍。应当理解的是，只要不使对从中通过的光敏介质产生不利影响的光线进入设备10中，可以提供任何希望数目的突起60且实际尺寸可以变化。
在图示的实施例中，入口56是这样设计的，即导管46在到达照相洗印加工设备10的顶部70之前设有一扩张部分72，用于使测试带容易插入通道54中。绕导管46的上端设有一防光的外周延伸罩71，该罩与固定到设备10的顶部的安装支架75接合。该安装支架75设计成用来接纳一不透光包裹组件76，该组件包含一包裹77、固定到包裹77上的安装环78，用于使容纳在包裹77内的光敏介质79能从包裹77发送。安装环78设计成能与安装支架实现不透光接合。可取的是安装支架75基本上与照相洗印加工设备10的顶部平齐。当包裹组件76不安装到设备上时，防光组件仍然阻止将对通过该设备10的未显影的光敏介质产生影响的光线进入设备中。然而，如果需要，当没有提供包裹组件76时，可给安装支架75设置一塞子(未示出)，以便防止不经意地使物品进入导管46，这将对设备和／或从中通过的介质造成损害。可取的是，该塞子有一基本上与设备10的顶面平齐的顶面。
当然，应当理解，可以提供任何用于与入口56配合的适当包裹，以使测试带59或任何其它所希望的介质传输到备用输送槽组件40。
为了更清楚地理解本发明，现在将简述设备10的运行。
当希望将介质达到处理路径13时，提供一在其内有一光敏介质59，比如一测试带的包裹组件76。测试带59通过入口56进入导管46到达出口58而直接输送到一对辊子73、74，其中至少一个辊子是驱动辊。辊子73、74用来使光敏介质11前进通过处理路径，其中光敏介质已经从印相部分12接纳。可以看出，出口58的位置使通过导管46的介质11将直接输送到辊子73、74的辊隙，用于将测试带传送通过处理路径15。除去切割和分选之外，测试带以正常的方式通过处理部分。弯曲导管46提供的另一益处在于当在设备中正确定位时，后侧80可用作沿处理路径15运行的光敏介质的顶面的导向件。
在图1和3中所示的实施例中，防光输送槽组件40设有一有内部突起的通常弧形的导管46。然而，本发明不限于这样的实施例。参照图4，示出了根据本发明制成的改进的防光输送槽组件140。该防光输送槽组件140类似于组件40，相同的标记表示相同的部件和功能。在该实施例中，导管46设有侧壁48、49，侧壁构形成能形成一通常的蛇形构型。尤其是，导管46被成型为提供第一弯曲部分142、第二弯曲部分143和第三弯曲部分144，每一部分具有曲率半径R2。在优选实施例中，每一弯曲部分142、143、144具有同样的曲率半径，然而，本发明不限于此。曲率半径R2是这样的，即使光敏介质11可容易地从中通过，但有防止任何光线到达出口58的足够曲率。在这一点上，可取的是第一弯曲部分142相对于入口56偏移一等于至少由导管形成的通道的厚度W的距离D2。可取的是，第二弯曲部分143也从第一弯曲部分偏移一距离D2，该距离等于或大于由导管46形成的通道的厚度W。第三弯曲部分144以同样的方式从第二弯曲部分偏移。虽然在该优选实施例中提供三个弯曲部分142、143、144，但应当理解可以提供任何希望数目的弯曲部分。而且在所示的优选实施例中，导管46邻近出口48的部分构形成可使光敏介质11平滑地进入处理路径15。可以看出，在本实施例中，防光组件140直接提供了一介质11通过的蛇形路径，该路径防止了漫射光进入入口56到达出口58，从而不会对从中通过的光敏介质11产生不利影响。
如果需要可以提供各种其它的部件。例如，如图1-3所示，可以设置一介质传感器90，用于当介质通过出口58时感应，从而激励辊子73、74，以将介质传送到处理路径15。
权利要求
1．一种用于处理光敏介质的设备，所述设备具有一使第一光敏介质通过该设备的处理路径，和一用于在沿所述处理路径的一点处使第二光敏介质送入所述处理路径的防光输送槽组件，该防光输送槽组件包含一具有一对相对布置的侧壁的导管，每一所述侧壁具有一形成一入口、一出口和一在所述入口和所述出口之间的窄的输送通道的内表面，所述入口延伸到所述设备的外部，而所述导管定位成将光敏介质引导到所述处理通道，所述导管具有一从入口到出口的弯曲构形，每一所述侧壁具有至少一个沿通道的宽度延伸的突出部件，朝向相对的侧壁延伸，所述突出部件具有的构形基本上阻止了发源于入口的光线从出口出去，从而基本上不存在对通过处理通道的介质的光线干扰。
2．如权利要求1所述的一种设备，其特征在于，所述导管具有通常弧形的有一曲率半径的构形，从而使出口偏移一等于或大于至少所述壁间隔开的距离。
3．如权利要求1所述的一种设备，其特征在于，所述导管的壁间隔开一预定距离W，每一突起部件延伸一等于至少距离W的一半的距离。
4．如权利要求1所述的一种设备，其特征在于，所述处理路径包括一用于在所述第一光敏介质上印相的印相部分和用于显影在所述印相部分中印在所述第一光敏介质上的图像的显影部分。
5．如权利要求1所述的一种设备，其特征在于，所述设备包括一印相部分和一处理部分，所述导管位于所述印相部分。
6．一种用于处理光敏介质的设备，所述设备具有一用于使光敏介质从所述入口到所述出口穿过设备的处理路径，和一用于使光敏介质进入处理路径的防光输送槽组件，所述防光输送槽组件包含一在其一端有一入口而在其另一端有一出口的导管，所述导管具有在所述入口和所述出口之间形成一基本上为蛇形的通道的构形，从而防止可能邻近所述入口的漫射光到达所述出口。
7．如权利要求6所述的一种设备，其特征在于，导管包含一对隔开一预定距离W的侧壁。
8．如权利要求6所述的一种设备，其特征在于，所述通道在宽度上基本不变。
9．如权利要求6所述的一种设备，其特征在于，所述处理路径包含一用于在所述第一光敏介质上印相的印相部分和用于显影在所述印相部分中印在所述第一光敏介质上的图像的显影部分。
10．如权利要求6所述的一种设备，其特征在于，所述设备包括一印相部分和一处理部分，所述导管位于所述印相部分。
全文摘要
一种用于处理光敏介质的设备。该设备具有一用于使光敏介质穿过设备的处理路径,和一用于使光敏介质进入处理路径的防光输送槽组件。该防光输送槽组件包含一在其一端有一入口而在其另一端有一出口的导管。该导管具有在入口和出口之间形成一基本上为蛇形通道的构形,从而防止可能邻近入口的漫射光到达出口。
文档编号G03D13/00GK1281163SQ00120110
公开日2001年1月24日 申请日期2000年7月17日 优先权日1999年7月16日
发明者小R·L·皮西尼诺, K·H·布拉克利, T·W·赫尔曼 申请人:伊斯曼柯达公司