专利名称：液晶显示屏及其制造方法
技术领域：
本发明涉及液晶屏及其制造方法，特别涉及夹持液晶层的2个基板为树脂基板的液晶屏及其制造方法。
图4是使用树脂基板的现有的液晶显示屏的概略断面图。液晶显示屏101在设置第1电极103的第1树脂基板102和设置第2电极112的第2树脂基板111之间，借助定向膜109，夹持有液晶层104。液晶层104的周围通过密封剂110密封。
图4所示的液晶显示屏101是所谓的超扭曲向列(STN)型。即，在与第1基板102的液晶层104相接的表面上，彼此平行地配置有多个用于显示图像、文字等的带状电极103。在第2基板111上也配置同样的带状的电极112。第1基板102上的电极103和第2基板111上的电极112在带方向上大体正交地配置。
在第2基板111的液晶层104一侧，顺序形成由例如添加氧化锡的氧化铟构成的电极112，由聚酰亚胺构成的定向膜109。在与第1基板102的液晶层104相接的面上，顺序形成由例如添加氧化锡的氧化铟构成的电极103，以SiOx作为主成分的绝缘膜108、定向膜109。
在制造这样的液晶显示屏时，在图形化的导电膜上形成由聚酰亚胺构成的定向膜，接着通过摩擦辊沿一定方向摩擦，进行摩擦处理。
在液晶屏的制造工序中，为了防止因电极间混入异物为主因而发生电极间短路，而形成绝缘膜108。由此，能大幅度改善液晶显示装置的成品率。
可是在液晶显示装置的基板中使用树脂基板时，如以下的(1)～(3)所示，存在所谓在电极上容易发生龟裂的问题。即(1)因为树脂基板的膨胀系数比玻璃基板大一个位数以上，所以树脂基板和电极的热膨胀系数差也比使用玻璃基板时大。因此，如果通过在液晶显示装置制造过程中的热负荷或实际使用环境中的温度变化而使得树脂基板的大小产生较大变化，则因为电极不能追随树脂基板的变化，所以在电极上产生大的应力。因为电极很薄且机械强度差，所以容易因发生的应力而发生龟裂。此外，通过在电极上叠层形成绝缘膜、定向膜等种种膜，电极的应力进一步增大，更容易发生龟裂。
(2)树脂基板的杨氏模量比玻璃基板的杨氏模量小一个量级以上，富于柔软性。因此，难以由外力切割的一方容易变形。因而，如果在树脂基板上加外力，则基板有大的变形，在电极上容易发生龟裂。
(3)在树脂上一般有吸湿性，基板通过吸湿而变形或膨胀，在电极上往往发生龟裂。
这样，如果在形成电极的基板上使用树脂基板，则在电极上容易发生龟裂。尤其是在构成液晶显示屏的两块基板中的任一块均取用树脂基板时，通过使基板之间贴合而约束变形，故龟裂问题更显著。
用于达到上述目的的本发明的液晶显示屏是在第1树脂基板和第2树脂基板之间夹持液晶层，在前述第1树脂基板与第2树脂基板的对置面上分别设置第1电极与第2电极，在前述第1电极和前述液晶层之间设置第1绝缘膜，前述第1电极的膜应力与膜厚之积比前述第2电极的膜应力与膜厚之积小。
在该液晶显示屏中，在前述液晶层和前述第2电极之间设置第2绝缘膜时优选前述第1绝缘膜的厚度比前述第2绝缘膜的厚度大。
此外，前述第2电极的膜应力σ2与膜厚t2之积优选在约100N/m以下。
此外，也可以是前述第1电极由导电膜单层构成，前述第2电极由包含导电膜的多层构成。
此外，在前述第1电极与第2电极由同一材料构成时，优选前述第1电极的厚度比前述第2电极的厚度小。
此外，优选前述第1树脂基板与第2树脂基板由同一材料构成。
此外，前述第1树脂基板的热膨胀系数也可以比前述第2树脂基板的热膨胀系数小。
上述的液晶显示屏包含以下工序，即例如在第1树脂基板与第2树脂基板上分别形成第1电极与第2电极的电极形成工序；在前述第1树脂基板上的前述第1电极侧形成第1绝缘膜的第1绝缘膜形成工序；使前述第1电极与第2电极对置地贴合前述第1树脂基板与第2树脂基板、夹持液晶层的液晶层形成工序，前述电极形成工序用同一种金属材料通过在彼此不同的成膜温度下成膜，形成前述第1电极与第2电极，可以通过使前述第1电极的膜应力与膜厚之积比前述第2电极的膜应力与膜厚之积小的液晶显示屏的制造方法进行制造。
或者，上述的液晶显示屏包含以下工序，即在第1树脂基板与第2树脂基板上分别形成第1电极与第2电极的电极形成工序；在前述第1树脂基板上的前述第1电极侧形成第1绝缘膜的第1绝缘膜形成工序；使前述第1电极与第2电极对置地贴合前述第1树脂基板与第2树脂基板、夹持液晶层的液晶层形成工序，前述电极形成工序用同一种金属材料，通过在彼此不同的成膜压力下成膜，形成前述第1电极与第2电极，可以通过使前述第1电极的膜应力与膜厚之积比前述第2电极的膜应力与膜厚之积小的液晶显示屏的制造方法进行制造。
在上述的液晶显示屏中还可以这样构成，前述第1电极由没有因X射线分析产生的衍射峰的导电膜构成，而前述第2电极由具有因X射线分析产生的衍射峰的导电膜构成。
在这种情况下，前述第1电极与第2电极优选由ITO构成。此外，前述第1电极内含有的氧化锡的浓度优选比第2电极内含有的氧化锡的浓度高。
这样的液晶屏具备例如在第1树脂基板上形成第1电极的第1电极形成工序，在第2树脂基板上形成第2电极的第2电极形成工序，在前述第1树脂基板的前述第1电极侧形成第1绝缘膜的第1绝缘膜形成工序，使前述第1电极与第2电极对置地贴合前述第1树脂基板与第2树脂基板、夹持液晶层的液晶层形成工序，前述第1电极形成工序通过使ITO构成的导电膜维持在非晶质状态下，形成没有因X射线分析产生的衍射峰的第1电极，前述第2电极形成工序通过使ITO构成的导电膜结晶化，形成具有因X射线分析产生的衍射峰的第2电极，可以通过前述第1电极的膜应力与膜厚之积比前述第2电极的膜应力与膜厚之积小的液晶屏制造方法进行制造。
在液晶显示屏的上述制造方法中也可以包含在前述第2树脂基板的前述第2电极侧形成比前述第1绝缘膜厚度小的第2绝缘膜的第2绝缘膜形成工序。
图2是ITO电极的膜厚与该电极的膜应力与膜厚之积之间关系的一例的图。
图3是本发明的另一实施形态的液晶显示屏的概略断面图。
图4是现有的液晶屏的概略断面图。
如
图1所示，液晶显示屏1包含第1树脂基板2与第2树脂基板11，借助间隔片10，互相对置地配置。在第1树脂基板2与第2树脂基板11的表面，如图1所示，也可以设置氧化硅或氧化铝、或由铝、银等的金属构成的气体壁垒膜5。
在第1树脂基板2和第2树脂基板11之间夹持液晶层4。作为液晶材料可以列举向列液晶、手性近晶型液晶，手性向列型液晶，胆甾醇液晶等。
在第1树脂基板2的对置面上，半透过层6、滤色片7与第1电极3叠层。在第2树脂基板11的对置面上设置第2电极12。第1电极3与第2电极12各自呈带状形成，带状方向大体正交地配置。
第1树脂基板2与第2树脂基板11的对置面的最表面上分别形成定向膜9a、9b。定向膜9a、9b例如由聚酰亚胺树脂构成，通过摩擦法或光定向法等进行定向处理。如果不用定向膜也可进行定向处理，则没有必要一定设置定向膜。
在第1电极3和定向膜9a之间设置第1绝缘膜8。第1绝缘膜8是用于防止第1电极3与第2电极12间短路的，可以使用SiOx等的无机材料或环氧树脂等的有机材料作为主成分的。该第1绝缘膜8和膜应力之间的关系后述。
在具有上述构成的液晶显示屏上，本发明者们通过实验发现，树脂基板上形成电极的膜应力与膜厚之积与龟裂发生有密切的关系。图2示出ITO电极的膜厚与该电极的膜应力及膜厚之积的关系一例的图。如果膜厚增加，则电极的膜厚在100～300nm范围内的电极膜应力与膜厚之积大体以一定比例增加。
图2中在成膜温度为160℃的条件下，电极的膜应力与膜厚之积，以及相对膜厚的增加率，与其它成膜温度相比成为显著高的值。这是由于通过增高成膜温度，膜质从非晶质变为结晶质，电极的杨氏模量上升的缘故。在该成膜温度条件图上作成虚线的一部分是表示在这部分上电极发生龟裂。在本发明者们看到即使在其它膜厚等的条件下测定时，如果电极的膜应力与膜厚之积超过约100N/m，则在电极上发生龟裂或破断变得容易。因而，为了有效地防止第1电极3与第2电极12发生龟裂，希望维持各自的膜应力与膜厚之积在约100N/m以下。膜应力与膜厚之积的下限值没有特别的限制，例如为大约1N/m。
电极的膜应力与膜厚之积如不是直接测定的，可以从下式容易求出。
σ＝Ah2/6Rt(σ电极的膜应力，t电极厚度，A树脂基板的杨氏模量，h树脂基板的厚度，R树脂基板的曲率半径)。
即，如果知道树脂基板的杨氏模量A与厚度h，则通过测定实际形成电极的树脂基板的曲率半径，可以求出电极的膜应力σ与厚度t之积。树脂基板的厚度或曲率半径的测定是根据在25℃、50％RH的环境下放置24小时后的状态下进行的。
在贴合第1树脂基板2与第2树脂基板11的状态下，如果一方基板的变形比另一方基板的变形显著大，则约束一方基板的变形，曲率半径变大，由此，电极的膜应力σ与厚度t之积的值也变大。
因而，在本实施形态中，在使第1树脂基板2与第2树脂基板11的变形不发生大的差异地将第1树脂基板2和第2树脂基板11之间分离的状态下，考虑基板厚度或杨氏模量、电极材质、膜厚、成膜条件等设置，使得第1电极3的膜应力σ1与膜厚t1之积比第2电极12的膜应力σ2与膜厚t2之积小。对第1电极3或第2电极12的厚度没有特别限制，但优选在50～300nm的范围内，更优选在100～200nm的范围内。
在本发明中使第1电极3的膜应力σ1与膜厚t1之积减小的理由是考虑通过在第1树脂基板2侧形成第1绝缘膜8，增加了第1电极3的膜应力。即，因为即使在基板上形成绝缘膜以外的层时，约束电极变形的也主要是绝缘层，所以使形成绝缘层一方的电极膜应力与膜厚之积比另一方电极膜应力与膜厚之积小。由此，保持第1与第2树脂基板2、11间变形的平衡，可以有效地防止第1电极3或第2电极12发生龟裂。
因为在形成绝缘层时膜应力增加，故在设置另一方电极(即第2电极12)的第2树脂基板11上，如图1所示，在定向膜9b和第2电极12之间优选不设置绝缘膜。可是限于遵守所谓形成绝缘层一方的电极(即第1电极3)的膜应力与膜厚之积比另一方电极(即第2电极12)的膜应力与膜厚之积小，绝缘层不仅可在第1树脂基板2一侧，也可以在第1树脂基板2侧与第2树脂基板11侧的双方上形成。即，如图3所示，还可以在定向膜9b与第2电极12之间进一步形成第2绝缘膜81。这时考虑第1与第2绝缘膜8、81分别给予第1与第2电极3、12的膜应力的影响，优选使膜应力与膜厚之积小的一方的第1电极3侧形成的第1绝缘膜8的厚度比第2绝缘膜81的厚度大。这时，与前述的理由同样，优选第1电极3与第2电极12双方的膜应力与膜之积小于100N/m。在图3中，因为第2绝缘膜81以外的构成部分与图1一样，使用与图1所示的符号相同的符号，省略其说明。
在该液晶显示屏1中，在第1树脂基板2与第2树脂基板11上可以使用丙烯树脂、环氧树脂、硅树脂、聚酰亚胺树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇树脂、聚乙烯树脂以及选自它们的共聚合体构成的组中的树脂等公知的树脂。尤其优选具有100℃以上的耐热性，而且光学上各向同性。并且优选第1与第2树脂基板2、11的热膨胀系数小，即使在树脂基板的热膨胀系数或杨氏模量是电极的热膨胀系数或杨氏模量的5倍以上时，也可适用本发明。第1与第2树脂基板2、11也可以使用彼此不同的树脂材料，可是为了各自的热膨胀产生的变形量的差尽可能小，优选使用同一材料。
作为第1电极3与第2电极12，可以使用由ITO(Indium-Tin-Oxide)，氧化锌、氧化锡、氧化钛、氧化硅等的金属氧化物构成的透明导电膜。第1电极3与第2电极12可以使用不同材料，但优选使用同一材料。由此，通过第1电极3的厚度比第2电极12的厚度小，可以容易地使第1电极3的膜应力与膜厚之积比第2电极12的膜应力与膜厚之积小。
导电膜不仅可作成单层，也可以作成象金属氧化膜和氧化硅膜的叠层构造那样包含导电膜的多层。这种情况下，通过作成多层，由于各层间的杨氏模量等不同也容易产生翘曲等变形，故电极的膜应力与膜厚之积变大。因而通过将第1电极3作成单层，将第2电极12作成多层，容易使第1电极3的膜应力与膜厚之积比第2电极12的膜应力与膜厚之积小。
并且，也可以第1电极3作为非晶质导电膜，以第2电极12作成结晶质的导电膜。因为非晶质的导电膜比结晶质导电膜的杨氏模量与膜应力小，因此使第1电极3的膜应力与膜厚之积比第2电极12的膜应力与膜厚之积小变得容易，可以用X射线衍射装置等测定导电膜是非晶质或结晶质的任一种，可以容易判别在没有X线峰时为非晶质和具有X线峰时为结晶质。
在导电膜中使用ITO时，如在预定温度以下成膜，则几乎均未结晶化，而一旦超过预定温度则结晶化急剧进行，所以可以容易形成非晶质与结晶质的导电膜。
在ITO导电膜的情况下，一旦氧化锡浓度变高，则结晶化难以进行，因为容易维持非晶质状态，所以通过使第1电极3内含有的氧化锡的浓度比第2电极12内含有的氧化锡浓度高，使得第1电极的膜应力与膜厚之积比第2电极12的膜应力与膜厚之积小变得容易。
这样的液晶显示屏例如可以如下所示地制造。
首先，在洗净的第1树脂基板2与第2树脂基板11上通过蒸发、溅射、CVD法等使ITO等构成的透明电极材料成膜后，通过光刻或蚀刻制成图形，而形成第1电极3与第2电极12。
接着，在第1电极3上形成第1绝缘膜8。绝缘膜的形成可以通过CVD法等成膜或旋转涂胶镀膜法等涂布进行。
其次，在第1树脂基板2或第2树脂基板11的一方上均匀散布塑料珠等的间隔垫10后，滴下液晶材料，通过用密封剂贴合两基板2、11的周边部以便使第1电极3与第2电极12对置，完成在第1树脂基板2与第2树脂基板11之间夹持液晶层4的液晶显示屏。在贴合第1树脂基板2与第2树脂基板11后进行真空注入液晶材料，也可形成液晶层4。
另外，未详述，但也可以用众所周知的方法形成图1所示的半透过层6、滤色片7、定向膜9a、9b等。
在这样的液晶显示屏的制造方法中，形成第1电极3与第2电极12的工序是重要的。如果形成电极时的成膜温度变高，则电极的膜应力变大，电极的膜应力与膜厚之积也变大(参照图1)。与此相反，如果成膜压力变高，则电极的膜应力变小，电极的膜应力与膜厚之积也变小。
因此，作为成膜条件，优选使第1电极3的成膜温度比第2电极12的成膜温度低。或使第1电极3的成膜压力比第2电极12的成膜压力高。当然，也可以组合这些成膜温度与成膜压力的条件。由此，使第1电极3的膜应力与膜厚之积比第2电极12的膜应力与膜厚之积小变得容易。
在形成电极后的工序中，在包含退火等加热工序时，优选维持第1电极3在非晶质的状态。第2电极12优选通过在成膜工序或其后的工序中加热形成结晶质。由此，使第1电极3的膜应力与膜厚之积比第2电极12的膜应力与膜厚之积小变得容易。
通过下述实施例，使得本发明更明白。
(实施例1)在图1所示构成的液晶显示屏中，改变第1与第2树脂基板2，11和第1与第2电极3、12的材质、热膨胀系数、杨氏模量及膜厚，调查这些对电极龟裂的影响。表1示出构成测定对象的液晶显示屏A～F。
表1
AC丙烯系树脂、PC聚碳酸酯、*1ITO(成膜温度100℃、成膜压力0.6665Pa)、*2ITO(成膜温度120℃、成膜压力0.6665Pa)、*3ITO(SnO210wt％)*4ITO(成膜温度100℃、成膜压力0.3999Pa)、*5SiO/TiOx/ZrOx的叠层体*6ITO(SnO25wt％)、液晶屏E第1电极(非晶质)、第2电极(结晶质)
如表1所示，对液晶显示屏A～E，第1树脂基板2的膜应力与膜厚之积是比第2树脂基板11的膜应力与厚度之积小的值。另一方面，对液晶显示屏F，第1树脂基板2的膜应力与膜厚之积是比第2树脂基板11的膜应力与膜厚之积大的值。
对这些液晶显示屏A～F在湿度90％RH、60℃的环境下放置1000小时后，确认在第1电极3或第2电极12上有无龟裂的发生。其后，在湿度85％RH、85℃的环境下再放置1000小时，同样地确认有无龟裂的发生。此外，反复进行300个周期的80℃30分钟/-20℃30分钟热冲击试验后，确认有无龟裂的发生。表2示出它们的结果。
表2
如表2可知，第1树脂基板2的膜应力与膜厚之积比第2树脂基板11的膜应力与膜厚之积小的液晶显示屏A～E，在任一试验条件下均未见到龟裂的发生，得到良好的结果。与此相反，第1树脂基板2的膜应力与膜厚之积比第2树脂基板11的膜应力与膜厚大的液晶显示屏F，在所有的试验条件下都发生龟裂。
(实施例2)在图1所示构成的液晶显示屏中，使第1与第2电极3、12的材质相同，调查它们的膜厚变化对电极龟裂的影响。表3示出作为测定对象的液晶显示屏H～N。
表3
AC丙烯系树脂、PC聚碳酸脂、SR硅化物系、EP环氧系如表3所示，液晶显示屏H～M的第1电极3的膜厚比第2电极12的膜厚小。另一方面，使液晶显示屏N的第1电极3的膜厚比第2电极12的膜厚大。
将这些液晶显示屏H～N在湿度90％RH、60℃的环境下放置1000小时后，确认在第1电极3或第2电极12上有无龟裂的发生。其后，在湿度85％RH、85℃的环境下再放置1000小时，同样地确认有无龟裂的发生。再经反复300个周期80℃30分钟/-20℃30分钟的热冲击试验后确认有无龟裂发生。表4示出其结果。
表4
由表4可知，第1电极3的膜厚比第2电极12的膜厚小的液晶显示屏H～M，在任一种试验条件下均未发生龟裂，得到良好的结果。与此相反，第1电极3的膜厚比第2电极12的膜厚还大的液晶显示屏N，在所有试验条件下都发生龟裂。另外，从该实施例2可知，第1电极3的膜厚在300nm以下时能可靠地防止龟裂发生。
(实施例3)在图1所示构成的液晶显示屏中，第1与第2电极3、12分别形成非晶质与结晶质的ITO膜时，以及第1与第2电极3、12分别形成结晶质与非晶质的ITO膜时，调查对发生电极龟裂的影响。表5示出作为测定对象的液晶显示屏O、P。另外，非晶质或结晶质的判别通过测定有无X射线分析产生的衍射峰而进行。
表5
*1ITO(SnO210wt％)、*2ITO(SnO25wt％)、液晶屏O第1电极(非晶质)、第2电极(结晶质)液晶屏P第1电极(结晶质)、第2电极(非晶质)
如表5所示，对于液晶显示屏O，第1电极3内包含的氧化锡浓度比第2电极12内包含的氧化锡浓度高。另一方面，对于液晶显示屏P，第1电极3内包含的氧化锡浓度比第2电极12内包含的氧化锡浓度低。
将这些液晶显示屏O、P在湿度90％RH、60℃的环境下放置1000小时后，确认第1电极3或第2电极12上有无龟裂的发生。其后，又在湿度85％RH、85℃的环境下放置1000小时，同样确认有无龟裂发生。并且在300个周期反复80℃30分钟/-20℃30分钟的热冲击试验后确认有无龟裂发生。表6示出其结果。
表6
从表6可知，将第1电极3作成非晶质ITO，对于所含氧化锡浓度相对高的液晶显示屏O，在任一试验条件下均未发生龟裂，得到良好的结果。与此相反，将第1电极3作成结晶质ITO，则对于氧化锡浓度相对低的液晶显示屏P，在所有的试验条件下都发生龟裂。
(实施例4)在图1所示构成的液晶显示屏上，调查第1与第2树脂基板2、11的热膨胀系数的变化对电极龟裂的影响。表7示出作为测定对象的液晶显示屏Q～S。
表7
PC聚碳酸酯、EP环氧系树脂、GR玻璃如表7所示，对于液晶显示屏Q、R，使第1树脂基板2的热膨胀系数比第2树脂基板11的热膨胀系数小。另一方面，对于液晶显示屏S，使第1树脂基板2的热膨胀系数比第2树脂基板11的热膨胀系数大。
将这些液晶显示屏Q～S在湿度90％RH，60℃的环境下放置1000小时后，确认第1电极3或第2电极12上有无发生龟裂。其后再在湿度85％RH、85℃的环境下放置1000小时，同样地确认有无龟裂发生。此外，在300个周期反复80℃30分钟/-20℃30分钟的热冲击试验后确认有无龟裂的发生。表8示出其结果。
表8
从表8可知，对于第1树脂基板2的热膨胀系数比第2树脂基板11的热膨胀系数小的液晶显示屏Q，R，在任一试验条件下均未发现龟裂的发生，得到良好的结果。与此相反，对于第1树脂基板2的热膨胀系数比第2树脂基板11的热膨胀系数大的液晶显示屏S，所有的条件下都发生龟裂。还有，如表7所示，可以看出，液晶显示屏Q，R的第1与第2树脂基板2、11的热膨胀系数分别为第1与第2电极3，12的热膨胀系数的5倍以上，即使在这种情况下也可以有效地防止龟裂发生。
权利要求
1.一种液晶显示屏，其中，在第1树脂基板和第2树脂基板之间夹持液晶层，在所述第1树脂基板与第2树脂基板的对置面分别设置第1电极与第2电极，在所述第1电极和所述液晶层之间设置第1绝缘膜，所述第1电极的膜应力与膜厚之积比所述第2电极的膜应力与膜厚之积小。
2.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，在所述液晶层和所述第2电极之间设置第2绝缘膜，所述第1绝缘膜的厚度比所述第2绝缘膜的厚度大。
3.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第2电极的膜应力与膜厚之积在约100N/m以下。
4.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第1电极由导电膜单层构成，所述第2电极由包含导电膜的多层构成。
5.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第1电极与第2电极由同一材料构成，所述第1电极的厚度比所述第2电极的厚度小。
6.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第1树脂基板与第2树脂基板由同一材料构成。
7.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第1树脂基板的热膨胀系数比所述第2树脂基板的热膨胀系数小。
8.一种液晶显示屏的制造方法，包含以下工序在第1树脂基板与第2树脂基板上分别形成第1电极与第2电极的电极形成工序，在所述第1树脂基板的所述第1电极侧形成第1绝缘膜的第1绝缘膜形成工序，使所述第1电极与第2电极对置地贴合所述第1树脂基板与第2树脂基板、夹持液晶层的液晶层形成工序，其特征在于，所述电极形成工序通过用同一种金属材料在彼此不同的成膜温度下成膜，形成第1电极与第2电极，使所述第1电极的膜应力与膜厚之积比所述第2电极的膜应力与膜厚之积小。
9.一种液晶显示屏的制造方法，包含以下工序在第1树脂基板与第2树脂基板上分别形成第1电极与第2电极的电极形成工序，在所述第1树脂基板上的所述第1电极侧形成第1绝缘膜的第1绝缘膜形成工序，使所述第1电极与第2电极对置地贴合所述第1树脂基板与第2树脂基板、夹持液晶层的液晶层形成工序，其特征在于，所述电极形成工序通过用同一种金属材料在彼此不同的成膜压力下成膜，形成所述第1电极与第2电极，使所述第1电极的膜应力与膜厚之积比所述第2电极的膜应力与膜厚之积小。
10.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第1电极由没有通过X线分析产生的衍射峰的导电膜构成，所述第2电极由具有通过X线分析产生的衍射峰的导电膜构成。
11.根据权利要求10所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第1电极与第2电极由ITO构成。
12.根据权利要求11所述的液晶显示屏，其特征在于，在所述第1电极内含有的氧化锡的浓度比在所述第2电极内含有的氧化锡的浓度高。
13.一种液晶显示屏的制造方法，包含以下工序在第1树脂基板上形成第1电极的第1电极形成工序，在第2树脂基板上形成第2电极的第2电极形成工序，在所述第1树脂基板的所述第1电极侧形成第1绝缘膜的第1绝缘膜形成工序，以及使第1电极与第2电极对置地贴合所述第1树脂基板与第2树脂基板、夹持液晶层的液晶层形成工序，其特征在于，所述第1电极形成工序，通过维持由ITO构成的导电膜在非晶质状态，形成没有通过X线分析产生的衍射峰的第1电极，所述第2电极形成工序，通过使由ITO构成的导电膜结晶化，形成具有通过X线分析产生的衍射峰的第2电极，使所述第1电极的膜应力与膜厚之积比所述第2电极的膜应力与膜厚之积小。
14.根据权利要求8、9或13中任一项所述的液晶显示屏的制造方法，其特征在于，还包括在所述第2树脂基板的所述第2电极侧形成比所述第1绝缘膜厚度小的第2绝缘膜的第2绝缘膜形成工序。
全文摘要
本发明涉及液晶显示屏及其制造方法,该液晶显示屏是在第1树脂基板和第2树脂基板之间夹持液晶层,在前述第1树脂基板与第2树脂基板的对置面上分别设置第1电极与第2电极,在前述第1电极和前述液晶层之间设置第1绝缘膜,前述第1电极的膜应力与膜厚之积比前述第2电极的膜应力与膜厚之积小。
文档编号G02F1/1333GK1385739SQ0211923
公开日2002年12月18日 申请日期2002年5月10日 优先权日2001年5月11日
发明者金子尚美, 佐谷裕司 申请人:松下电器产业株式会社