专利名称：平面显示器突出部制造方法
技术领域：
本发明是关于一种平面显示器，特别是关于一种平面显示器突出部的制造方法。
背景技术：
如今，手机或PDA被考量的因素主要是电池使用时间的长短、画质的表现以及整体的重量等，因此，传统配有背光板的穿透式LCD已逐渐无法满足使用者的需求，加上大部分使用者使用手机或PDA的时间大多在白天，因此而发展出反射式LCD技术。
LCD显示器基本显示方式主要可分为两种反射式(Reflective)与穿透式(Transmissive)。穿透式LCD在显示时需要外加光源照明，称为背光，安装在LCD面板的背后。通常穿透式LCD在正常光线及暗光下，显示效果都比较好，然而，在户外(尤其在强烈日光下)却较难辨清其显示内容；加上透过背光板产生照明，耗电量较大。反射式LCD则不需要外加照明电源，因而无需背光板，并且其在户外或光线充足的地方，显示效果比较好，其弱点是在较暗处需要使用前背光源作为辅助光源，但整体而言，其耗电量仍比穿透式LCD低。
穿透式LCD的反射板只须反射导光板的泄漏光线，而反射式LCD的反射板则须反射LCD内的全部光线，因而反射式LCD对其反射板的反射率要求更高。为增强反射式LCD反射板的反射率，一般在其上设置多个突出部，以增强反射效果。请参照图1，是光线经由突出部的表面反射后的光路图。光线(未标示)射至突出部10的表面(未标示)，可被充分反射回去。
现有技术中该突出部的制造方法包括以下步骤提供一基板；在基板上形成TFT层；在TFT层上涂覆一光阻层；对光阻层进行预烤；对光阻层进行曝光、显影，以形成突出部；对光阻层再次进行烘烤。
请参照图2，首先，提供一基板100。该基板100的材料是玻璃，其形状是长方体。通过多次沉积、微影及蚀刻步骤，在该基板100上形成多个TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)层110，该TFT层110是主动控制平面显示器中每一个像素光通过量的组件。在该TFT层110上均匀涂覆一光阻层120，该步骤可利用旋涂法完成，该光阻层120的材料一般是有机光阻材料。
该现有技术平面显示器突出部的制造方法包括显影、蚀刻步骤，光线穿过具有图案的光罩200，照射至基板100上的光阻层120，光阻发生光敏反应，即可将光罩200上的图案转移至基板100上的光阻层120，经过显影、蚀刻等半导体制程，从而形成多个突出部130。
在该方法中，曝光时间、曝光能量、显影液浓度与显影时间，以及突出部设计与烘烤时间等，均影响突出部的生成，并且所形成的突出部的大小、高度、角度及均匀度等均难以有效控制，从而影响生成的突出部的反射率。请参照图3，即是该方法所形成的突出部130的侧视图。由于显影、蚀刻制程不易控制精密度，因而所生成的突出部130形状不规则，其表面(未标示)也不光滑。
发明内容为解决现有技术平面显示器突出部制造方法较难控制突出部的精密度的不足，本发明提供一种可较易控制突出部的精密度的平面显示器突出部制造方法。
本发明平面显示器突出部制造方法包括以下步骤提供一基板；在基板上形成TFT层；在TFT层上涂覆一光阻层；预烤光阻层至微硬；利用模具形成多个突出部；对该多个突出部进行烘烤。
相较于现有技术，本发明的平面显示器突出部制造方法是利用模具直接形成突出部，因模具的参数较易控制，因而可较易控制突出部的形状、大小、倾斜角度及均匀度，使突出部具合适的反射率。
图1是现有技术平面显示器突出部反射光线的光路图。
图2是现有技术平面显示器突出部制造方法的曝光、显影步骤示意图。
图3是现有技术平面显示器突出部制造方法所形成的突出部的例视图。
图4是本发明平面显示器突出部制造方法的基板结构示意图。
图5是本发明平面显示器突出部制造方法的转印步骤示意图。
图6是本发明平面显示器突出部制造方法形成的突出部示意图。
图7是本发明平面显示器突出部制造方法形成的突出部侧视图。
具体实施方式
本发明平面显示器突出部制造方法包括以下步骤提供一基板；在基板上形成TFT层；在TFT层上涂覆一光阻层；预烤光阻层至微硬；利用模具形成多个突出部；对多个突出部进行烘烤。
首先，如图4所示，提供一基板300。该基板300的材料是玻璃，当然，其材料也可以是树脂材料，其形状是长方体。通过多次沉积、微影及蚀刻步骤，在该基板300上形成TFT层310，该TFT层是主动控制平面显示器中每一个像素光通过量的组件。在该TFT层310上均匀涂覆一光阻层320，该步骤可利用旋涂法完成，当然，也可利用其它涂覆方法。该光阻层320的材料一般是有机光阻剂，当然，也可以是其它光阻材料。
请参阅图5，是本发明平面显示器突出部制造方法的转印步骤的示意图。对该光阻层320进行预烤，将其烤至微硬。该步骤所使用的模具是转印器400，其为圆筒状结构，材料一般是具有较高硬度的金属。该转印器包括一筒面410，该筒面410具有预先设计的图案，该图案与将要制造的突出部形状相对应。利用该转印器400将图案转印至该光阻层320，即可在该光阻层320形成与该图案相对应的多个突出部330。其中，该多个突出部330的形状为倾斜的三角状，当然，其也可以是其它形状，例如圆弧状。该多个突出部330是连续排列，呈锯齿状结构。该筒面410上的图案与所要形成的突出部相对应，可以是三角状或圆弧形，并且也是连续排列呈锯齿状结构。图6即是所形成的突出部的示意图，图7是突出部结构侧视图。
在形成多个突出部330之后，对该多个突出部330进行烘烤，将其烤至更高硬度。
本发明平面显示器突出部制造方法还有其他多种实施方式，例如，也可采用其他类型的模具，通过压印的方式形成突出部。
本发明平面显示器突出部制造方法不同于现有技术通过半导体制程形成突出部的方法，而是利用模具来形成突出部，如本发明实施方式中利用转印器400直接转印，将转印器400上的图案转印至光阻层320，而形成相对应的多个突出部330。转印器400的图案易于控制，因而可主动控制突出部330的形状、大小、倾斜角度及均匀度。
权利要求
1.一种平面显示器突出部制造方法，其包括以下步骤提供一基板；在基板上形成TFT层；在TFT层上涂覆一光阻层；预烤光阻层至微硬；利用模具形成多个突出部；对突出部进行烘烤。
2.根据权利要求1所述的平面显示器突出部制造方法，其特征在于该基板的材料是玻璃。
3.根据权利要求1所述的平面显示器突出部制造方法，其特征在于该基板的材料是树脂材料。
4.根据权利要求1所述的平面显示器突出部制造方法，其特征在于该光阻层的材料是有机光阻剂。
5.根据权利要求1所述的平面显示器突出部制造方法，其特征在于该模具是圆筒状转印器，其包括一筒面，该筒面具有预先设计的图案。
6.根据权利要求1所述的平面显示器突出部制造方法，其特征在于该筒面上的图案是三角状。
7.根据权利要求1所述的平面显示器突出部制造方法，其特征在于该筒面上的图案是圆弧状。
8.根据权利要求1所述的平面显示器突出部制造方法，其特征在于该筒面上的图案是连续排列，呈锯齿状结构。
全文摘要
本发明提供一种平面显示器突出部制造方法，其包括以下步骤提供一基板；在基板上形成TFT层；在TFT层上涂覆一光阻层；预烤光阻层至微硬；利用模具形成多个突出部；对该多个突出部进行烘烤。
文档编号G03F7/00GK1540404SQ03114318
公开日2004年10月27日 申请日期2003年4月21日 优先权日2003年4月21日
发明者陈永昌, 彭家鹏, 赖建廷 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 群创光电股份有限公司