对光敏平版印刷版用自动显影装置补充显影剂的方法

专利名称：对光敏平版印刷版用自动显影装置补充显影剂的方法
技术领域：
本发明涉及一种例如光敏平版印刷版用自动显影装置的显影剂补充方法。更具体而言，它涉及一种使显影剂敏感度对显影处理条件变化的波动最小化的技术。
背景技术：
一般而言，在光敏平版印刷版用的自动显影装置中，作为控制显影剂敏感度的技术，采用一种时间-和处理-基的显影剂补充剂的补充方法(以下称作“面积-与时间-基补充方法”)，其中根据时间用显影剂补充剂补充贮存显影剂的显影剂槽中，并且测量待处理的平版印刷版的印刷版面积，由此用相当于测量值的量的显影剂补充剂补充该显影剂槽。
但是，采用这种面积-与时间-基补充方法，在自动显影装置的显影处理单元中需要平版印刷版的版面积测量设备，不利地导致更复杂的结构并且招致高成本。此外，难以确定平版印刷版仅具有单面或是双面的光敏层(以下称作“单面/双面”)，和难以确定印刷版的种类(印刷版在光敏层涂布量等相互不同)。由于此原因，当由于平版印刷版的版面积、单面/双面，或印刷版种变的变化而改变所需要的显影剂补充剂的补充量时，不利地，难以正确地进行显影剂补充剂的补充。
在这些情形下，常规地，例如，如在日本专利2,516,022(JP-A-64-21451；这里所用的术语“JP-A”表示“未审查公开的日本专利申请”)中所述，对于光敏平版印刷版用自动显影装置的显影剂补充剂的供给方法，采用了如下的补充方法(以下称作“电导率基补充方法”)测量显影剂的电导率，将测量值与预先由实验确定的指示最佳敏感度的电导率值(以下称作“适宜的电导率值”)进行比较；当测量值低于适宜的电导率值时，供给显影剂补充剂。用这种电导率-基补充方法中，即使当待处理的平版印刷版的版面积、单面/双面，印刷版种类变化时，也可以以适当量供给显影剂补充剂，并且可以保持显影剂的适宜敏感度。
但是，通常存在这样一个实验事实只由碳酸气随着时间引起疲劳的显影剂和只由印刷版处理引起疲劳的显影剂相互具有不同的适宜电导率值(硅酸盐类处理剂/当补充恢复由时间导致的疲劳时(碳酸气疲劳)65mS/cm，当补充恢复由处理所导致的疲劳时55mS/cm，非硅酸盐类处理剂/当补充恢复由时间导致的疲劳时56mS/cm，当补充恢复处理疲劳时39mS/cm)。由于此原因，用前面所述的电导率-基补充方法，当处理频率如每天的处理量不同于预期值时，在实际时间-基补充量与处理-基补充量的比率和预期值之间也存在差异。因此，从各自适宜的电导率计算的显影剂的适宜电导率值变化。作为结果，引起预先设置的适宜电导率值的差异，所以不利地是，不能适宜地保持显影剂的敏感度。
相反，JP-A-9-96910建议了如下一种自动显影装置。测量补充时间间隔，并且确定在时间间隔之内考虑所需要的时间-基补充量。将确定的时间-基补充量从每步的补充量中减去。将计算值取作处理-基补充量。由此，分别确定处理-基补充量和时间-基补充量。然后，计算所得到的处理-基补充量和时间-基补充量之间的比例来修正目标电导率值。用此技术，即使当待处理的平版印刷版的版面积、单面/双面或印刷版种类变化时，通过估计处理-基补充量和时间-基补充量的比例，也可以精确地确定适宜的目标电导率值。
但是，采用前面所述的由补充时间间隔确定处理-基补充量和时间-基补充量的比例，并且修正目标电导率的方法，发生这样一个问题即在老化耗尽条件不同的情况下，不能确定处理-基补充量和时间-基补充量的精确比例。时间-基条件不同的情况包括例如大气环境中的碳酸气浓度变化了的情况，或碳酸气与显影剂的反应性变化了的情况。已知下面的事实。对于前一种情况，该值根据在安放自动显影装置的房间中工人的数量而变化。反之，对于后一种情况，其根据自动显影装置处于操作或停止而变化。换言之，用前一种方法，在下面两者之间存在差异即在单位时间基础上由实验预先确定的时间-基补充量，和在单位时间基础上根据室内工人的人数波动、或根据自动显影装置处于操作或停止的实际时间-基补充量。由于此原因，不能由补充时间间隔确定精确的时间-基补充量。这引起这样的担心即计算出一个错误的目标电导率值。
考虑到这些情形，因此本发明的一个目的是提供一种光敏平版印刷版用自动显影装置的显影剂补充方法，其可以使在显影剂敏感度对于显影处理条件的变化方面的波动最小化，同时在电导率-基补充方法中，以简单和低成本的结构实现自动显影装置的显影单元。

发明内容
发明概述可以通过下面的构造达到本发明上述目的。
1.一种对光敏平版印刷版用自动显影装置补充显影剂的方法，该方法包含用含有电解质的显影剂对多个经过图像曝光的光敏平版印刷版进行显影，同时测量显影剂的电导率值；并且根据测量的显影剂电导率值保持显影剂活性不变，其中该方法包含预先存储具有显影剂活性在适宜范围内的显影剂的电导率值作为目标电导率值；根据不同的老化耗尽条件设置的多个目标电导率算术表达式；用于确定目标电导率算术表达式的补充时间间隔的阈值；在预定的周期测量显影剂的电导率值；当测量的显影剂电导率值低于目标电导率值时，用预定量的显影剂补充剂补充显影剂；和测量前次显影剂补充剂补充和当前显影剂补充剂补充之间的补充时间间隔；基于测量的补充时间间隔和补充时间间隔的阈值，选择目标电导率算术表达式中的一个；基于选择的目标电导率算术表达式和测量的补充时间间隔，更新目标电导率值。
2.根据第1项所述的方法，其中所述的电导率值是用配备有温度传感器和温度补偿电路的测量装置测量的。
3.根据第1项所述的方法，其中将在自动显影装置第一次开始处理时的显影剂电导率值存储为具有适宜范围活性的显影剂的目标电导率值。
4.根据第1项所述的方法，其中基于测量的补充时间间隔和补充时间间隔的阈值的相对值，选择目标电导率算术表达式中的一个。
5.根据第1项所述的方法，其中预先存储第一补充时间间隔阈值Ts1和第二补充时间间隔阈值Ts2，并且当从前次补充测得的补充时间间隔T小于第一补充时间间隔阈值Ts1时，通过由下面的等式(1)表示的第一算术表达式来计算和更新新的目标电导率值dn＝C1×do+C2×T+C3…(1)do补充前的目标电导率值，dn新的目标电导率值，T测量的补充时间间隔，C1、C2和C3预先由实验确定的常数。
6.根据第5项所述的方法，当从前次补充测得的补充时间间隔T大于第一补充时间间隔阈值Ts1且小于第二补充时间间隔阈值Ts2时，通过由下面的等式(2)表示的第二算术表达式来计算和更新新的目标电导率值dn＝C4×do+C5×T+C6 …(2)do补充前的目标电导率值，dn新的目标电导率值，T测量的补充时间间隔，C4、C5和C6预先由实验确定的常数。
7.根据第6项所述的方法，其中当从前次补充测得的补充时间间隔T大于第一补充时间间隔阈值Ts1和第二补充时间间隔阈值Ts2时，通过由下面的等式(3)表示的第三算术表达式来计算和更新新的目标电导率值dn＝C7×do+C8 …(3)do补充前的目标电导率值，dn新的目标电导率值，C7和C8预先由实验确定的常数。


图1所示为用于实施本发明显影剂补充方法的第一实施方案的自动显影装置的构造图。
图2所示为本发明的显影剂补充方法中由控制器控制的内容流程图。
图3所示为用于实施本发明显影剂补充方法的第二实施方案的自动显影装置的构造图。
参考数字和符号的描述2，100 自动显影装置4，112 PS板6，122 显影单元20，118显影槽50 控制器51a控制ROM51b控制RAM52 时间测量单元53 补充剂稀释液贮槽55，266未稀释的补充剂贮槽73，262电导率传感器74，264未稀释的补充剂供给泵76 补充剂稀释液供给泵90，91 补充导管发明详述在本发明中，“显影剂补充剂”表示为了保持显影性能相同将要补充的处理液。一般而言，对于补充剂，使用的有通过用稀释剂(例如，水)稀释未稀释的补充剂而制备的一种溶液和没有被稀释的未稀释的补充剂原样。在本发明中，“显影剂补充剂”表示通过用稀释剂稀释未稀释的补充剂而制备的一种溶液。而且，以下面的方式完成其供给。向显影剂中供给以稀释液的形式预先制备的补充剂。备选地，直接向显影剂中分别供给未稀释的补充剂和稀释剂。
此外，本发明使用的测量显影剂电导率值的电导率传感器是已知的工具如AC电导率计，AC桥式电导率计，或其它电导率计。此外，尽管对于测量设备的测量的电流值，振荡频率等的最佳条件根据显影剂的组成等而不同。但是，从设备和防止水性显影剂的电解方面考虑，优选电流值低至某种程度，即从几百mA至几个μA。此外，从与在显影剂中的静电电容成份的关系方面考虑，优选频率为几百Hz至几百kHz。
含有电解质的显影剂的电导率值依赖于水溶液的温度，并且电导率值随着溶液温度的升高而降低。因此，更优选地，优选使用配备有温度传感器和温度补偿电路的测量装置来测量电导率值。此外，由用于控制补充的控制器，也可以根据实际测量的溶液电阻值和用于温度补偿的溶液温度来进行在预设置温度下的电导率值的计算。AC电导率计、AC桥式电导率计或其它电导率计可以安置于任何位置，只要这个位置是便于电导率计可以在测量期间浸渍于显影剂中测量显影剂的AC电导率值即可。例如，优选将传感器安置于在自动显影装置的显影剂循环系统里面，特别是在显影槽或循环管中。此外，对于在检测单元，可以使用用于电极的众所周知的使用铂、不锈钢或类似物的测量元件。
然后，将描述可以用于本发明的显影剂和显影剂补充剂。
1.显影剂和显影剂补充剂[碱性试剂]可以用于本发明的显影剂和显影剂补充剂是一种pH为9.0至13.5并且更优选为10.0至13.3的碱性水溶液。对于这种显影剂和显影剂补充剂，可以使用常规已知的碱性水溶液。其实例可以包括无机碱试剂如硅酸钠、硅酸钾、磷酸三钠、磷酸三钾、磷酸三铵、磷酸二钠、磷酸二钾、磷酸二铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、硼酸钠、硼酸钾、硼酸铵、氢氧化钠、氢氧化铵、氢氧化钾和氢氧化锂。此外，也可以使用的是有机碱试剂如单甲胺、二甲胺、三甲胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺、三异丙胺、正-丁胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、吖丙啶、1，2-乙二胺和吡啶。
在这些碱性试剂中，优选硅酸盐如硅酸钠或硅酸钾的水溶液。这是因为可以通过作为硅酸盐成份的二氧化硅SiO2与碱金属氧化物M2O的比率(通常表示为[SiO2]/[M2O]的摩尔比)及其浓度来控制pH值和显影性能。例如，本发明优选使用包含具有SiO2/K2O的摩尔比为0.5至2.0(即[SiO2]/[K2O]为0.5至2.0)并且SiO2的含量为1至4质量％的硅酸钾水溶液的碱金属硅酸盐。
对于其它优选的碱性试剂，可以提及的有包含弱酸和强碱的缓冲溶液。对于用作这种缓冲溶液的弱酸，优选酸离解常数(pKa)为10.0至13.3的那些，并且特别是pKa为11.0至13.1的那些。此外，例如，对于磺基水杨酸的情况，其第三离解常数为11.7，并且可以优选将其用于本发明。即，对于多元酸，可以将任何多元酸用于本发明，只要其至少一个酸离解常数落入前面所述的范围即可。
这种弱酸选自在由Pergamon Press Co.出版的IONIZATIONCONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION等中所述的那些。弱酸实例可以包括醇如2，2，3，3-四氟丙醇-1(pKa 12.74)、三氟乙醇(pKa 12.37)和三氯乙醇(pKa 12.24)；醛如吡啶-2-醛(pKa 12.68)和吡啶-4-醛(pKa 12.05)；糖类如山梨糖醇(pKa 13.0)、蔗糖(pKa 12.7)、2-脱氧核糖(pKa 12.61)、2-脱氧葡萄糖(pKa 12.51)、葡萄糖(pKa 12.46)，半乳糖(pKa12.35)、阿糖(pKa 12.34)、木糖(pKa 12.29)、果糖(pKa 12.27)、核糖(pKa12.22)、甘露糖(pKa 12.08)和L-抗坏血酸(pKa 11.34)；含有酚式羟基的化合物如水杨酸(pKa 13.0)、3-羟基-2-萘甲酸(pKa 12.84)、儿茶酚(pKa 12.6)、五倍子酸(pKa 12.4)、磺基水杨酸(pKa 11.7)、3，4-二羟基苯磺酸(pKa 12.2)、3，4-二羟基苯甲酸(pKa 11.94)、1，2，4-三羟基苯(pKa 1 1.82)、氢醌(pKa11.56)、连苯三酚(pKa 11.34)和间苯二酚(pKa 11.27)；肟如2-丁酮肟(pKa12.45)、丙酮肟(pKa 12.42)、1，2-环庚二酮二肟(pKa 12.3)、2-羟基苯甲醛肟(pKa 12.10)、丁二酮肟(pKa 11.9)、乙烷二酰胺二肟(pKa 11.37)和苯乙酮肟(pKa 11.35)；氨基酸如2-喹诺酮(pKa 11.76)、2-吡啶酮(pKa 11.65)、4-喹诺酮(pKa 11.28)、4-吡啶酮(pKa 11.12)、5-氨基戊酸(pKa 10.77)、2-巯基喹啉(pKa 10.25)和3-氨基丙酸(pKa 10.24)；与核酸有关的物质如氟尿嘧啶(pKa 13.0)、鸟苷(pKa 12.6)、尿苷(pKa 12.6)、腺苷(pKa 12.56)、肌苷(pKa12.5)、鸟嘌呤(pKa 12.3)、金雀花碱(pKa 12.2)、胞嘧啶(pKa 12.2)、次黄嘌呤(pKa 12.1)和黄嘌呤(pKa 11.9)；和其它弱酸如二乙基氨甲基膦酸(pKa12.32)、1-氨基-3，3，3-三氟苯甲酸(pKa 12.29)、异亚丙基二膦酸(pKa 12.10)、1，1-亚乙基二膦酸(pKa 11.54)、1-羟基-1，1-亚乙基二膦酸(pKa 11.52)、苯并咪唑(pKa 12.86)、硫代苯甲酰胺(pKa 12.8)、甲基吡啶硫代酰胺(pKa 12.55)和巴比土酸(pKa 12.5)。
对于将与弱酸组合的强碱，使用的是氢氧化钠、氢氧化铵、氢氧化钾和氢氧化锂。可以单独或两种或多种组合使用这些碱性试剂。在这些碱性缓冲剂中，优选的那些是磺基水杨酸、水杨酸、蔗糖和山梨糖醇中的任何一种与氢氧化钠和氢氧化钾中的任何一种的组合。特别优选的组合是山梨糖醇与氢氧化钾或氢氧化钠的组合。通过浓度和组合来将前面所述的各种碱性试剂的pH控制在优选的范围内并且使用它。
如果需要，为了促进显影性能、分散显影剂浮渣和增强印刷版图像区域对油墨的亲合力的目的，可以向用于本发明的显影剂和补充剂中加入各种表面活性剂和各种有机溶剂。优选表面活性剂是阴离子、阳离子、非离子和两性的表面活性剂。
表面活性剂的优选实例包括非离子表面活性剂如聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、脂肪酸甘油偏酯、脂肪酸脱水山梨醇偏酯、脂肪酸季戊四醇偏酯、脂肪酸丙二醇单酯、脂肪酸蔗糖偏酯、脂肪酸聚氧乙烯脱水山梨糖醇偏酯、脂肪酸聚氧乙烯山梨糖醇偏酯、脂肪酸聚乙二醇酯、脂肪酸聚丙三醇偏酯、聚氧乙烯化的蓖麻油、脂肪酸聚氧乙烯丙三醇偏酯、脂肪酸二乙醇酰胺、N，N-二-2-羟烷基胺、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂肪酸酯和三烷基胺氧化物；阴离子表面活性剂如脂肪酸盐、枞酸盐、羟基链烷磺酸盐、链烷磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸酯盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚盐、N-甲基-油基牛磺酸钠盐、N-烷基磺基琥珀酸单酰胺二钠盐、石油磺酸盐、硫酸化的牛脂、脂肪酸烷基酯的硫酸盐、烷基硫酸盐、聚氧乙烯烷基醚硫酸盐、脂肪酸单甘油酯硫酸盐、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸盐、烷基磷酸盐、聚氧乙烯烷基醚磷酸盐、聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸盐、部分皂化的苯乙烯/马来酸酐共聚物产品、部分皂化的烯烃/马来酸酐共聚物产品和萘磺酸盐的福尔马林-缩合物；阳离子表面活性剂如烷基胺盐、季铵盐如溴化四丁基铵、聚氧乙烯烷基胺盐和聚乙烯聚胺的衍生物；和两性表面活性剂如羧基甜菜碱、氨基羧酸、磺基三甲铵乙内酯、氨基硫酸盐和咪唑啉。在上面所提及的表面活性剂中，术语“聚氧乙烯”可以读作“聚氧化烯”如聚甲醛、聚氧化丙烯或聚氧化丁烯，并且这些表面活性剂也包括于本发明的范围内。
进一步优选的表面活性剂是在它们的分子中含有全氟烷基的含氟表面活性剂。这种含氟表面活性剂的实例可以包括阴离子的如全氟烷基羧酸盐、全氟烷基磺酸盐和全氟烷基磷酸盐；两性的如全氟烷基甜菜碱；阳离子的如全氟烷基三甲基铵盐；和非离子的如全氟烷基胺氧化物、全氟烷基环氧乙烷加合物、含有全氟烷基和亲水基的低聚物、含有全氟烷基和亲油基的低聚物、含有全氟烷基、亲水基和亲油基的低聚物和含有全氟烷基和亲油基的氨基甲酸酯。
可以单独或两种或多种组合使用上面所提及的表面活性剂，并且向显影剂中以0.001至10质量％且更优选以0.01至5质量％的量加入。
在可以用于本发明的显影剂和补充剂中，使用各种显影稳定剂。其优选实例可以包括在JP-A-6-282079中所公开的糖醇的聚乙二醇加合物，四烷基铵盐如氢氧化四丁基铵，鏻盐如溴化四丁基鏻和碘鎓盐如氯化二苯基碘鎓。
它们还包括在JP-A-50-51324中所述的阴离子表面活性剂或两性表面活性剂，在JP-A-55-95946中所述的水溶性阳离子聚合物和在JP-A-56-142528中所述的水溶性两性聚电解质。
此外，它们包括在JP-A-59-84241中所述的加入了烷撑二醇的有机硼化合物，在JP-A-60-111246中所述的聚氧乙烯-聚氧化丙烯嵌段聚合型水溶性表面活性剂，在JP-A-60-129750中所述的聚氧乙烯-聚氧丙烯-取代的烷撑二胺化合物，在JP-A-61-215554中所述的重均分子量为300或更高的聚乙二醇，在JP-A-63-175858中所述的含有阳离子基的含氟表面活性剂，在JP-A-2-39157中所述的通过向酸或醇中加入4摩尔或更多的环氧乙烷而得到的水溶性环氧乙烷加成化合物，和水溶性的聚亚烷基化合物。
如果需要，可以再向显影剂和显影剂补充剂中加入有机溶剂。这种有机溶剂在水中的溶解度适宜地为约10质量％或更低，并且优选其选自在水中的溶解度为5质量％或更低的那些。其实例可以包括1-苯基乙醇、2-苯基乙醇、3-苯基-1-丙醇、4-苯基-1-丁醇、4-苯基-2-丁醇、2-苯基-1-丁醇、2-苯氧基乙醇、2-苄氧基乙醇、邻-甲氧苄醇、间-甲氧苄醇、对-甲氧苄醇、苄醇、环己醇、2-甲基环己醇、3-甲基环己醇、4-甲基环己醇、N-苯基乙醇胺和N-苯基二乙醇胺。基于所使用的溶液总质量，有机溶剂的含量为0.1至5质量％。所使用的溶液的量与所使用的表面活性剂的量紧密联系。优选表面活性剂的量随着有机溶剂量增加而增加。这是由于下面的事实。当表面活性剂的用量少且有机溶剂的用量大时，不能完全溶解有机溶剂。作为结果，不能期望保证良好的显影性能。
可以再向用于本发明的显影剂和补充剂中加入还原剂。这防止印刷版受到玷污。尤其是，这对于显影含有光敏的重氮盐化合物的阴片光敏平版印刷版特别有效。有机还原剂的优选实例可以包括酚类化合物如硫代水杨酸、氢醌、米吐尔、甲氧基醌、间苯二酚和2-甲基间苯二酚；和胺类化合物如苯二胺和苯肼。无机还原剂进一步优选的实例可以包括无机酸如亚硫酸、亚硫酸氢酸、亚磷酸、亚磷酸氢酸、亚磷酸二氢酸、硫代硫酸和连二亚硫酸的钠盐、钾盐和铵盐。在这些还原剂中，亚硫酸盐在防止玷污效果方面特别优异。基于使用中的显影剂的量，优选以0.05至5质量％的量含有这些还原剂。
也可以再向用于本发明的显影剂和补充剂加入有机羧酸。优选有机羧酸为含6至20个碳原子的脂族羧酸和芳族羧酸。脂族羧酸的具体实例包括己酸、庚酸、辛酸、月桂酸、肉豆蔻酸、棕榈酸和硬脂酸。特别优选的是含8至12个碳原子的链烷酸。此外，它们可以是在其碳链上含有双键的不饱和脂肪酸或者是含有支化碳链的那些。
芳族羧酸是一种包含在苯环、萘环和蒽环等上取代的羧基的化合物。其具体实例可以包括邻-氯苯甲酸、对-氯苯甲酸、邻-羟基苯甲酸、对-羟基苯甲酸、邻-氨基苯甲酸、对-氨基苯甲酸、2，4-二羟基苯甲酸、2，5-二羟基苯甲酸、2，6-二羟基苯甲酸、2，3-二羟基苯甲酸、3，5-二羟基苯甲酸、五倍子酸、1-羟基-2-萘甲酸、3-羟基-2-萘甲酸、2-羟基-1-萘甲酸、1-萘甲酸和2-萘甲酸。特别有效的是羟基萘甲酸。
为了增加脂族和芳族羧酸在水中的溶解度，优选将其以钠盐、钾盐或铵盐的形式使用。对用于本发明的显影剂中的有机羧酸的含量没有特别限制。但是，当其低于0.1质量％时，得到的效果是不足够的。相反，当其为10质量％或更多时，不仅未实现在效果上进一步提高，而且当组合使用另一种添加剂时，可以抑制其溶解。因此，基于使用中的显影剂的量，优选待加入的有机羧酸的量为0.1至10质量％，并且更优选为0.5至4质量％。
可以向显影剂，洗涤水或修整液中加入防腐剂。可以使用用于纤维、木材加工、食品、化妆品和农用化学领域和其它领域中的已知防腐剂。可以使用已知的防腐剂，如季铵盐，一元酚衍生物，二元酚衍生物，多元酚衍生物，咪唑衍生物，吡唑嘧啶衍生物，一元萘酚，碳酸酯，砜衍生物，有机锡化合物，环戊烷衍生物，苯基衍生物，酚醚衍生物，酚酯衍生物，羟基胺衍生物，腈衍生物，萘，吡咯衍生物，喹啉衍生物，苯并噻唑衍生物，仲胺，1，3，5-三嗪衍生物，噻二唑衍生物，N-(某)酰苯胺衍生物，吡咯衍生物，卤素衍生物，二元醇衍生物，二硫酚，氰酸衍生物，硫脲衍生物，双胺衍生物，异噻唑衍生物，一元醇，饱和的醛，不饱和的一元羧酸，饱和的醚，不饱和的醚，内酯，氨基酸衍生物，乙内酰脲，氰脲酸衍生物，胍衍生物，吡啶衍生物，饱和的一元羧酸，苯羧酸衍生物，羟基羧酸衍生物，联苯，异羟肟酸衍生物，芳香醇，卤代苯酚衍生物，苯羧酸衍生物，巯基羧酸衍生物，季铵盐衍生物，三苯基甲烷衍生物，4-异丙基环庚二烯酚酮，呋喃衍生物，苯并呋喃衍生物，吖啶衍生物，异喹啉衍生物，胂衍生物，硫代氨基甲酸衍生物，磷酸酯，卤代苯衍生物，醌衍生物，苯磺酸衍生物，一元胺衍生物，有机磷酸酯，哌嗪衍生物，吩嗪衍生物，嘧啶衍生物，托布津(thiophanate)衍生物，咪唑啉衍生物，异噁唑衍生物和铵盐衍生物。对于特别优选的防腐剂，可以提及的有吡啶硫羟-1-氧化物的盐，水杨酸及其盐，1，3，5-三羟乙基六氢化-S-三嗪，1，3，5-三羟甲基六氢化-S-三嗪，1，2-苯并异噻唑啉-3-酮，5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮，2-溴-2-硝基-1，3-丙二醇。优选以这样的量加入这些防腐剂，以便它们稳定地显示抗细菌、霉菌、酵母等的效果。其优选加入量根据细菌、霉菌(mole)、酵母等的种类而改变。但是，基于所使用的溶液量，优选以0.01至4质量％的量使用防腐剂。此外，优选使用两种或多种防腐剂，以致于产生抗各种霉菌和细菌的功效。
如果需要，本发明所用的显影剂和补充剂还可以进一步含有防沫剂、硬水软化剂剂等。硬水软化剂的实例可以包括聚磷酸及其钠盐、钾盐和铵盐；氨基-多羧酸如乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、硝酰三乙酸、1，2-二氨基环己烷四乙酸和1，3-二氨基-2-丙醇四乙酸及它们的钠盐、钾盐和铵盐，氨基三(亚甲基膦酸)，乙二胺四(亚甲基膦酸)，二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)，三亚乙基四胺六(亚甲基膦酸)，羟乙基乙二胺三(亚甲基膦酸)和1-羟乙烷-1，1-二膦酸及它们的钠盐、钾盐和铵盐。
将要加入的硬水软化剂量的最佳值根据其螯合力，待使用硬水的硬度和硬水的量而改变。但是，如果表示通常的用量，基于使用时的显影剂的量，其为0.01至5质量％，并且更优选为0.01至0.5质量％的范围内。当其小于此范围时，不能充分地达到意欲的目的。反之，当该量超过此范围时，在图像区域出现不利的作用如产生褪色。
显影剂和补充剂的剩余组分是水，如果需要，可以再加入在本领域已知的各种添加剂。从运输方面考虑，本发明所用的显影剂和补充剂可以有利地采用浓缩液形式，该浓缩液的水含量低于使用时的水含量，并当使用时用水稀释它们。在那种情况下的浓缩度为这样的程度是适宜的，即不引起相应的组分分离和沉淀的程度。优选显影剂的温度为15至40℃，并且更优选为20至35℃。优选显影时间为5至60秒，并且更优选为7至40秒。
除了前面所述的显影剂外，也可以将本发明的方法应用于EP0836120A1，EP0908785A，EP0908306A，EP0914941A1，JP-A-11-327163，JP-A-11-327160和日本专利申请2000-255670等中所述的显影剂。
接着，以下将要描述可以用于本发明的光敏平版印刷版。对于可以通过红外激光器曝光而记录的图像记录材料，在JP-A-7-285275，JP-A-11-119419和日本专利申请11-182751等中建议了阳片图像记录材料，其各自含有粘合剂如甲酚树脂，一种吸收光和产生热的物质，和另一种可热分解的并且在未分解的状态明显降低粘合剂的溶解度的物质如醌二叠氮。对于阳片图像记录材料，在曝光区域，吸收光和产生热的物质产生热量，由此显示曝光区域的溶解度。
此外，JP-A-7-20625，JP-A-11-218903和日本专利申请11-308286和11-332936等描述了阴片图像记录材料，其各自包含通过光或热引起分解并且生成酸的化合物，由酸导致交联的交联剂，至少一种碱溶性树脂和红外光吸收剂。对于阴片图像记录材料，在曝光区域，吸收光和产生热的物质产生热量，由热引起分解且生成酸的化合物生成酸。这促进了由酸导致交联的关联剂与碱溶性树脂之间的交联反应，由此进行图像记录。
可以将上面所述的图像记录材料用作平版印刷版。为了形成平版印刷版，通过红外激光器曝光而在平版印刷版上进行图像记录。然后，如果需要，将印刷版进行热处理，接着进行显影处理。
此外，本发明也可应用于如在日本专利申请10-251521，JP-A-2000-39724和日本专利申请2000-276811所公开的使用可光聚合组合物的光敏平版印刷版的处理。使用可光聚合组合物的光敏平版印刷版具有通过对铝板进行亲水化处理而得到的载体，和在载体上的可光聚合的光敏层，该光敏层含有含可加聚烯式双键的化合物和在其侧链中含有可交联基团的聚合物。本发明也可以用于这样的处理，用激光将平版印刷版进行曝光，然后对其进行显影。
此外，也可以将本发明应用于在如JP-A-9-274324，JP-A-2000-231188和日本专利申请2000-13656中所公开的常规广泛使用的阳片光敏平版印刷版的处理。此阳片光敏平版印刷版包括作为载体的铝板，和在铝板上的包含邻-苯醌二叠氮化合物的光敏层。已知邻-苯醌二叠氮化合物通过紫外光曝光将转变为羧酸。因而，当其用碱性水溶液进行显影时，只除去光敏层的曝光区域，以便暴露载体的表面。由于铝载体的表面是亲水性的，通过显影暴露载体的区域(非图像区域)保水并且排斥油基油墨。另一方面，由于没有除去光敏层的区域(图像区域)是亲油性的，该区域排斥水并且接受油墨。对于阳片光敏平版印刷版的光敏层，通常将甲酚酚醛清漆树脂用作邻-苯醌二叠氮化合物的粘合剂。再有，本发明的方法也可以应用于在JP-A-7-295212和日本专利申请2000-103135所述的阴片光敏平版印刷版。
以下将参考在附图中举例说明的实施方案来描述本发明。图1所示为用于实施本发明显影剂补充方法的第一实施方案的自动显影装置的构造图。
如图1所示，自动显影装置2包括用于对光敏平版印刷版(以下称作“PS板”)4进行显影处理的显影单元6，用于显影和在其上涂布树胶液体之后洗掉粘附于PS板4的显影剂的两级结构的整理剂单元8，和用于在涂布树胶液体之后干燥PS板的干燥单元10。
此外，当在显影处理之前需要对PS板4进行加热处理时，也可以提供未示于图1的预加热单元。预加热单元被安置在显影单元6输送方向的上游侧，并且具有只有在预定的期间保持指定PS板表面温度同时输送PS板4的作用。将插入在预加热单元的PS板4在加热下自动地输送至下一步骤。此外，也可以提供未示于图1的预水洗单元。预水洗单元被安置在显影单元6输送方向的上游侧，并且在预加热单元输送方向的下游侧，并且其具有用清洗水清洗和冷却PS板表面同时输送PS板4的作用。将插入在预水洗单元的PS板4自动地输送至下一步骤的显影单元6。
在自动显影装置2的侧板12中形成插入口14，并且由输送辊16将通过插入口14插入的PS板4输送至显影单元6。在插入口14，安置了橡胶刀18，以便除非当将PS板4插入时，由橡胶刀18关闭插入口14。
在显影单元6的显影槽20中，从输送方向上游侧按此顺序包括了输送辊22，刷辊24和挤压辊26，并且在这些辊中间适宜地位置处包括支撑辊28。将PS板4浸渍于显影剂中同时由输送辊22进行输送，由此进行显影处理。
接着显影单元6的整理剂单元8包括第一整理剂单元8a和第二整理剂单元8b。在相应的整理剂单元8a和8b，安置了用于输送PS板4的输送辊30a和30b，用于向PS板4上喷淋在整理剂槽32a和32b中的树胶液的喷射部件34a和34b。因此，用树胶液由喷射部件34a和34b喷淋显影处理后的PS板4，同时由输送辊30a和30b输送。顺便提及，位于下游侧的第二整理剂单元8b的整理剂槽32b中的树胶液是以溢流的方式供入给位于上游侧的第一整理剂单元8a的整理剂槽32a中的。也可以使用泵等以同样的方式代替这样的结构来供给树胶液。
备选地，也可以使用下面的结构。第一整理剂单元8a为用清洗水的水洗区。向第一整理剂单元8a的整理剂槽32a中，在没有供给来自于第二整理剂单元8b的溶液条件下，通过未显示的供给泵来供给清洗水。
接着整理剂单元8的干燥单元10按从输送方向上游侧按此顺序配备有导辊36和一对串联辊38。此外，干燥单元10配备有未显示的干燥单元如热风供给装置或热量产生装置。在干燥单元10中，提供排放口40，以便将由干燥装置10干燥的PS板4通过排放口40排放出来。此外，在干燥单元10和整理剂单元8之间的路径46中提供有闸门44，以便除非PS板4经过路径46时，由闸门44关闭路径46。
此外，向第二整理剂槽32b中，通过泵77供给在树胶液槽56中的树胶液，并且也通过补充剂稀释液供给泵78供给在补充剂稀释液贮槽53中的稀释液57。在此，树胶液与稀释液的补充比率为例如1∶1。根据补充，将从第一整理剂槽32a溢流来的树胶废液以与显影剂废溶液相同的方式回收入废液槽54中。
在显影槽20中，提供与槽壁成为一体的箱子状防护盖60。以弧形连续地这样弯曲防护盖60的下壁，以使它不与输送辊22、刷辊24和支撑辊28的上外围表面接触。作为结果，防止这些辊的相互干涉等。
由于形成箱子状的防护盖60，在显影槽20的上面形成了密封的空间，由此使在显影单元6的空气量最小化。此外，防护盖60的存在使显影剂与空气之间的接触面积最小化。
在前面所述结构的自动显影装置2中，在适宜位置提供橡胶刀62，以便与外面大气基本密封地形成显影单元6至第二整理剂单元8b的空间。这防止了外面的空气进入其中。此外，也由橡胶刀62基本密封地形成显影单元6和第一整理剂单元8a之间的空间。这防止在第一整理剂单元8a内的空气流入显影单元6。因而，显影单元6具有密封的结构，其是基本上气密的，并且尽管在PS板4路过那里时空气少量地流入那里，但其接受少量的空气。
然后，将详细描述显影单元6。将显影剂的循环导管80连接到显影槽20。在循环导管80中，分别安置显影剂循环泵71，电导率传感器73和过滤器(未示例)。
显影剂循环泵71通过显影槽20底部提供的吸入口将在显影槽20中的显影剂抽吸进入循环导管80中，允许显影剂经过循环导管80并且将其再次排放进入显影槽20中。过滤器过滤流经循环导管80的显影剂。电导率传感器73测量流经循环导管80的显影剂的电导率。
此外，显影单元6配备有补充导管90和91，提供了与补充导管90相连接的未稀释的补充剂贮槽55，在补充导管90中插入的未稀释补充剂供给泵74，与补充导管91相连接的补充剂稀释液贮槽53，在补充导管91中插入的补充剂稀释液供给泵76，其分别构成补充设备。这些行使补充剂供给装置的作用。将从显影槽20溢流的显影剂废液回收到废液槽54中。
具体地，在显影槽20的附近提供一对显影剂补充剂的补充导管90和91，该显影剂补充剂是通过用补充稀释液57稀释未稀释的显影剂补充剂58而得到的。用于未稀释的显影剂补充剂58的补充导管90的另一端(图1的底部中间)连接至未稀释补充剂贮槽55。在该导管中提供未稀释的补充剂供给泵74。未稀释的补充剂供给泵74将未稀释的显影剂补充剂58从未稀释的补充剂贮槽55中供给至显影槽20。
将补充剂稀释液57的补充导管91的另一端(图1的底部中间)连接至补充剂稀释液贮槽53。在该导管中提供补充剂稀释液供给泵76。补充剂稀释液供给泵76将补充剂稀释液(水)57从补充剂稀释液贮槽53中供给至显影槽20。即，补充导管91，补充剂稀释液供给泵76和补充剂稀释液贮槽53构成稀释液补充设备。
通过控制器(控制装置)50来控制未稀释的补充剂供给泵74和补充剂稀释液供给泵76，该控制器50包括为条件贮存装置的控制ROM 51a或控制RAM 51b，和基于来自电导率传感器73和时间测量单元52的信号的时间测量单元52。
即，基于在适宜计时下来自印刷版检测传感器27的信号，控制器50驱动输送辊22，刷辊24，挤压辊26等，由此处理和输送PS板。
此外，当由电导率传感器73测得的电导率值低于基于显影剂补充剂的替换比率等计算的适宜电导率值时，控制器50从未稀释的补充剂贮槽55和补充剂稀释液贮槽53中、以预定的补充量/补充剂的稀释比率向显影槽20中供给显影剂补充剂(未稀释的显影剂补充剂58+补充剂稀释液57)。
然后，控制器50依靠时间测量单元52测量从前次补充直到当前一次补充所经过的时间，使用该值计算新的目标电导率值，并且修正和更新所计算的新目标电导率值。
然后，将参考图2和3描述通过控制器50的控制。
图2所示为通过控制器50的控制方法流程图。图3是举例说明在自动显影装置启动之后，在测量的电导率值超过目标电导率值后的控制流程图。
本发明示于图2的控制方法示意如下。对于具有活性在适宜范围内的显影剂的电导率值，例如将在自动显影装置处理的第一次启动时的显影剂电导率值存储为目标电导率值。然后于给定的周期测量显影剂的电导率值。当测量的电导率值低于目标电导率值时，向显影剂中供给预先给定量的显影剂补充剂。
在此步骤，测量补充时间间隔，其为用显影剂补充剂的前次补充所经过的时间。然后，根据该补充时间间隔和预先设置的补充时间间隔的阈值谁更大选择用于计算目标电导率值的算术表达式。由所选择的算术表达式来相继修正和更新目标电导率值。
预先准备了多个可能的用于计算目标电导率值和补充时间间隔阈值的算术表达式。
这是为了防止在待修正的基于补充时间间隔的目标电导率值和适宜的电导率值之间由于下面的原因而发生差异。显影剂的老化耗尽条件由于环境碳酸气浓度的波动、显影剂温度的变化等而不同地变化。因此，不能完全允许老化耗尽条件的变化只具有一个补充时间间隔阈值。
以下，将继续描述图2的控制过程。
在自动显影装置启动后即刻的步骤1(以下简称为S1)中，确定自动显影装置的启动是不是第一次启动。如果是第一次启动，系统移动至S2，在此，在存储器单元中将在处理开始时的显影剂电导率值储存为初始目标电导率值。
顺便提及，当显影剂活性落入在适宜的范围内时，也可以将存在于显影剂槽中的处理后的显影剂的电导率值取作为目标电导率值，而不管是否进行了补充。显影剂的电导率值落入在适宜的范围内与否通常是通过光敏平版印刷版确定的，在该光敏平版印刷版上可以商购的灰阶影像如阶梯式光楔(Stepwedge)(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备)被灼烧。
根据自动显影装置的第一次或连续的启动，系统从S3开始。
顺便提及，尽管未在此流程图中示出，用此实施方案的自动显影装置在预先给定的周期测量显影剂的电导率值。
然后，在S3，确定在每个给定周期测得的电导率值是大于或是小于在S2中存储的目标电导率值。当其小于目标电导率值时，系统转到S4。反之，当其大于目标电导率值时，系统转到S11。
在S4，为了使显影剂的电导率值更接近于目标电导率值，向显影剂供给预先给定量的显影剂补充剂。
在接着的S5中，测量从前次补充所消逝的时间(补充时间间隔)T。
在接着的S6中，确定在S5测得的消逝时间T是大于或是小于预先设置的第一个补充时间间隔阈值Ts1。当自前次补充的消逝时间T小于第一补充时间间隔阈值Ts1时，系统转到S8。反之，当自前次补充的消逝时间T大于第一补充时间间隔阈值Ts1时，系统转到S7。
在S8，使用在S5测得的补充时间间隔，通过由下面的等式(1)表示的第一算术表达式计算另一目标电导率值。然后，修正和更新通过S2记录的前一目标电导率值dn＝C1×do+C2×T+C3…(1)do补充前的目标电导率值，dn另一目标电导率值，T预先在S5中测量的补充时间间隔，C1、C2和C3预先由实验确定的常数。
在S7中，类似于S6，确定在S5测得的消逝时间T是大于或是小于预先设置的第二补充时间间隔阈值Ts2。当自前次补充的消逝时间T小于第二补充时间间隔阈值Ts2时，系统转到S9。反之，当自前次补充的消逝时间T大于第二补充时间间隔阈值Ts2，系统转到S10。
在S9，使用在S5测得的补充时间间隔T，通过由下面的等式(2)表示的第二算术表达式计算另一目标电导率值。然后，修正和更新通过S2记录的前一目标电导率值dn＝C4×do+C5×T+C6 …(2)do补充前的目标电导率值，dn另一目标电导率值，T预先在S5测得的补充时间间隔，C4、C5和C6预先由实验设定的常数。
而在S10中，在没有使用在S5测得的补充时间间隔T的条件下，通过由下面的等式(3)表示的第三算术表达式计算另一目标电导率值。然后，修正和更新通过S2记录的前一目标电导率值dn＝C7×do+C8…(3)do补充前的目标电导率值，
dn另一目标电导率值，C7和C8预先由实验设定的常数。
在上述等式(1)至(3)中，C1的优选范围为0.000至1.000，更优选为0.998，C2的优选范围为-3.0000至+3.0000，更优选为0.0274，C3的优选范围为0.000至3.000，更优选为0.112，C4的优选范围为0.000至1.000，更优选为0.998，C5的优选范围为-0.5000至+0.5000，更优选为0.0137，C6的优选范围为0.000至+3.000，更优选为0.112，C7的优选范围为0.000至1.000，更优选为0.998，C8的优选范围为-30.000至+30.000，更优选为0.853，“do”的优选范围(“do”的初始值)为30至60mS/cm，更优选为43 mS/cm。
通过对于经过前面的S8、S9和S10的新计算的目标电导率值的修正/更新，系统转到S11。当操作开关为ON时，系统转到S3。反之，当操作开关为OFF时，系统由于装置的关闭而中止。
按照自动显影装置的控制，预先准备了多个补充时间间隔阈值和多个用于修正与相应的补充时间间隔阈值相对值相对应的目标电导率值。根据补充时间间隔的大小来修正/更新目标电导率值。作为结果，可以不断地设置对应于老化耗尽条件的变化的适宜目标电导率值，即，大气碳酸气浓度的变化，或碳酸气与显影剂的反应性的变化作为在自动显影装置运转或关闭下可观察到的条件。因此，可以进行具有稳定给定敏感度的显影处理。因而，可以使显影剂敏感度对显影处理条件变化的波动最小化，同时以简单和低成本的结构实现自动显影装置的显影单元。
接着，以下将描述本发明的第二实施方案。图3所示为根据本发明第二实施方案的自动显影装置的构造图。
如图3所示，在此实施方案的自动显影装置100中，由外盖板114罩住里面的处理单元。在外盖板114里面，安置有显影单元122，其包括用于对PS板112进行显影处理的显影槽和用于回收从显影槽118溢流出来的显影剂的溢流管120，用于清洗沉积在PS板112上的的显影剂的水清洗单元124，和用于向脱敏化处理的水洗后的PS板112上涂布树胶溶液的整理剂单元126。顺便提及，在水清洗单元124中，安置有清洗水槽128。此外，在整理剂单元126中，安置有树胶液槽130。
在外盖板114中，分别提供狭缝状的插入口202和排放口204。在外盖板114的上表面上，在显影单元122和水清洗单元124之间提供用于插入PS板112的再进入插入口(子-插入口)250。此子-插入口250是一个用于进行除了显影处理外的处理的PS板112的插入口。
在子-插入口250中，安置有刀片252。刀片252的尖端部分与作为子-插入口250的支撑导面的外盖板114接触，并且将其背部通过支架254固定于外盖板114的背面侧。因而，子-插入口250因刀片252处于关闭状态。
干燥单元(未示例)通过向PS板112的两个表面上鼓入热空气来干燥PS板112，同时输送通过大量未显示的辊从整理剂单元126送来的PS板112。
将一对输送辊132安置在PS板112至显影单元122的显影槽118的插入侧上。其这样构造以便将从插入口202来的PS板112插入在一对输送辊132之间。
在输送辊132下游的附近，附加了由橡胶制成的刀片206。刀片206的尖端部分与显影单元122的显影槽118的侧壁接触，并且将其背部通过支架256附着于外盖板114。支架256包括固定部分256A和用翼形螺母258附着于固定部分256A的滑动部分256B，并且刀片206固定于滑动部分256B上。允许这样的结构，以便通过松动翼形螺母258并且相对于固定部分256A滑动滑动部分256B，刀片206的尖端部分可以离开显影槽118的侧壁。
此外，在插入口202的附近，安装了可以确定PS板112存在与否和输送版的版面积等的版检测传感器208。
显影槽118为山的普通反转形态，其中打开其项部并且其底部的中间部分向下突出。在显影槽118中，安置泵260，以便由泵260抽吸在显影槽118中的显影剂，并且从由稍后描述的喷淋管144和272喷出。这允许贮存在显影槽118内的显影剂循环。在循环期间，流动的显影剂经过用于测量显影剂电导率的电导率传感器262。此外，通过未稀释的补充剂供给泵264将未稀释的补充剂从未稀释的补充剂贮槽266向显影槽118供给。如稍后将进一步详细描述，这样构造以便通过泵286将稀释水从清洗水槽128向显影槽118供给。
通过控制器50来控制泵264和泵286，该控制器50包含为条件贮存装置的控制ROM51a或控制RAM51b，和基于来自电导率传感器262和时间测量装置52的信号的时间测量单元52。顺便提及，对于余下的，由于控制器50的作用和效果与第一实施方案中的相同，将省略其解释。
在显影槽118中，在上游侧安置导向板268，并且在下游侧安置大量的导辊134和旋转刷辊270。在显影槽118的一对侧壁上旋转这些导辊134和旋转刷辊270。
在导向板268之上安置具有相对大直径的导辊136，并且将旋转刷辊138、270和导辊140分别安置于导辊134之上。此外，在显影槽118的中心位置，安置一对挤压辊142，其具有挤压PS板表面的作用。
在显影槽118的最下游侧安置溢流管120，以便当显影剂的液面超过预定水平时，将显影剂引导进入废液槽284并且因此处置。
在显影槽118内的显影剂表面上安置液面盖150。液面盖150具有通常为弧形突出的部分，其对应于邻近那里的旋转刷辊138和导辊140，并且其与显影剂表面密切接触，以使显影剂的表面与空气的接触最小化。将其两端沿着在PS板112的输送方向以可滑动的结构附着于未显示的侧壁，以便随着显影剂的量的变化而垂直移动。
沿着输送方向的液面盖150的下端与刀片274的尖端接触。将刀片274通过支架276固定于外盖板114。用刀片274，在输送方向的液面盖150的下端处暴露的显影剂的液面与液面盖150的上面分隔开。由此，与在插入口202的附近的刀片206(与显影槽118的侧壁处于接触状态)一起，液面盖150的上面空间与外面的空气完全隔离。这可以抑制显影剂的蒸发。
沿着显影槽118输送方向的最下游侧，安置一对辊154，其将PS板112保持和输送，并且从PS板112的表面挤压显影剂。
另一方面，在自动显影装置100中，在显影单元122的下游侧安置水清洗单元124的清洗水槽128。在清洗水槽128的上面，安置两对输送辊152和153。
清洗水槽128贮存用来清洗和除去从显影槽118送来的PS板112中的显影剂的清洗水。在输送辊153的上游侧并且在输送路径的上面，安置喷淋管156。在喷淋管156的外表面，形成多个与其里面相通的排放孔。由泵280从清洗水槽278抽取的清洗水从输送辊153的上侧辊上的喷淋管156滴漏。此旋转输送辊153，其允许清洗水迅速地散布在PS板112的表面上。作为结果，用清洗水清洗PS板的表面。
每个输送辊152和153的下侧辊的下面部分被放在一个底盘162中。清洗水贮存于底盘162中并且由下侧辊所抽取，以清洗PS板112的背面，并且防止上侧的输送辊152和153干燥。
此外，构造如下。在沿着其宽度方向的PS板112的表面上分散的清洗水从沿着PS板112宽度方面的两个对边落入在下面的底盘162中，并且用从底盘162抽取的清洗水清洗PS板112的背面。将从底盘162溢流的清洗水引导进入清洗水槽128。在清洗水槽128中，安置有溢流管282，以便当清洗水的上表面超过预定液位时，将清洗水排放入废液槽284中。
此外，清洗水槽128和显影槽118通过泵286相通，以便通过驱动泵286将在清洗水槽128中的清洗水引导入显影槽118中，并且成为可以用作用于向显影槽118供给未稀释的补充剂的稀释液。
在整理剂单元126的树胶液槽130的上面，提供一对输送辊178。这样构造，以便将由输送辊153送来的PS板112引导至输送辊178。
此外，输送辊178的上游，在输送路径的垂直方向安置喷淋管182和288。从喷淋管182和288排放由泵292从树胶液槽290抽取的树胶液并且供应给PS板112的正面和背面。
这样构造，以便输送辊178保持并且输送PS板112，并且挤压由喷淋管182供给的树胶液，以对PS板112的表面进行脱敏化处理。将自PS板112的表面挤压的树胶液回收入树胶液槽130。由泵294允许在树胶液槽130中的树胶液循环。此外，树胶液槽130配备有溢流管296。这允许当树胶液的上表面超过预定的液面时，将树胶液引导至废液槽284并且由此处置。
将下面输送辊178的下部浸渍在贮存于树胶液槽130中的树胶液中。对于PS板112的背面，由下侧输送辊178从树胶液槽130中汲取树胶液，由此在其上进行涂布处理。这允许下面的结构。输送辊178提高树胶液，并且在PS板112的背面进行脱敏化处理。此外，抑制了上面的输送辊178干燥，以便防止在输送辊178的表面上沉积处理液的组分。
经过在整理剂单元126处理的PS板112经过外壳200的排放口204，并且被送至干燥部分(未示出)。
这里，在排放口204处提供作为隔板的盖体210。盖体210固定于转轴212上。由未显示的驱动装置(如电磁线圈)使转轴212旋转。
基于由在插入口202附近安置的印刷版检测传感器208对PS板112的检测，转轴212旋转。即，在通过印刷版检测传感器208检测PS板112期间，和传感器208中止检测PS板112(当传感器208检测后端时立即开始)时立即直到经过预定时间的期间，将盖体210基本上保持水平状态(排放口204处于打开的状态)，但在除此期间外将其保持垂直状态(排放口204处于关闭的状态)。
以下，将描述此实施方案的作用。首先，包括外盖板114、主箱108等的外壳200将处理槽如显影槽118、清洗水槽128和树胶液槽130盖住。此外，在未由自动显影装置100对PS板112进行显影处理的状态下，由于刀片206与显影槽118的侧壁接触而将插入口202关闭。另一方面，对于排放口204，印刷版检测传感器208未检测到PS板112，因此盖体210保持垂直姿势。作为结果，也将排放口204关闭。此外，子-插入口250也被刀片252关闭，并且显影单元122的液面盖150之上的空间也被刀片206和274关闭。因而，在显影槽118之内的显影剂、在清洗水单元124之内的清洗水和在整理剂单元126之内的树胶液不会暴露于外面的空气中，因此几乎没有经受CO2的疲劳。作为结果，可以抑制随着时间的恶化所导致的显影能力的降低。因此，例如，可以急剧地减少显影单元122中的待供给的未稀释补充剂的补充量。特别是，由于显影槽118中的显影剂表面被液面盖150盖住，由此防止显影剂与外界空气接触的效果是很大的。
顺便提及，为了使显影剂与外界空气的接触最小化，更理想地是使盖体210开启的时间最小化。因而，优选这样构造盖体210，以只有当PS板112经过时才打开，而在其它时间不打开。
此外，通过控制器50的控制与在第一个实施方案中描述的图2的显影剂补充剂补充方法的流程图的内容相同，在此省略对它的描述。
具体实施例方式
实施例接着，对于分别采用在前面所述实施方案中的显影剂补充剂的供给方法和常规的显影剂补充剂的供给方法的情况，由实验确定每种显影剂敏感度的波动范围。以下，将描述用于实施例1至10和比较例1至10的显影剂A、B、C、D和E，补充剂A、B、C、D和E，和光敏材料A、B、C、D、E、F、G、H、I、J和K的制备方法。
将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂DP-7以1/9的比率稀释，并且使用它。
以每升水溶液0.01g的比例加入下面的化合物，该水溶液含有5.0％的包含通过合并非还原糖与碱而制备的D-山梨糖醇/氧化钾K2O的钾盐，0.015％的OLFIN AK-02(由NISSIN CHEMICAL INDUSTRY，Co.，Ltd.制备)，和0.010％的表面活性剂D-1105(由TAKEMOTO OIL & FAT Co.，Ltd.制备)，由此以等于显影槽体积的量制备溶液 [显影剂C]将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂DP-4以1/8的比率稀释，并且使用。
将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂LP-D以1/10的比率稀释，并且使用。
用下面的配方进行制备。
氢氧化钾0.15g，聚氧乙烯苯基醚(n＝13)5.0g，Chelest 400(螯合剂)0.1g，水94.75g[补充剂A]使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影补充剂DP-7RW。
用下面的配方进行制备。以每升水溶液0.01g的比例加入下面的化合物，该水溶液含有6.0％的包含通过合并非还原糖与碱而制备的D-山梨糖醇/氧化钾K2O的钾盐和0.015％的OLFIN AK-02(由NISSIN CHEMICALINDUSTRY，Co.，Ltd.制备)，由此以等于显影槽体积的量制备溶液 [补充剂C]使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂补充剂DP-4R。
使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂补充剂LP-DR。
用下面的配方进行制备。
氢氧化钾6.0g，Newcol B13 23.0g，Chelest 400(螯合剂)1.0g和纯净水70.0g接着，对于用于实施例3至10和比较例1至9的光敏版A至J，将描述其制备方法，显影预处理及其曝光条件。
基于JP-A-2000-231188的实施例1进行制备。将得到的光敏版用由美国NuArc Co.，Inc.制造的印刷机FT26V2UPNS(光源2kW金属卤化物灯)进行图像曝光1分钟。使用其上由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(相应阶梯间的密度差为0.15)在前面所述的条件下被曝光的光敏版，进行显影剂的敏感度的评估。
基于JP-A-7-295212的实施例1进行制备。将得到的光敏版使用由美国NuArc Co.，Inc.制造的印刷机FT26V2UPNS(光源2kW金属卤化物灯)进行50-次(count)图像曝光。使用其上由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(相应阶梯间的密度差为0.15)在前面所述的条件下被曝光的光敏版，进行显影剂的敏感度的评估。
(合成实施例1)将25.6g作为结构单元(1)的化合物(a)，26.4g作为结构单元(2)的化合物(b)，作为结构单元(3)的20.4g甲基丙烯酸月桂基酯和160g二甲基乙酰胺装入500-ml的三颈烧瓶中，并且在氮气气流下，在搅拌下保持烧瓶于65℃。向其中以2.30g的量加入2，2′-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)，并且继续搅拌。4小时后，将混合物温度升高至75℃并且保持1小时。反应完成后，将反应溶液冷却至室温，并且倾倒入400ml的水中。将沉淀的固体过滤出来并且干燥。由此得到含氟代脂肪基的化合物P-2，其产量为68.4g。通过GPC发现此固体是一种重均分子量为30000的高分子量化合物。
合成实施例1的化合物(a) 合成实施例1的化合物(b) (合成实施例2)除改变合成实施例1的结构单元(1)、(2)和(3)外，以与合成实施例1相同的方法，得到一种含氟代脂肪基的化合物P-15(重均分子量25000)。使用厚度为0.24mm和宽度为1,030mm的JIS A1050铝板连续进行下面的处理。
(a)向铝板的表面供应比重为1.12的在水中的研磨剂(浮石)的悬浮液作为研磨浆液，同时通过旋转辊状的尼龙刷进行机械粗糙化处理。研磨剂的平均颗粒尺寸为40至45μm，最大颗粒直径为200μm。尼龙刷的材料为6.10尼龙。其刷毛长度为50mm且刷毛直径为0.3mm。在尼龙刷中，将刷毛稠密地插入在直径φ为300mm的不锈钢管上所钻的孔中。使用三个转刷。在刷子下部的两个支持辊(直径φ200mm)之间的距离为300mm。挤压刷辊，直至与挤压刷辊至铝板前的负载相比，旋转刷子的驱动马达的负载增加7kW。刷子的旋转方向和铝板的输送方向相同。其旋转次数为200rpm。
(b)通过下面的方法将铝板进行蚀刻处理在70℃下，喷淋氢氧化钠浓度为2.6质量％且铝离子浓度为6.5质量％的溶液。作为结果，以13g/m2的量溶解铝板。然后，通过喷淋进行水洗。
(c)通过下面的方法进行去污点处理喷淋30℃的硝酸浓度为1质量％的水溶液(含有0.5质量％的铝离子)，然后，通过喷淋进行水洗。对于用于去污点处理的硝酸水溶液，使用的是使用交流电在硝酸水溶液中进行电化学表面粗糙化步骤中的废液。
(d)使用60Hz AC电压连续进行电化学表面粗糙化处理。此步骤的电解液是一种1质量％的硝酸水溶液(含有0.5质量％的铝离子和0.007质量％的铵离子)，并且其温度为50℃。对于a.c.电源波，使用梯形方波形的交流电，其电流值从零达到峰值所需的时间TP为2毫秒和负载比为1∶1。因此，使用碳电极为对电极进行电化学表面粗糙化处理。所用的辅助阳极是铁氧体。在此步骤使用双电解槽。以电流峰值表示的电流密度为30A/dm2，并且在将铝板用作阳极时以电量的总和表示的电量为180C/dm2。5％从电源流过来的电流被分流至辅助阳极。然后，通过喷淋进行水洗。
(e)通过下面的方法对铝板进行蚀刻处理喷淋70℃的氢氧化钠浓度为26质量％和铝离子浓度为6.5质量％的溶液。作为结果，以1.3g/m2的量溶解铝板，清除通过使用前一阶段的交流电进行电化学表面粗糙处理而产生的主要包含氢氧化铝的污点成分，并且溶解所产生的凹陷的边缘部分以使其边缘部分光滑。然后，通过喷淋进行水洗。
(f)用60℃的硫酸浓度为25质量％的水溶液(含有0.5质量％的铝离子)进行通过喷淋的去污点处理，然后，通过喷淋进行水洗。
(g)通过使用两级能量供应电解处理工艺的阳极氧化设备(第一和第二电解单元长度各6m，第一能量供应单元长度3m，第二能量供应单元长度3m，和第一和第二能量供应电极长度各2.4m)，在电解单元的硫酸浓度为100g/L(含0.5质量％的铝离子)、温度为50℃、比重为1.1和电导率为0.39S/cm下，进行阳极氧化处理。然后，通过喷淋进行水洗。最终的氧化膜量为2.4g/m2。
(h)将进行过表面粗糙化和阳极氧化处理的铝板浸渍于20℃的0.1质量％的硅酸钠水溶液中10秒种，然后通过喷淋用水清洗并且干燥。在每种处理和水洗之后，用轧辊进行排水。
通过绕线棒刮涂器，用下面的稀释的溶胶-凝胶反应溶液涂布铝板的背面，并且于100℃干燥1分钟，由此提供背涂层干燥后的涂布量为60mg/m2。
溶胶-凝胶反应溶液硅酸四乙酯50.0质量份，水86.4质量份，甲醇10.8质量份和磷酸(85％)0.08质量份将上面所述的组分通过搅拌混合，并且在约35分钟内产生热量。通过搅拌混合物反应40分钟，然后，将反应混合物进一步与下面的稀释液混合，以制备背涂层涂布溶液。
稀释溶液连苯三酚-丙酮缩合树脂15.0质量份，马来酸二丁酯5.0质量份，甲醇二氧化硅溶胶(由NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES，Ltd制备)70.0质量份，Megafac F-177(由Dai-Nippon Ink&Chemicals Inc.制备)0.1质量份，甲醇650质量份和1-甲氧基-2-丙醇200质量份。
接着，通过绕线棒刮涂器，向在其上提供背涂层的铝板的表面上涂布有机中间层涂布溶液，并且于100℃干燥10秒钟，由此提供干燥后的涂布量为7mg/m2的有机中间层。
有机中间层涂布溶液的组合物0.15质量份的化合物A(数均分子量2100)，0.02质量份的水杨酸，100.0质量份的甲醇和1.0重量份的水化合物A
数值以摩尔％表示接着，向在其上提供有机中间层的铝板的表面(有机中间层)上，通过绕线棒刮涂器涂布下面的光敏溶液，并且于100℃干燥60秒钟。干燥后的涂布量为1.15g/m2。
光敏溶液10.8质量份的1，2-重氮萘醌-5-磺酰氯和连苯三酚-丙酮树脂的酯化产品(在美国专利3,635,709实施例1中所述的一种)，1.2质量份的甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间与对的比率6∶4，重均分子量8000，数均分子量2700，残留的甲酚0.8％)，0.5质量份的苯酚-甲醛酚醛清漆树脂(重均分子量10000，数均分子量1400，残留的苯酚0.8％)，0.5质量份除线型酚醛清漆外的其它树脂(下面的结构式，重均分子量50000)，0.1质量份的萘醌-1，2-二叠氮基-4-磺酰氯，0.2质量份的四羟基邻苯二甲酸酐，0.1质量份的4-[对-N-(对-羟基苯甲酰基)氨基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-S-三嗪，0.1质量份的维多利亚蓝BOH(由HODOGAYA CHEMICAL Co.，Ltd制备的一种染料，其中将相反阴离子改变为萘磺酸)，0.04质量份的下式(I)的染料，30.0质量份的甲基乙基酮，15.0质量份的1-甲氧基-2-丙醇，0.05质量份的含氟高分子量化合物(i)(化学式7)，0.05质量份的含氟高分子化合物(ii)(化学式7)和0.01质量份的含氟高分子量化合物(iii)(化学式7)除线型酚醛清漆外的树脂 注)Mw50000；且数值以摩尔％表示染料(I)
含氟高分子量化合物P-5 Mw40000，数值以摩尔％表示C-4
在由此提供的光敏层表面上，以下面的方式喷淋形成无光泽层的树脂溶液，以形成无光泽层。对于无光泽层形成树脂，制备了12％的甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/丙烯酸(加料质量比率65∶20∶15)共聚物的水溶液，其部分地转变为钠盐(在一些情况下，转变为钾盐或铵盐)。通过旋转的喷雾静电涂布机涂布该溶液。喷雾头的旋转次数为15,000rpm，树脂溶液的进料速率为65ml/分钟，喷雾头的外加电压为-75kV和涂布时的环境温度为25℃且相对湿度为50％。涂布1.5秒钟之后，用蒸汽喷淋涂布的表面并且弄湿表面。然后，在弄湿3秒种后，将温度为60℃且湿度为10％的热风向其上鼓入5秒钟以干燥。此无光泽层的涂布量为130mg/m2。
将得到的光敏版使用由美国NuArc Co.，Inc.制造的印刷机FT26V2UPNS(光源2kW金属卤化物灯)进行图像曝光1分钟。使用其上由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(相应阶梯间的密度差为0.15)在前面所述的条件下被曝光的光敏版，进行显影剂的敏感度的评估。
用尼龙刷和400-目的浮石水悬浮液，将0.24mm厚的1S材料的铝板表面进行颗粒化，并且用水很好地清洗。将此于70℃的20％的氢氧化钠水溶液中浸渍60秒钟，并且蚀刻。然后，用流动水清洗铝板，接着用20％的硝酸中和和清洗。然后，使用具有VA＝12.7V和VC＝9.1V的正弦波a.c.波形的电流在阳极电量(period)为170库仑/dm2下，在1％的硝酸水溶液中进行电解表面粗糙化处理。将此铝板于45℃的25％的氢氧化钠水溶液中浸渍15秒钟，并且蚀刻。接着，将其浸渍于55℃的30％的硫酸水溶液中并且进行去污点处理2分钟，然后在7％的硫酸水溶液中进行阳极氧化处理，以便氧化铝的涂布量为1.8g/m2。然后，将铝板在70℃的3％的硅酸钠水溶液中进行浸渍处理1分钟，接着用水清洗和干燥。由此得到其表面进行过亲水化处理的铝板。
通过绕线棒涂布器，用下面的光敏溶液(A)涂布在前面的方法中得到的铝板，并且于80℃干燥30秒钟。得到干燥重量为0.1g/m2的铝板。
光敏溶液(A)1.0g的二苯基甲烷-4，4′-二异氰酸酯/1，6-己二异氰酸酯/2，2-二(羟甲基)丙酸/四甘醇＝50/50/90/10(摩尔比率)的聚氨酯树脂(重均分子量为100000)(以下称作聚氨酯树脂a1)，0.3g的4-重氮基-3-甲氧基二苯胺十二烷基苯磺酸盐/苯氧基乙酸＝5/5(摩尔比率)的共缩聚的重氮树脂(以下称作重氮树脂b1)，0.05g的Megafac F-176(含氟表面活性剂，由Dai-Nippon Ink&Chemicals Inc.制备)，50g的甲基乙基酮和50g的甲醇。
通过涂布棒，用下面的光敏溶液(C)进一步涂布在前面的方法中得到的铝板，并且于100℃干燥1秒钟。包括涂的光敏溶液(A)量的总干燥重量为1.0g/m2。
光敏溶液(C)5.0g的N-[6-(甲基丙烯酰氧基)己基]-2，3-二甲基马来酰亚胺/甲基丙烯酸＝60/40(摩尔)的共聚物，0.3g下面结构式的敏化剂，0.3g的4-重氮基-3-甲氧基二苯胺十二烷基苯磺酯盐/苯氧基乙酸＝5/5(摩尔比率)的共缩聚的重氮树脂(以下称作重氮树脂c1)，0.2g的4-重氮基-3-甲氧基二苯胺的六氟磷酸盐，0.1g的维多利亚蓝BOH(由HODOGAYA CHEMICAL Co.，Ltd制备)，0.1g的Megafac F-177(含氟表面活性剂，由Dai-Nippon Ink&Chemicals Inc.制备)，50g的丙二醇单甲醚，50g的甲基乙基酮和20g的甲醇 将得到的光敏版使用由美国NuArc Co.，Inc.制造的印刷机FT26V2UPNS(光源2kW金属卤化物灯)进行200-次图像曝光。使用其上由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(相应阶梯间的密度差为0.15)在前面所述的条件下被曝光的光敏版，进行显影剂的敏感度的评估。
基于JP-A-11-119419的实施例1进行制备。通过印刷版给定装置(platesetter)Luxcel Platesetter 9000CTP(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备)(输出能量216kW，旋转次数1000rpm，分辨率2438dpi，图像面积比率约20％)，将得到的光敏版进行图像曝光。使用Luxcel Platesetter 9000CTP的原始图案，以13.5mW(6.75mJ/cm2)的增量将曝光量从27mW(13.5mJ/cm2)改变至270mW(135mJ/cm2)对光敏板进行曝光，来评估显影剂的敏感度。即，用以印刷版表面能的最大值的5％的增量从10％变化至100％的曝光量，进行阶梯式曝光。这表明在邻近曝光区域之间的印刷版表面能的差别为5至50％。
基于JP-A-2000-284474的实施例1进行制备。
[载体的制备]将含有99.5％或更高的铝，0.30％的铁，0.10％的硅，0.02％的钛和0.013％的铜的JIS A1050合金的熔融金属进行净化处理并且铸造。在净化处理中，为了除去在熔融金属中的不必要的气体如氢气而进行脱气处理，并且进行陶瓷管过滤处理。通过DC铸造方法进行铸造。将板厚度为500mm的固化的铸造块体机械加工至距表面100mm的深度，然后于550℃进行匀化处理10小时，以防止金属间化合物的尺寸增加过大。然后，于400℃将块体进行热轧处理，并且在一个连续的退火炉中于500℃进行中间褪火60秒钟，接着冷轧。这导致得到板厚度为0.30mm的铝轧板。通过控制压延轧辊的表面粗糙度，将在中心线平均高度Ra控制至0.2μm。然后，为了提高其平直度，在张力平整机中进一步处理铝板。
接着，进行用于实施平版印刷版的表面处理。首先，为了除去在铝板表面上的轧辊油，于50℃用10％的铝酸钠水溶液进行脱脂处理30秒钟。然后，于50℃用30％的硫酸水溶液进行中和和去污点处理30秒钟。
然后，为了使载体与光敏层之间实现良好粘附并且赋予非图像区域保水性，进行粗糙化载体表面的所谓的粒化处理。将含有1％的硝酸和0.5％的硝酸铝的水溶液保持于45℃。同时在该水溶液中漂动铝板，通过下面的方法进行电解粒化处理通过间接馈送电池，用电流密度为20A/dm2且负载比率为1∶1的a.c.波形在阳极侧施加240C/dm2的电量。然后，于50℃用10％的铝酸钠水溶液进行蚀刻处理30秒，并且于50℃用30％的硫酸水溶液进行中和和去污点处理30秒钟。
再有，为了改善耐磨性，耐化学性和保水性，通过阳极氧化在载体上形成氧化膜。使用35℃的20％的硫酸水溶液液作为电解液。在铝板经过电解液的同时，通过间接馈送电池用14A/dm2的直流电进行电解处理。这导致2.5g/m2的阳极氧化膜的形成。然后，为了保证印刷版非图像区域的亲水性，进行硅酸盐处理。用下面的方法进行处理。保持1.5％的3号碳酸钠的水溶液于70℃，并且允许铝板通过该溶液，以便接触时间为15秒钟，并且再用水清洗。沉积的Si量为10mg/m2。以前面所述的方法制备的载体的Ra(中心线平均表面高度)为0.25μm。
接着，通过线棒用下面的底涂层溶液涂布铝载体，并且通过热风干燥器于90℃干燥30秒钟。干燥后的涂布量为10mg/m2。
<底涂层溶液>
0.1g摩尔比率为75∶15的甲基丙烯酸乙酯和2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙烷磺酸钠盐的共聚物/0.1g的2-氨乙基膦酸/50g的甲醇/50g的离子交换水[光敏层]然后，制备下面的光敏层涂布溶液[P]，并且使用线棒向前面已底涂过的铝板上涂布。通过热风干燥器于115℃干燥该板45秒钟，以形成光敏层，由此得到光敏版。干燥后的涂布量为1.2至1.3g/m2。
<光敏层涂布溶液[P]>
0.08g的红外线吸收剂[IR-6]/0.30g的鎓盐[OI-6]/1.00g的六丙烯酸二季戊四醇酯/1.00g摩尔比率为80∶20的甲基丙烯酸烯丙酯和甲基丙烯酸的共聚物(重均分子量120,000)/0.04g的维多利亚纯蓝的萘磺酸盐，0.01g的含氟表面活性剂(MEGAFAC F-176，由Dai-Nippon Ink&Chemicals Inc.制备)/9.0g的甲基乙基酮/10.0g的甲醇/8.0g的1-甲氧基-2-丙醇
通过由Greo Corp.制备的配备有水冷却型40W红外线半导体激光器的Trendsetter 3244VFS，在下面的条件下将得到的光敏版进行图像曝光输出为90W，外鼓转数为210rpm，印刷版表面能为100mJ/cm2，并且分辨率为2,400dpi。
基于JP-A-2000-039724的实施例1进行制备。使用印刷版给定装置Gutenberg(由Heidelberg Co.制造)(扫描曝光角度180度)，在印刷版表面上的光照量为0.2mJ/m2且2,400dpi的条件下，将得到的光敏版进行图像曝光。曝光后，于100℃将光敏版再加热另1分钟。使用光敏材料评估显影剂的敏感度，该光敏材料通过在其固体图像区域的位置粘附的由FujiPhoto Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔膜(相应阶梯间的密度差为0.15)曝光。
基于JP-A-11-352691的实施例15进行制备。
通过使用75mW空气冷却的Ar激光器作为光源的扫描曝光系统，在印刷版表面上用0.2mJ/m2的曝光量，将得到的光敏版进行图像曝光。曝光后，于100℃将该版进一步加热1分钟。使用光敏材料评估显影剂的敏感度，该光敏材料通过与其接触的阶式片(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备)在版表面照度为0.01 32mV/cm2下曝光30秒钟，该曝光对于每级增加以1/1.4的减量减少光量。
[载体](载体阳极氧化的铝载体)用8号尼龙刷和800-目的浮石水悬浮液，将0.30mm厚的1S材料的铝板表面进行粒化处理，并且用水很好地清洗。将此浸渍于70℃的10％的氢氧化钠水溶液中60秒钟，并且蚀刻。然后，用流动水清洗，接着用20％的HNO3中和和清洗，且用水清洗。使用在VA＝12.7V条件下的正弦波a.c.波形电流，在阳极电量为300库仑/dm2下于1％的硝酸水溶液中进行电解表面粗糙化处理。测量其表面粗糙度，并且发现其为0.45μm(按照Ra表示)。然后，将铝板浸渍于30％的H2SO4水溶液中并且于55℃进行去污点处理2分钟。然后，通过将放置在粒化处理过的表面上的阴极，在电流密度为5A/dm2下，于33℃的20％的H2SO4水溶液中将铝板进行阳极氧化处理，得到厚度为2.7g/m2。然后，涂布下面的用于表面处理的底涂液体组合物，以便P量为约0.05g/m2，接着于100℃干燥1分钟。
<底涂液体组合物>
2重量份的苯基膦酸，800重量份的甲醇和50重量份的水[光敏材料]在载体上，涂布下面组成的可光聚合的组合物，以便干燥后的涂布重量为1.5g/m2，接着于100℃干燥1分钟，由此形成光敏层。接着，在光敏层上，涂布3重量％的聚乙烯醇(皂化度98摩尔％，聚合度500)的水溶液，以便干燥后的涂布重量为2.5g/m2，接着于120℃干燥3分钟，由此形成光敏制版的印刷版(光敏材料)。
(光敏涂布溶液(可光聚合的组合物))1.7重量份的含烯式不饱和键的化合物(A)，1.9重量份的线性有机高分子聚合物(B)，0.15重量份的敏化剂(C)，0.30重量份的光引发剂(D)，0.50重量份的添加剂(S)，0.03重量份的含氟表面活性剂(Megafac F-177，由Dai-Nippon Ink&Chemicals Inc.制备的)，0.01重量份的热聚合引发剂(N-亚硝基羟胺铝盐)，0.2重量份的ε型铜酞菁分散体，30.0重量份的甲基乙基酮和30.0重量份的丙二醇单乙醚顺便提及，下面所示为将用于光敏层涂布溶液的含烯式不饱和键的化合物(A)，线性有机高分子量聚合物(B)，敏化剂(C)，光引发剂(D)和添加剂(S)。

通过532-nm和100-mW的FD/YAG激光器(由CSI公司制造的Platejet4)在分辨率4000dpi的条件下，将得到的光敏版进行图像曝光。曝光后，于100℃将该版进一步加热另1分钟。使用光敏材料评估显影剂的敏感度，该光敏材料通过在其固体图像区域位置处粘附的由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔膜(相应阶梯间的密度差0.15)曝光。
使用8号尼龙刷和800-目的浮石水悬浮液，将0.30mm厚的1S材料的铝板表面进行粒化处理，并且用水很好地清洗。将其浸渍于70℃的10％的氢氧化钠水溶液中60秒钟，并且蚀刻。然后，用流动水清洗铝板，接着用20％的硝酸中和和清洗，且用水清洗。使用在VA＝12.7V条件下的正弦波a.c.波形电流，在阳极电量为300库仑/dm2下于1％的硝酸水溶液中进行电解表面粗糙化处理。测量其表面粗糙度，并且发现其为0.45μm(按照Ra表示)。接着，将铝板浸渍于30％的H2SO4水溶液中，并且于55℃进行去污点处理2分钟。然后，通过将放置在粒化的表面上的阴极，在电流密度为5A/dm2下，于33℃的20％的H2SO4溶液中将铝板进行阳极氧化处理，得到的厚度为2.7g/m2。向由此处理过的铝板上，涂布下面组成的高敏感度可光聚合的组合物1，以便干燥后的涂布重量为1.5g/m2，接着于100℃干燥1分钟。作为结果，形成了光敏层。
(可光聚合的组合物1)1.5重量份的含烯式不饱和键的化合物(A1)，2.0重量份的线性有机高分子量聚合物(B1)，0.15重量份的敏化剂(C1)，0.2重量份的光引发剂(D1)，0.02重量份的ε-酞菁(F1)分散体，0.03重量份的含氟非离子表面活性剂Megafac F-177(由Dai-Nippon Ink&Chemicals Inc.制备)，9.0重量份的甲基乙基酮，7.5重量份的丙二醇单甲醚乙酸酯和11.0重量份的甲苯
如表1至6所示，通过使用本发明的补充方法进行连续处理，评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7和8中。


注释方法表示补充方法；CE，比较例；发明，发明方法；电导率-基，电导率-基补充方法；面积-&时间-基，面积-和时间-基补充方法；PM，光敏感材料；De，显影剂；Re，补充剂；和TC，处理条件。


注释TC表示处理条件；ADA，自动显影设备；D Temp，显影温度；D Time，显影时间；DTV，显影槽体积；TS，传送速度；量1，操作期间的时间-基补充量；量2，停止期间的时间-基补充量；量3，处理基的补充量；和TP，处理图案。


注释P表示光敏材料(m2×版数)。


注释PA表示光敏材料A(m2×版数)，和PB表示光敏材料A(m2×版数)。


注释PE表示光敏材料E(m2×版数)；PA，光敏材料A(m2×版数)；PB，光敏材料B(m2×版数)。


注释PE表示光敏材料E(m2×版数)；PC，光敏材料C(m2×版数)；和PD，光敏材料D(m2×版数)。


标准- ○ 敏感度基本上与开始时的显影剂敏感度相同△ 尽管从开始时的显影剂敏感度观察到变化，但既未观察到图像的恶化也未观察到玷污。
× 敏感度的变化超过了可接受的范围，并且不能复制点像的高亮度部分，或玷污发生于非图像区域。

如表1所示，通过使用本发明的补充方法进行连续处理来评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7中。
如表1所示，通过使用为常规方法的电导率-基补充方法进行连续处理，评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7和8中。
如表1所示，通过使用面积-和时间-基补充方法进行连续处理，评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7中。
通过前面所述的评估，可以证实在使用本发明方法的实施例1至10中，显影剂的敏感度落入在可接受的范围内，与比较例1至10相反，其每个实施例的显影剂敏感度超过可接受的范围。
顺便提及，在前面所述的实施方案中，准备了用于计算目标电导率值的两个补充时间间隔阈值和三个算术表达式。这允许根据实际的时间间隔在用于计算目标电导率值的算术表达式之间转换。但是，预先准备的补充时间间隔阈值和算术表达式的数目不局限于前面所述实施方案所采用的数目。也可以想到的是准备比前面所述实施方案更多个数的补充时间间隔阈值和算术表达式，以允许在装置操作期间根据时间等的微小变化而更灵活地响应。
如上所述，本发明提供了下面的光敏平版印刷版的自动显影方法。当由包含含电解质的水溶液的显影剂对大量进行过曝光处理的光敏平版印刷版进行显影时，在预先给定的周期测量显影剂的电导率值。当测量的电导率值低于顺序计算的目标电导率值时，只以给定量用具有比显影剂更高的电导率值的显影剂补充剂补充显影剂。在此方法中，当自显影剂补充剂的前次补充所经过的时间超过预先设置的阈值时，采用第二算术表达式。当消逝时间为该阈值或更低时，采用第一算术表达式。因此，转换和使用多个算术表达式来修正目标电导率值。作为结果，尽管装置结构简单和低成本，也可以修正由于处理频率(处理-基补充量与时间-基补充量的比率)所导致的目标电导率值的变化，并且可以防止下面的事实所引起的目标电导率值的计算错误当自动处理装置停止/操作时相应需要的时间-基补充量相互是不同的事实。因而，可以在高敏感度稳定性下实现自动显影处理。
本申请是基于2003年1月9日提交的日本专利申请JP 2003-003293，在此引入其全部内容作为参考，如同列出其全文一样。
权利要求
1.一种对光敏平版印刷版用自动显影装置补充显影剂的方法，该方法包含用含有电解质的显影剂对多个经过图像曝光的光敏平版印刷版进行显影，同时测量显影剂的电导率值；并且根据测量的显影剂电导率值保持显影剂活性不变，其中该方法包含预先存储具有显影剂活性在适宜范围内的显影剂的电导率值作为目标电导率值；根据不同的老化耗尽条件设置的多个目标电导率算术表达式；及用于确定目标电导率算术表达式的补充时间间隔的阈值；在预定的周期测量显影剂的电导率值；当测量的显影剂电导率值低于目标电导率值时，用预定量的显影剂补充剂补充显影剂；和测量前次显影剂补充剂补充和当前显影剂补充剂补充之间的补充时间间隔；基于测量的补充时间间隔和补充时间间隔的阈值，选择目标电导率算术表达式中的一个；基于选择的目标电导率算术表达式和测量的补充时间间隔，更新目标电导率值。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述的电导率值是用配备有温度传感器和温度补偿电路的测量装置测量的。
3.根据权利要求1所述的方法，其中将在自动显影剂装置第一次开始处理时的显影剂电导率值存储为具有适宜范围活性的显影剂的目标电导率值。
4.根据权利要求1所述的方法，其中基于测量的时间间隔和补充时间间隔的阈值的相对值，选择目标电导率算术表达式中一个。
5.根据权利要求1所述的方法，其中预先存储第一补充时间间隔阈值Ts1和第二补充时间间隔阈值Ts2，并且当从前次补充测得的补充时间间隔T小于第一补充时间间隔阈值Ts1时，通过由下面的等式(1)表示的第一算术表达式来计算和更新新的目标电导率值dn＝C1×do+C2×T+C3 …(1)do补充前的目标电导率值，dn新的目标电导率值，T测量的补充时间间隔，C1、C2和C3预先由实验确定的常数。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，当从前次补充测得的补充时间间隔T大于第一补充时间间隔阈值Ts1且小于第二补充时间间隔阈值Ts2时，通过由下面的等式(2)表示的第二算术表达式来计算和更新新的目标电导率值dn＝C4×do+C5×T+C6 …(2)do补充前的目标电导率值，dn新的目标电导率值，T测量的补充时间间隔，C4、C5和C6预先由实验确定的常数。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，当从前次补充测得的补充时间间隔T大于第一补充时间间隔阈值Ts1和第二补充时间间隔阈值Ts2时，通过由下面的等式(3)表示的第三算术表达式来计算和更新新的目标电导率值dn＝C7×do+C8 …(3)do补充前的目标电导率值，dn新的目标电导率值，C7和C8预先由实验确定的常数。
全文摘要
在电导率－基补充系统中，本发明提供一种光敏平版印刷版用自动处理装置的显影剂补充方法，其可以使在显影剂敏感度对于显影处理条件的变化方面的波动最小化，同时以简单和低成本的结构实现自动显影装置的显影单元，其中，在预先给定的周期测量显影剂的电导率值，当测量的显影剂的电导率值低于目标电导率值时，用预定量的显影剂补充剂补充显影剂，测量前次显影剂补充剂供给和当前显影剂补充剂供给之间的时间间隔，基于测量的补充时间间隔和补充时间间隔的阈值，选择目标电导率算术表达式，并且使用选择的目标电导率算术表达式和测量的补充时间间隔来更新目标电导率值。
文档编号G03D3/06GK1517801SQ20041000200
公开日2004年8月4日 申请日期2004年1月9日 优先权日2003年1月9日
发明者笹山洋行, 山洋行 申请人:富士胶片株式会社